等离子体处理装置和等离子体处理装置的载置台

    公开(公告)号:CN113903646A

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN202110738099.5

    申请日:2021-06-30

    Inventor: 堂込公宏

    Abstract: 本发明提供能够容易地更换等离子体处理装置的消耗部件的等离子体处理装置和等离子体处理装置的载置台。等离子体处理装置的载置台包括晶片载置面、环载置面、升降销和驱动机构。晶片载置面用于载置晶片。环载置面用于载置第1环和第2环。第2环配置在第1环的外周侧并且配置在与该第1环在上下方向不重叠的位置。环载置面在和第1环与第2环的边界对应的位置具有孔。环载置面设置在晶片载置面的外周侧。升降销具有第1保持部和第2保持部。第2保持部在第1保持部的轴向上与第1保持部相连,第2保持部具有从第1保持部的外周突出的突出部。升降销能够以第1保持部位于环载置面侧的方式被收纳在环载置面的孔内。驱动机构用于可升降地驱动升降销。

    基板输送方法和基板处理装置

    公开(公告)号:CN106340479A

    公开(公告)日:2017-01-18

    申请号:CN201610465321.8

    申请日:2016-06-23

    Abstract: 本发明涉及一种基板输送方法和基板处理装置。提供一种能够提高基板输送的生产率并且能够抑制基板进一步发生偏移的基板输送方法。通过使晶圆的边缘经过被配置在用于向基板处理室输送晶圆的输送路径中的右侧传感器和左侧传感器的上方来在第一晶圆坐标系中获取四个边缘交叉点,基于四个边缘交叉点创建由相邻的两个边缘交叉点构成的基准边缘交叉点的组,并将不构成基准边缘交叉点的组的剩余两个边缘交叉点中的、存在于由根据构成基准边缘交叉点的组的两个边缘交叉点规定的两个圆围成的区域内的边缘交叉点挑选为有效边缘交叉点,将经过基准边缘交叉点和有效边缘交叉点的圆的中心位置获取为晶圆的中心位置。

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