公开(公告)号：CN101971095B

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN200980109009.3

申请日：2009-02-12

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： G·豪克 ,  C·萨瓦里亚-豪克 ,  U·德瓦斯 ,  H·鲍曼 ,  B·施特勒默尔 ,  C·辛普森

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/075 ,  B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/10 ,  B41C2210/20 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/266 ,  G03F7/0047

Abstract: 用辐射敏感性可成像层制备的负性工作可成像元件，该辐射敏感性可成像层含有表面改性的二氧化硅颗粒例如热解法二氧化硅颗粒和溶胶凝胶二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约1-大约40重量％的量存在，具有大约1-大约500nm的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约0.5-大约15重量％的源自含1-30个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。所述表面改性的二氧化硅颗粒的存在提供改进的耐磨性、降低的粘性和各种其它期望的性能。

公开(公告)号：CN101959686B

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN200980107263.X

申请日：2009-03-03

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： C·辛普森 ,  H·鲍曼 ,  B·施特勒默尔

IPC: B41C1/10 ,  B41M5/36 ,  C08F2/46 ,  C09B69/06 ,  G03F7/029 ,  B41M5/46

CPC classification number: C09B1/51 ,  B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41M5/368 ,  B41M5/465 ,  C08F2/50 ,  C09B5/60 ,  C09B69/06 ,  G03F7/029 ,  Y10T428/24802

Abstract: 辐射敏感组合物和负性工作可成像元件，包括具有四芳基硼酸盐抗衡阴离子的阳离子IR吸收剂和具有四芳基硼酸盐抗衡阴离子的引发剂。这些组分的使用提供高成像敏感性、优良贮藏寿命和长印刷周期。

公开(公告)号：CN101959686A

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200980107263.X

申请日：2009-03-03

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： C·辛普森 ,  H·鲍曼 ,  B·施特勒默尔

IPC: B41C1/10 ,  B41M5/36 ,  C08F2/46 ,  C09B69/06 ,  G03F7/029 ,  B41M5/46

CPC classification number: C09B1/51 ,  B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41M5/368 ,  B41M5/465 ,  C08F2/50 ,  C09B5/60 ,  C09B69/06 ,  G03F7/029 ,  Y10T428/24802

Abstract: 辐射敏感组合物和负性工作可成像元件，包括具有四芳基硼酸盐抗衡阴离子的阳离子IR吸收剂和具有四芳基硼酸盐抗衡阴离子的引发剂。这些组分的使用提供高成像敏感性、优良贮藏寿命和长印刷周期。

公开(公告)号：CN101784961A

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN200880104054.5

申请日：2008-08-21

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： B·施特雷梅尔 ,  C·辛普森 ,  O·皮斯特特 ,  H·鲍曼

IPC: G03F7/32

CPC classification number: G03F7/322

Abstract: 描述了一种生产成像的平版印刷版的方法，其中显影剂含有亲水聚合物，该亲水聚合物包含(m1)伯，仲和/或叔氨基，以及(m2)选自-COOH、-SO3H、-PO2H2和-PO3H2的酸性基团，以及(m3)任选的环氧烷烃单元-(CHR1-CH2-O)P-，其中R1独立地表示H或-CH3，p表示1-50的整数。

公开(公告)号：CN101517493A

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200780034707.2

申请日：2007-09-18

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： C·辛普森 ,  B·施特雷梅尔 ,  H·鲍曼 ,  U·菲巴格 ,  M·亚雷克

IPC: G03F7/32

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  G03F7/322

Abstract: 描述了一种制备成像的平版印刷版的方法，其中的显影剂包含的亲水聚合物含有：(m1)衍生自至少一种含聚氧亚烷基链和可自由基聚合的基团两者的化合物的结构单元，以及(m2)衍生自至少一种可与(i)的可自由基聚合的基团进行共聚的化合物并包含至少一个pKs＜5的官能团的结构单元。

公开(公告)号：CN101467104A

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200780022075.8

申请日：2007-06-05

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： H·鲍曼 ,  C·辛普森 ,  U·菲巴格 ,  B·施特雷梅尔

IPC: G03F7/32 ,  B41N3/08

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  G03F7/09 ,  G03F7/322

Abstract: 描述了由包含可自由基聚合涂层和不透氧罩面层的前体制造成像的平版印刷版的方法，其特征在于罩面层的去除、显影和涂胶在单一步骤中进行。