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公开(公告)号：CN112034626A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN202010863942.8
申请日：2020-08-25
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种高通量3D暗斑生成装置，并行光束阵列通过横向高通量暗斑阵列的器件后，每束光被调制为涡旋相位光，聚焦后形成横向暗斑；并行光束阵列聚焦后形成横向暗斑阵列；并行光束阵列通过纵向高通量暗斑阵列的器件后，每束光都被调制为0-π相位分布，每束光聚焦后形成纵向暗斑；并行光束阵列聚焦后形成纵向暗斑阵列；将两种光束进行合束，聚焦后两种光斑进行非相干叠加，形成高通量3D暗斑阵列。本发明可提供稳定的高质量高通量3D暗斑阵列；且器件成本低，体积小，可以实现系统的高度集成；可用于实现并行双光束激光直写和并行受激发射损耗显微成像，极大的提升加工和成像速度。
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公开(公告)号：CN110568731B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201910853722.4
申请日：2019-09-10
Abstract: 本发明公开了一种超衍射极限焦斑阵列生成装置。该装置使激发光束或交联光束经过相位调制，从而在样品面产生实心焦斑阵列；使淬灭光束或去交联光束经过相位调制，从而在样品面产生空心焦斑阵列，并使这两个焦斑阵列对准，最终在样品面上产生超衍射极限的焦斑阵列。上述过程由于是通过相位调制的方式产生焦斑阵列，所以生成的焦斑数量可以为任意多个，从而实现高通量的超分辨成像与激光直写，与已有的方法相比，本发明所公开的系统可以进行高速并行超分辨成像与激光直写。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110568731A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910853722.4
申请日：2019-09-10
Abstract: 本发明公开了一种超衍射极限焦斑阵列生成装置。该装置使激发光束或交联光束经过相位调制，从而在样品面产生实心焦斑阵列；使淬灭光束或去交联光束经过相位调制，从而在样品面产生空心焦斑阵列，并使这两个焦斑阵列对准，最终在样品面上产生超衍射极限的焦斑阵列。上述过程由于是通过相位调制的方式产生焦斑阵列，所以生成的焦斑数量可以为任意多个，从而实现高通量的超分辨成像与激光直写，与已有的方法相比，本发明所公开的系统可以进行高速并行超分辨成像与激光直写。
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公开(公告)号：CN110632045B
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN201910855174.9
申请日：2019-09-10
Abstract: 本发明公开了一种产生并行超分辨焦斑的方法，具体为：使用空间光调制器将激光器发出的激发光调制为多焦点的高斯光斑；激光器发出的耗尽光经过偏振分束器和方向垂直的两个光栅分成四束耗尽光，并在物镜后焦面干涉生成多焦点的空心光斑；多焦点空心耗尽光抑制多焦点高斯激发光外圈激发的荧光分子发出荧光，从而并行地获得远小于衍射极限的有效荧光信号进行显微成像和激光直写光刻。本发明还公开一种产生并行超分辨焦斑的装置。本发明能够实现超高速和超高分辨率的受激发射损耗显微成像和激光直写光刻加工。
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公开(公告)号：CN110568650B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201910853082.7
申请日：2019-09-10
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335 , G02B26/10
Abstract: 本发明公开了一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置。由淬灭光束或去交联光束构成第一光束，由激发光束或交联光束构成第二光束；光束合束后依次透过第一光学薄膜、玻璃基板、第二光学薄膜，第一光束经第二光学薄膜、透明电极进入液晶层，经反射层反射，第二次进入液晶层，经液晶层相位调制后，最终从第一光学薄膜出射；第二光束经第二光学薄膜反射后最终经第一光学薄膜出射。上述方法使两束光束合束后再经过同一光调制模块，而仅对淬灭光束或去交联光束相位调制，这大大简化了光学成像和光刻系统的结构，并且由于使共路系统，其稳定性更好，本发明装置可以大大降低成像与光刻系统的搭建成本并且提高了系统的抗干扰能力，光学效率较高。
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公开(公告)号：CN111538164A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN202010654713.5
申请日：2020-07-09
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于数字微镜器件的空心光斑阵列并行调控装置，该装置利用空间光调制器对入射光束进相位调制，形成空心光斑阵列成像到数字微镜器件上，随后经过第四透镜与物镜，最终在样品材料上形成空心光斑阵列。本发明可以通过空间光调制器生成高质量的空心光斑阵列，利用数字微镜器件对阵列中每个单独的空心光斑实现快速地开关，从而控制样品材料处空心光斑阵列图案。本发明利用数字微镜器件的快速调制特点，结合空间光调制器在产生空心光斑阵列质量上的优势，可以为基于受激辐射损耗的高通量光刻技术提供可高速独立调控的空心光斑阵列，推动高速、纳米尺度三维光刻的发展。
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公开(公告)号：CN110568650A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910853082.7
申请日：2019-09-10
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335 , G02B26/10
Abstract: 本发明公开了一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置。由淬灭光束或去交联光束构成第一光束，由激发光束或交联光束构成第二光束；光束合束后依次透过第一光学薄膜、玻璃基板、第二光学薄膜，第一光束经第二光学薄膜、透明电极进入液晶层，经反射层反射，第二次进入液晶层，经液晶层相位调制后，最终从第一光学薄膜出射；第二光束经第二光学薄膜反射后最终经第一光学薄膜出射。上述方法使两束光束合束后再经过同一光调制模块，而仅对淬灭光束或去交联光束相位调制，这大大简化了光学成像和光刻系统的结构，并且由于使共路系统，其稳定性更好，本发明装置可以大大降低成像与光刻系统的搭建成本并且提高了系统的抗干扰能力，光学效率较高。
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