一种具有横向耗尽区的高电子迁移率晶体管

    公开(公告)号:CN111682067A

    公开(公告)日:2020-09-18

    申请号:CN202010577585.9

    申请日:2020-06-23

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有横向耗尽区的高电子迁移率晶体管,芯片层结构包括由下至上依次设置的衬底、GaN缓冲层、第一电流阻挡层、N-GaN横向耗尽区、第二电流阻挡层、GaN沟道层,AlxGa1-xN势垒层,以及设置在所述N-GaN横向耗尽区右侧和所述GaN沟道层右侧的绝缘层,其中0

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