公开(公告)号：CN111378279A

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201911360991.3

申请日：2019-12-24

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 增井建太朗 ,  宫本皓史 ,  望月胜纪 ,  杉山纮子 ,  池内淳一 ,  片宝蓝

IPC: C08L79/08 ,  C08J5/18 ,  C08G73/14 ,  G09F9/30

Abstract: 本发明的课题在于提供不仅维持屈服点应变、而且显示出优异的弹性模量的光学膜。本发明的解决手段为下述光学膜，其包含聚酰胺酰亚胺树脂，所述聚酰胺酰亚胺树脂至少具有式(1)及式(2)表示的结构单元。式(1)及式(2)中，X表示2价有机基团，Y表示4价有机基团，Z表示具有选自由可以具有取代基的碳原子数为1～12的烷基、可以具有取代基的碳原子数为1～12的烷氧基、可以具有取代基的碳原子数为6～12的芳基及可以具有取代基的碳原子数为6～12的芳基氧基组成的组中的至少1个取代基的2价芳香族基团。

公开(公告)号：CN110191910A

公开(公告)日：2019-08-30

申请号：CN201880007377.6

申请日：2018-01-15

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 宫本皓史 ,  増井希望 ,  杉山纮子 ,  望月胜纪 ,  池内淳一

IPC: C08G73/14 ,  G02B1/04

Abstract: 本发明提供用于同时实现高柔软性及高耐弯曲性的光学构件的聚酰胺酰亚胺树脂、尤其是用于图像显示装置的前面板的聚酰胺酰亚胺树脂、及包含该聚酰胺酰亚胺树脂的前面板等光学构件。聚酰胺酰亚胺树脂，其具有下式(1)及下式(2)表示的结构单元。式(1)及式(2)中，X及Z各自独立地表示2价的有机基团，Y表示4价的有机基团，Z的至少一部分为式(3)表示的结构单元，式(3)中，R1～R8各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～6的烷基或碳原子数为6～12的芳基，R1～R8中包含的氢原子各自独立地可以被卤素原子取代，A表示-O-、-S-、-CO-或-NR9-，R9表示可以被卤素原子取代的碳原子数为1～12的烃基，m为1～4的整数，*表示化学键。

公开(公告)号：CN109765641A

公开(公告)日：2019-05-17

申请号：CN201811323393.4

申请日：2018-11-07

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 真锅佳久 ,  望月胜纪

IPC: G02B1/04 ,  C08G73/10

Abstract: 本发明的课题在于提供能同时实现高弹性模量和优异的光学特性的光学膜。本发明的解决手段为一种光学膜，其是包含重均分子量为210,000以上的聚酰胺酰亚胺树脂、和二氧化硅粒子的光学膜，其中，相对于光学膜的质量而言，该二氧化硅粒子的含量为3～70质量％。

公开(公告)号：CN107356989A

公开(公告)日：2017-11-17

申请号：CN201710312249.X

申请日：2017-05-05

Applicant: 住友化学株式会社 ,  财团法人工业技术研究院

Inventor： 望月胜纪 ,  上田和正 ,  岸田明子 ,  李宗铭 ,  吕奇明 ,  林志成 ,  曾永隆

IPC: G02B1/00

CPC classification number: B32B27/283 ,  B32B27/36 ,  C08J2379/08 ,  C08K3/36 ,  C08K5/16 ,  C08K2201/005 ,  C08L79/08 ,  G02B1/00

Abstract: 本发明涉及光学膜、具备该光学膜的柔性设备构件及树脂组合物，所述光学膜含有树脂和通过扫描型电子显微镜的图像解析测定的平均一次粒径为21nm～40nm的二氧化硅微粒，以上述树脂和上述二氧化硅微粒的合计含量为基准，上述二氧化硅微粒的含量为15质量％～80质量％。

公开(公告)号：CN113227222A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980086081.2

申请日：2019-12-24

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 增井建太朗 ,  宫本皓史 ,  望月胜纪 ,  畔见拓志 ,  坂本宏

IPC: C08J5/18 ,  C08G73/14 ,  G02F1/1333 ,  G09F9/00 ,  H01L27/32

Abstract: 本发明提供具有高的弹性模量及表面硬度的光学膜。光学膜包含具有式(1)表示的结构单元及式(2)表示的结构单元的聚酰胺酰亚胺系树脂。式(1)中，R1及R2相互独立地表示碳原子数为1～12的烷基、碳原子数为1～12的烷氧基、碳原子数为6～12的芳基、碳原子数为6～12的芳基氧基、碳原子数为1～12的羰基、碳原子数为1～12的氧基羰基或卤代基，其中，R1及R2中包含的氢原子相互独立地可以被卤素原子、碳原子数为1～4的烷基、碳原子数为1～4的烷氧基、羟基或羧基取代；V表示单键、‑O‑、二苯基亚甲基、碳原子数为1～12的直链状、支链状或脂环式的2价烃基、‑SO2‑、‑S‑、‑CO‑、‑PO‑、‑PO2‑、‑N(R30)‑或者‑Si(R31)2‑，其中，该烃基中包含的氢原子相互独立地可以被卤素原子取代，R30及R31相互独立地表示氢原子、或可以被卤素原子取代的碳原子数为1～12的烷基；m表示0～2的整数，n表示1～4的整数，p表示0～4的整数，q表示0～4的整数。式(2)中，X表示2价有机基团，Y表示4价有机基团。

公开(公告)号：CN113227208A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980085962.2

申请日：2019-12-24

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 增井建太朗 ,  宫本皓史 ,  畔见拓志 ,  坂本宏 ,  望月胜纪

IPC: C08G73/14 ,  C08J5/18 ,  G02F1/1335 ,  G09F9/00 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02

Abstract: 本发明提供具有高弹性模量及低湿度膨胀系数的光学膜。一种包含重均分子量为200,000～1,000,000的聚酰胺酰亚胺系树脂的光学膜，所述聚酰胺酰亚胺系树脂至少具有式(1)表示的结构单元及式(2)表示的结构单元。式(1)中，Ar1表示具有碳原子数为1～12的氟烷基的2价芳香族基团，X表示2价有机基团。式(2)中，X表示2价有机基团，Y表示4价有机基团。

公开(公告)号：CN107849271B

公开(公告)日：2021-04-23

申请号：CN201680041918.8

申请日：2016-07-21

Applicant: 住友化学株式会社 ,  财团法人工业技术研究院

Inventor： 野殿光纪 ,  樱井孝至 ,  望月胜纪 ,  池内淳一 ,  片波岚 ,  李宗铭 ,  吕奇明 ,  林志成

IPC: C08J5/18 ,  B32B27/34 ,  G02B1/04

Abstract: 本发明公开了含有聚酰亚胺系高分子的树脂膜10。树脂膜10的拉伸弹性模量为4.0GPa以上。在重复进行将树脂膜10弯折成U字型直至相对的树脂膜间的距离成为3mm后复原的操作的弯曲试验中，直至树脂膜10断裂为止，弯折树脂膜10的次数超过100000次。

公开(公告)号：CN107356998B

公开(公告)日：2021-04-23

申请号：CN201710311660.5

申请日：2017-05-05

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 中岛秀明 ,  樱井孝至 ,  望月胜纪 ,  片宝蓝

IPC: G02B5/22

Abstract: 本发明涉及用于含有聚酰亚胺系高分子等的柔性设备构件的前面板等的光学膜，在吸湿特性的提高、高的透明性、少的着色和充分的紫外线吸收能力的方面谋求改善。本发明公开了一种光学膜，含有聚酰亚胺系高分子和/或聚酰胺以及紫外线吸收剂。光学膜的光线透射率在380nm为5％以下，在420nm下为80％以上。

公开(公告)号：CN110734544A

公开(公告)日：2020-01-31

申请号：CN201910642672.5

申请日：2019-07-16

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 宫本皓史 ,  增井建太朗 ,  望月胜纪 ,  坂本宏

IPC: C08G73/10 ,  C08G73/14 ,  C08J5/18 ,  C08L79/08 ,  G02B1/04 ,  G09F9/30

Abstract: 本发明的课题在于提供能形成具有优异的耐光性的光学膜的聚酰胺酰亚胺树脂。本发明的解决手段为一种聚酰胺酰亚胺树脂，其包含式(1)及式(2)表示的结构单元。式(1)及式(2)中，X各自独立地表示2价有机基团，Y表示4价有机基团，Z表示2价杂环。

公开(公告)号：CN110475810A

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201880023511.1

申请日：2018-03-23

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 大村沙织 ,  岩崎克彦 ,  望月胜纪

IPC: C08J5/18 ,  H04N5/66

Abstract: 本发明的课题在于提供具有良好的透明性及良好的耐弯曲性的聚酰亚胺系膜。聚酰亚胺系膜，其包含聚酰亚胺系高分子，在小角X射线散射测定中，在波数区域q(nm-1)为0.01＜q＜0.2的范围内具有散射强度的极大峰，并且，将q＝0.03时的散射强度作为初始散射强度(I0)，极大峰的散射强度(Ip)与初始散射强度之比(Ip/I0)为0.8以上且3.8以下。