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公开(公告)号：CN107443200A
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：CN201610379395.X
申请日：2016-06-01
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
IPC: B24B13/005
CPC classification number: B24B13/005
Abstract: 本发明涉及一种新型的铣磨用可真空吸附的调节台。从提高铣磨过程中工件定位精度的角度出发，设计了一种真空吸附的调节台，在保证真空吸附力的前提下，实现了对待铣磨元件的角度微调，并能够确保不同口径元件的径向精确定位。该调节台可以方便的在铣磨机上工作，替换掉通用的真空吸附夹具；为工件的铣磨初始位置增加一个可调可控的角度调整自由度，补偿真空吸附过程中(尤其是O型密封圈)的轴向不均匀变形，提高铣磨的定位精度，并进一步保证铣磨精度。该发明能够实现对光学元件的高精度重复定位，有利于探索铣磨工艺参数对铣磨加工过程的影响规律，在平行度、同心度、边厚差等指标有特殊要求的光学元件的铣磨应用中有着巨大优势。
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公开(公告)号：CN114597736B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202011410918.5
申请日：2020-12-03
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及碟片激光器技术领域，特别涉及到一种基于Er的大能量2940纳米脉冲碟片激光器。包括沿着光路依次布设的泵浦源、准直匀化系统、多冲程泵浦腔及谐振腔，其中多冲程泵浦腔内设有碟片晶体、平凹非球面反射镜及多组棱镜组，平凹非球面反射镜为具有中心通孔的环形结构，平凹非球面反射镜用于接收泵浦源发射的泵浦光并且进行聚焦；碟片晶体设置于平凹非球面反射镜的聚焦中心位置，用于泵浦光抽运及产生激光束；多组棱镜组沿周向布设于碟片晶体的周围，用于泵浦光的二次角度转换并且以平行光的形式再次入射至平凹非球面反射镜上。本发明有效降低了晶体的热透镜效应，对于高量子亏损增益介质Er3+掺杂的晶体具有良好的散热效果，可获得更高功率的泵浦。
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公开(公告)号：CN113021158A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201911250029.4
申请日：2019-12-09
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及非球面光学加工设备领域，具体地说是一种用于工业机器人末端的轴向浮动抛光装置，包括抛光工具头、浮动芯轴、固定套筒、压缩弹簧、驱动装置、保护罩和转接法兰，浮动芯轴可移动地设于固定套筒中，固定套筒固设于保护罩上，保护罩内设有驱动装置，浮动芯轴位于固定套筒外的前端设有抛光工具头，浮动芯轴位于固定套筒内的后部套设有弹簧支架、压缩弹簧和弹簧压圈，且压缩弹簧设于弹簧支架和弹簧压圈之间，驱动装置的动力输出端设有通孔，且浮动芯轴后端插装入所述通孔中，保护罩远离固定套筒一侧设有转接法兰。本发明实现了抛光过程的压力和转速可控，并能与通用的工业机器人快速集成。
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公开(公告)号：CN109962400A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201711341763.2
申请日：2017-12-14
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种光束质量转化装置，其装置包括：半导体激光器；碟片激光器；掺镱石英光纤三部分组成。本发明利用光束质量M2＜200的半导体激光器对多冲程碟片激光器进行端面泵浦，获得连续多模、高光光转换效率激光输出，M2＜50。以碟片激光器输出的激光作为二级泵浦源，对掺镱石英光纤进行同带泵浦，获得具有低量子亏损(2％)，高光‑光转化效率，近衍射极限(M2＜2)的激光输出。本发明巧妙的利用了半导体激光器的高效性，碟片激光器的高效散热性和同带泵浦掺镱石英光纤输出的低量子亏损特性，实现了高功率，高光束质量的转化方法。
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公开(公告)号：CN107443200B
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201610379395.X
申请日：2016-06-01
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
IPC: B24B13/005
Abstract: 本发明涉及一种新型的铣磨用可真空吸附的调节台。从提高铣磨过程中工件定位精度的角度出发，设计了一种真空吸附的调节台，在保证真空吸附力的前提下，实现了对待铣磨元件的角度微调，并能够确保不同口径元件的径向精确定位。该调节台可以方便的在铣磨机上工作，替换掉通用的真空吸附夹具；为工件的铣磨初始位置增加一个可调可控的角度调整自由度，补偿真空吸附过程中(尤其是O型密封圈)的轴向不均匀变形，提高铣磨的定位精度，并进一步保证铣磨精度。该发明能够实现对光学元件的高精度重复定位，有利于探索铣磨工艺参数对铣磨加工过程的影响规律，在平行度、同心度、边厚差等指标有特殊要求的光学元件的铣磨应用中有着巨大优势。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118275401A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202211719001.2
申请日：2022-12-30
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于化学刻蚀和荧光标记表征石英元件亚表面损伤的方法。该测定方法包括以下步骤：首先配置氢氟酸水溶液，向氢氟酸溶液中加入一定浓度的荧光探针分子后得到“刻蚀标记溶液”，之后将待测样品置于刻蚀标记溶液中，氢氟酸在暴露被覆盖于表面水解层之下的亚表面损伤的同时，荧光探针也进入到亚表面损伤中，最后通过激光扫描共聚焦显微镜即可对样品亚表面损伤程度及形貌进行表征。本发明的优势在于可将亚表面损伤刻蚀和标记两个步骤有机地结合起来，能够实现对亚表面损伤的快速暴露、标记及检测，并且样品制备简单，测试流程短，测量精度高，可重复性强。
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公开(公告)号：CN107516813B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN201610439040.5
申请日：2016-06-17
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种角锥式多冲程泵浦碟片激光器，包括：泵浦源；准直系统；环状端镜；碟片状晶体；夹角为90度的角锥镜；夹角为45度的棱镜组；中间带孔的凹面非球面反射镜，凹面朝向碟片晶体方向；输出耦合镜，八部分组成。本发明巧妙地利用了角锥棱镜与棱镜组组合，实现了对棱镜组折叠泵浦光的重新排布，设计出一种角锥式多冲程泵浦碟片激光器。该碟片激光器很好的解决了多冲程繁琐复杂的光路结构，通过角锥结构将折叠光路横向或纵向分离，使平凹非球面反射镜上呈现对称分布的双环泵浦光斑轮廓，使碟片激光器减小结构复杂性的同时又可实现晶体对泵浦光的多次吸收，大大提升了抽运光的利用率。
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公开(公告)号：CN116262326A
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202111527151.9
申请日：2021-12-14
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及非球面光学加工设备，具体地说是一种可调恒力轴向浮动研抛装置，机器人转接法兰的一侧与机器人末端相连，另一侧设有滑座，滑座的一侧与机器人转接法兰滑动连接，另一侧安装有伺服电机，伺服电机的输出端连接有小磨头；滑座的一侧设有两个气缸，两个气缸的缸体分别固定在机器人转接法兰上，伸缩杆分别与滑座相连，两个气缸作用于滑座的力相反；机器人转接法兰上安装有多孔板，多孔板上分别固定有分别通过管路与两个气缸A相连的调压阀A、调压阀B；机器人转接法兰上安装有反馈滑座相对于机器人转接法兰滑移位置的位移传感器。本发明浮动压力定量可调，加工效率高，特别适用于确定性抛光研究以及非球面和自由曲面光学元件的研发领域。
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公开(公告)号：CN105729269A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201410754055.1
申请日：2014-12-10
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
IPC: B24B13/00
Abstract: 本发明涉及一种新型的抛光机用调压调速压头。从抛光过程的自转转速和抛光压力两方面考量，设计了一种调压调速压头，实现了抛光过程的压力和转速可调，并对机床振动有一定的缓冲效果。该压头可以方便的利用一个转接头安装在现有抛光机上工作，将不可控的工件自转转化为一个可以自由调节的工艺参数，并能实现对抛光压力的自由调节。该发明有利于摸索光学抛光过程的规律参数，有助于开展确定性抛光工作；并能有效改善抛光去除率函数曲线，对抛光的精度和效率有显著贡献。
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公开(公告)号：CN110658601B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN201810685281.7
申请日：2018-06-28
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
IPC: G02B7/00
Abstract: 本发明属于光学工程技术领域，特别涉及一种光学元件温度适应性夹持机构。包括安装基准板及多个柔性铰链，安装基准板用于放置光学元件，多个柔性铰链沿周向设置于安装基准板上，用于对光学元件进行夹持，光学元件的底部设有与柔性铰链配合的圆锥台座，多个柔性铰链通过夹持圆锥台座实现对光学元件轴向和径向的限位。本发明既增加了夹持系统的温度适应性，又能对夹持力实现更加精准的控制。
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