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公开(公告)号：CN112154376B
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN201980031898.X
申请日：2019-06-12
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/673
Abstract: 提供支撑框、在该支撑框上设置有极紫外光光刻用的防护膜的防护膜组件、和支撑框的制造方法、以及使用它们的曝光原版和曝光装置，该支撑框在通气孔上设置有能够容易装卸的过滤器，并能够设置极紫外光光刻用的防护膜。提供的防护膜组件用支撑框，具有第一支撑框部、第二支撑框部和过滤器，所述过滤器具有平板状的框形状，被所述第一支撑框部和所述第二支撑框部夹持，所述第一支撑框部具有：第一主体部，具有平板状的框形状；以及第一卡合部，从所述第一主体部向所述防护膜组件用支撑框的厚度方向突出，所述第二支撑框部具有：第二主体部，具有平板状的框形状；以及第二卡合部，配置在所述第二主体部的沿所述防护膜组件用支撑框的厚度方向设置的凹部，并与所述第一卡合部卡合。
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公开(公告)号：CN112088334A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201980017088.9
申请日：2019-03-01
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供抑制了从粘接层产生释气的防护膜组件。防护膜组件(100)具有：防护膜(101)；支撑上述防护膜的支撑框(103)；设置于上述支撑框的突起部(105)；设置于上述突起部的第1粘接层(107)；以及无机物层，上述无机物层与上述第1粘接层相比设置在上述防护膜所处的一侧。上述无机物层可以包含第1无机物层(109)，上述第1无机物层(109)设置于上述第1粘接层中作为与上述防护膜交叉的方向的侧面的、上述防护膜所处一侧的第1侧面(121)。
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公开(公告)号：CN109313385A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780035395.0
申请日：2017-06-20
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供尘埃等的附着降低了的EUV用防护膜、防护膜组件框体、防护膜组件及其制造方法。本发明提供防护膜组件的制造方法，在基板(200)上形成防护膜(202)，在上述基板的与形成有上述防护膜的面相反侧的面上形成金属的掩模(204)，从上述金属掩模侧除去上述基板的一部分，除去上述金属掩模。根据本发明的一个实施方式，本发明能够提供尘埃等的附着降低了的EUV用防护膜、防护膜组件框体、防护膜组件及其制造方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104582960B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201380043084.0
申请日：2013-09-13
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C08G73/10 , C08J5/18 , C08J2379/08
Abstract: 本发明的课题是提供一种具有光透过性高、面内相位差小、并且能够容易地从支持基材剥离的透明聚酰亚胺层的透明聚酰亚胺叠层体。为了解决上述课题，涉及一种含有支持基材、及叠层于所述支持基材上的透明聚酰亚胺层的透明聚酰亚胺叠层体的制造方法，所述方法包括下述工序：a)将含聚酰亚胺前体的溶液涂布于所述支持基材上的工序，所述含聚酰亚胺前体的溶液含有使四羧酸成分及二胺成分反应而成的聚酰亚胺前体与溶剂；以及b)在所述透明聚酰亚胺层的玻璃化转变温度以上，将包含所述含聚酰亚胺前体的溶液的涂膜的聚酰亚胺前体膜进行加热的工序；所述透明聚酰亚胺层的玻璃化转变温度为260℃以上，全光线透过率为80％以上，雾度为5％以下，L*a*b表色系统中的b值的绝对值为5以下，且面内相位差为10nm以下，从所述支持基材
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公开(公告)号：CN106662806B
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN201580046947.9
申请日：2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：第1框体，该第1框体配置有防护膜；第2框体，该第2框体具有厚部和第2面，并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围，所述厚部包含第1面，所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面，所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面；贯通孔，该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部；以及过滤器，该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面，并覆盖上述贯通孔。
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公开(公告)号：CN107003602A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201680003768.1
申请日：2016-01-22
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 防护膜组件存在如下的问题：在制造过程中由于各种各样的原因而被尘埃等污染，特别是在修整时、对防护膜组件膜进行各种加工时，尘埃等附着的风险高。对此，本发明提供一种使尘埃等的附着减少的EUV用防护膜组件的制造方法。一种防护膜组件的制造方法，其特征在于，在基板上形成防护膜组件膜，修整基板，以及在修整后至少去除基板的一部分。此外，在去除基板的一部分之前，至少去除附着于防护膜组件膜表面的粒子。
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公开(公告)号：CN105189623A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201480019213.7
申请日：2014-04-01
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C09D179/08 , B29C37/0025 , B29C41/02 , B29C41/46 , B29K2079/08 , B29K2995/0018 , B29K2995/0097 , B29L2007/008 , B29L2031/3475 , C08G73/1064 , C08G73/1071 , C08G73/1078 , C08G73/1082 , C08G73/14 , C08J5/18 , C08J2379/08
Abstract: 本发明的课题在于提供一种将厚度方向的相位差Rth控制在所期望的范围、且透明性高的聚酰亚胺膜、及用于获得该聚酰亚胺膜的聚酰胺酸、清漆。为了解决上述课题，制成一种聚酰亚胺膜，其包含使四羧酸二酐及二胺反应而成的聚酰亚胺，(a)厚度方向的相位差Rth每10μm厚度为-5nm以上100nm以下，(b)波长为400nm的光线透射率为80％以上，(c)雾度为3％以下，且(d)玻璃化转变温度为250℃以上。
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公开(公告)号：CN111919171A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201980022551.9
申请日：2019-03-15
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种支撑框，其能够设置能够装卸地设置了过滤器的通气孔，粘贴极端紫外光光刻用的防护膜。本发明的一实施方式的支撑框是用于配置防护膜的支撑框，具备：贯通孔，其具有在与上述防护膜的面方向大致平行的第一方向上延伸的孔以及在与上述第一方向相交的第二方向上延伸的孔；以及过滤器，其设于上述贯通孔的内部或上述贯通孔的端部，并且从上述防护膜离开地配置。
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