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公开(公告)号:CN101550600B
公开(公告)日:2011-05-25
申请号:CN200910082049.5
申请日:2009-04-22
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明涉及一种氮化硅低维纳米材料阵列的制备方法,属于材料制备技术领域。所述材料为高纯度、高密度单晶α-氮化硅纳米线阵列。本发明采用热解有机前驱体方法在镀有金属催化剂的基片上合成氮化硅纳米阵列。所述制备方法包括高含氮量聚硅氮烷的低温交联固化,交联固化后的前驱体在高耐磨器具中的高能球磨粉碎,以及经交联固化和粉碎后的前驱体在保护气氛下的高温热解、蒸发和在镀有金属催化剂薄膜的基片上的沉积等步骤。所述方法,蒸发源组成可控且可调,工艺和设备简单、成本低廉,所得纳米阵列产量大、密度高、纯度高、组成和形貌可控,有望用于制备高质量氮化硅纳米光电子器件。本发明也可用于其他材料纳米阵列的制备和纳米光电子器件开发。
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公开(公告)号:CN101892411A
公开(公告)日:2010-11-24
申请号:CN201010247918.8
申请日:2010-08-09
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明涉及一种新型高性能WC基硬质合金材料及其制备方法,属于高技术结构陶瓷及其应用领域。所发明的高性能硬质合金材料以质量分数为20~80%的亚微米/纳米WC粉为基质,以2~20%的高温化学稳定性优异的金属Mo、Ni和稀土为粘结剂,并添加0.1~5.0%的晶粒抑制剂、10~80%的高硬材料金刚石或者立方氮化硼微粉为增硬剂和0.5~15%的SiC纳米结构等为增韧剂,并用快速烧结技术——放电等离子体烧结或者中频感应加热烧结制备而成。烧结体晶粒细小,硬度、强度、韧性高,综合耐磨性能好,特别适合制备重载条件下使用的地质钻探机具,也可制作高性能机加工切削刀具、模具等。
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公开(公告)号:CN101748381A
公开(公告)日:2010-06-23
申请号:CN200910217545.7
申请日:2009-12-31
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: C23C16/27 , C23C16/455
Abstract: 一种高性能掺杂类金刚石膜的制备方法,其特征是该方法首先利用超声波清洗技术去除基体表面污染层;然后利用离子束辅助沉积技术制备梯度过渡层;最后利用离子束沉积+磁控溅射合成多元掺杂DLC膜,在此步骤除了向离子源中通入甲烷、乙炔、苯、乙醇、丙酮等任何一种含碳气体外,还同时通入包括硅烷、硼烷、磷烷、四氟化碳等含非碳元素气体源的任何一种气体,并开启金属溅射源掺杂金属元素。本发明可合成同时掺杂金属元素和非金属元素的多元掺杂DLC膜,充分发挥掺杂金属元素和非金属元素的优势互补,显著改善DLC膜的综合性能。
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公开(公告)号:CN101603207A
公开(公告)日:2009-12-16
申请号:CN200910089460.5
申请日:2009-07-21
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明涉及一种网络状分枝氮化硅单晶纳米结构的制备方法,属于材料制备技术领域。所述材料为高纯度的网络状分枝α-氮化硅纳米结构。本发明采用热解有机前驱体方法在镀有金属催化剂的基片上合成网络状分枝氮化硅单晶纳米结构。含有步骤:(1)高含硅氮含量聚硅氮烷在160-300℃下的低温交联固化;(2)交联固化后的非晶固体在高耐磨器具中高能球磨粉碎;(3)高能球磨后得到的前驱体粉末在保护气氛下的快速高温热解、蒸发和在镀有金属催化剂薄膜的基片上的沉积。所述方法,蒸发源组成可控且可调,工艺和设备简单、成本低廉,所得网络状分枝结构产量大、纯度高,可用作高性能纳米复合材料中的增强增韧剂,同时还可于制作纳电子器件。
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公开(公告)号:CN100387754C
公开(公告)日:2008-05-14
申请号:CN200510112723.1
申请日:2005-10-12
Applicant: 中国地质大学(北京) , 北京实力源科技开发有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种含铬类金刚石薄膜及其制备方法,所述薄膜是在基体表面气相沉积的无氢含铬类金刚石薄膜,具有沿基体表面垂直方向自里向外依次为Cr层、CrNx层、CryCz层、Cr层、CrNx层、CryCz层......交替的致密多层梯度结构,膜厚不小于2μm,它具有高硬度、良好膜/基间结合力和良好的耐磨性能。其制备方法是利用磁控溅射系统进行镀膜,磁控靶为1对非平衡磁控Cr靶和1-4对非平衡磁控C靶,靶电源为20-250kHz的中频交流电源;利用单级脉冲直流电源控制在待镀膜基体上施加脉冲基体负偏压;溅射气体为氩气,该制备方法克服了直流反应磁控溅射法合成类金刚石薄膜存在的靶中毒缺陷。
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公开(公告)号:CN1743503A
公开(公告)日:2006-03-08
申请号:CN200510112723.1
申请日:2005-10-12
Applicant: 中国地质大学(北京) , 北京实力源科技开发有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种含铬类金刚石薄膜及其制备方法,所述薄膜是在基体表面气相沉积的无氢含铬类金刚石薄膜,具有沿基体表面垂直方向自里向外依次为Cr层、CrNx层、CryCz层、Cr层、CrNx层、CryCz层……交替的致密多层梯度结构,膜厚不小于2μm,它具有高硬度、良好膜/基间结合力和良好的耐磨性能。其制备方法是利用磁控溅射系统进行镀膜,磁控靶为1对非平衡磁控Cr靶和1-4对非平衡磁控C靶,靶电源为20-250kHz的中频交流电源;利用单级脉冲直流电源控制在待镀膜基体上施加脉冲基体负偏压;溅射气体为氩气,该制备方法克服了直流反应磁控溅射法合成类金刚石薄膜存在的靶中毒缺陷。
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公开(公告)号:CN1740394A
公开(公告)日:2006-03-01
申请号:CN200510104988.7
申请日:2005-09-26
Applicant: 中国地质大学(北京) , 北京实力源科技开发有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种硬质耐磨薄膜制品,包括基体和薄膜,所述薄膜为至少两层的多层结构的Ti基薄膜或Cr基薄膜,Ti基薄膜为Ti层、TiN层、Ti层、TiN层依次交错构成,Cr基薄膜为Cr层、CrN层、Cr层、CrN层依次交错构成。它是利用磁控溅射方法成膜的,磁控靶为2~5对非平衡磁控Ti或Cr对靶,靶电流为中频电源的恒定电流;在待镀基体上施加脉冲基体负偏压;沉积Ti或Cr附着层和间隔层期间仅通入氩气,沉积TiN或CrN层期间通入氩气和氮气,它具有高硬度、良好膜基间结合力和很少的表面缺陷,可作为高质量耐磨部件保护涂层而广泛用于机械加工行业的刀具和模具、机械制造行业的精密部件、微电子行业和装饰行业等。
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公开(公告)号:CN111948266A
公开(公告)日:2020-11-17
申请号:CN202010833703.8
申请日:2020-08-18
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: G01N27/30 , G01N27/333 , G01N27/48 , C23C16/27
Abstract: 本发明提供了一种自支撑硼掺杂金刚石电化学传感器及制备方法和应用。该自支撑硼掺杂金刚石电化学传感器的制备方法包括如下步骤:1)以纳米金刚石粉为种晶籽料,均匀铺在预处理后的金属基材的表面,机械研磨后得到种晶后的金属基材;2)将所述种晶后的金属基材利用热丝化学气相沉积技术进行镀膜;其中,在金刚石形核阶段,以甲烷为碳源,氢气为刻蚀气体;在金刚石生长阶段,以乙醇为碳源,硼酸三甲酯为硼源;3)脱膜后封装,即得。本发明提供的自支撑硼掺杂金刚石电化学传感器可以满足在线监测系统对传感器提出的精准长效检测要求,有效克服了BDD薄膜传感器工作寿命短的缺点,具有在线监测水体中重金属离子,尤其是Pb2+的应用潜力。
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公开(公告)号:CN108896424A
公开(公告)日:2018-11-27
申请号:CN201810293886.1
申请日:2018-03-30
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明公开了一种采煤机磨损检测方法。所述方法通过分析采煤机实际工况中磨损失效参数,设计模拟采煤机实际工况的磨损检测机构,通过磨损实验验证检测机构有效性,从而揭示采煤机失效机理,提出解决方案;所述方法包括以下步骤:分析采煤机工况,选定易损部件;表征易损部件失效参数;设计检测机构;用检测机构对采煤机易损部件进行磨损检测;利用检测结果,揭示易损部件的失效机理;所述解决方案包括:用有一定强度和耐磨性的钢材作为滑靴基体,在其表面沉积硬质润滑涂层,来改善其综合摩擦学性能;合理选择平滑靴的规格。本发明填补了采煤机磨损检测方法的空白,具有重要的理论和应用价值。
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公开(公告)号:CN108330445A
公开(公告)日:2018-07-27
申请号:CN201810192711.1
申请日:2018-03-09
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明公开了一种冲孔针头表面多弧离子镀掺杂钛的类金刚石膜的方法,属于镀膜工艺技术领域,该方法采用多弧真空离子镀膜机在冲孔针头上镀含合金元素的类金刚石膜,首先对冲孔针头进行打磨,之后超声清洗,然后再放入多弧真空离子镀膜机中进行镀膜,申请人通过对镀膜工艺大量摸索,优化了镀膜的工艺条件,降低了DLC薄膜的内应力并提高其热稳定性,提高材质的高温强度,钢的软化程度减少,在高温镀膜后能在喷丝头冲孔中保持其本征硬度。
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