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公开(公告)号：CN113878115A
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202111165027.2
申请日：2021-09-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B22F1/16 , C23C16/40 , C23C16/455 , C09D1/04 , C09D7/65 , C09D7/63 , H01L23/552 , B05D1/02 , B05D3/02
Abstract: 本发明公开了一种抗总剂量辐照的电源管理芯片及其制造方法，属于特种功能涂层制备技术领域。本发明解决了现有高Z重金属材料与低Z材料在混合的过程中彼此相对分散的均匀性较差，导致相应的复合材料的屏蔽效果无法达到预期的应用效果的问题。本发明利用原子层沉积技术在高Z重金属材料金属表面沉积低Z金属氧化物薄膜，具有沉积温度低，厚度均匀可控的优点，利用其良好的三维保型性和包裹性性能，可有效改善涂覆膜层与基底间的界面结合强度，并采用超声辅助热喷涂工艺将稀释液喷涂于电源管理芯片表面，有效提高涂层抗辐照性能的同时，实现电源管理芯片的空间抗辐射加固，为长寿命高可靠航天器的选材和设计提供技术支持。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113684460A
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN202110871783.0
申请日：2021-07-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种耐事故包壳Cr/CrN复合涂层的制备方法，属于功能材料制备技术领域。本发明利用梯度反应磁控溅射技术，首先在Zr‑4基底上制备一层Cr层，两种金属的匹配性很好，具有优异的结合力，然后通过逐渐增加溅射舱内的N2含量，先沉积亚化学计量比的CrxNy，此时涂层内既存在金属键又存在离子键，有效的增强了结合力，最后在溅射舱内N2的含量达到一定程度时，溅射出的Cr靶材粒子会全部生成CrN，实现外层CrN的沉积，使获得的复合涂层在保证具有较好的高温抗氧化性能和耐磨性能的同时，大大提升了涂层的结合力，达到涂层包壳的应用要求。
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公开(公告)号：CN112509720B
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202011357111.X
申请日：2020-11-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G21F1/12 , G21F1/10 , H01L23/552 , C09D179/04 , C09D7/65 , C09D7/61 , C09D7/63
Abstract: 一种氰酸酯基抗辐照加固保形涂层及其制备方法。本发明属于辐照屏蔽材料及其制备领域。本发明的目的是为解决现有辐照屏蔽材料防护性能低下及膜层结合力差的技术问题。本发明的一种氰酸酯基抗辐照加固保形涂层由稀土树脂膜层和原子层沉积于稀土树脂膜层外表面的金属氧化物薄膜构成，所述稀土树脂膜层由稀土微粉、氰酸酯树脂、促进剂、偶联剂和聚醚酰亚胺混合熔融涂覆而成。制备方法：一、将氰酸酯树脂、促进剂、偶联剂、聚醚酰亚胺和稀土微粉混合熔融涂覆于电子元器件的管壳表面，分段固化得稀土树脂膜层；二、在稀土树脂膜层表面周期沉积生长金属氧化物，得到保形涂层。本发明的保形涂层在模拟剂量为100～200kGy的电子辐照下，辐射屏蔽率高达88.5％。
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公开(公告)号：CN113263744A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110399783.5
申请日：2021-04-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B29C69/00 , B29C64/118 , B29C48/05 , C23C16/455 , C23C16/40 , B33Y10/00
Abstract: 本发明公开了一种具有红外波段高吸收的3D打印超黑材料的制备方法；属于空间光学系统杂散光抑制领域。本发明解决了现有3D打印技术制备的超黑材料普遍存在的红外波段吸收率较低的问题。本发明通过调控3D打印喷涂工艺制备出可控表面几何结构、内壁微孔结构的杂散光抑制用超黑材料，并采用原子层沉积技术在超黑材料表面沉积AZO薄膜。本发明利用原子层沉积技术的高保形性特征在不影响超黑材料杂散光抑制结构(内壁微孔，几何结构)的基础上进一步提升超黑材料的红外波段吸收率，扩展该3D打印黑色材料在空间光学领域的应用空间。
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公开(公告)号：CN111254473B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202010192975.4
申请日：2020-03-18
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种铝硅合金表面高太阳吸收率消杂光膜层的制备方法，属于铝硅合金表面处理领域。本发明解决现有铝硅合金的表面难以成膜的问题。本发明采用浓硝酸与氢氟酸的混合溶液作为铝硅合金的刻蚀液，在室温下利用铝硅合金中对于成膜不利的硅与氢氟酸反应将其除去，同时为防止铝基底与氢氟酸反应造成膜层腐蚀，利用硝酸与铝的反应将其钝化以阻止刻蚀液与铝基底进行反应，然后通过微弧氧化技术在恒流模式下使用双向脉冲电源制备致密光滑、耐蚀性优良的高太阳吸收率膜层。本发明制得的膜层既可作为高太阳吸收率消杂光膜层也可作为有机涂层的基体使用，因此在表面改性领域具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号：CN112509720A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN202011357111.X
申请日：2020-11-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G21F1/12 , G21F1/10 , H01L23/552 , C09D179/04 , C09D7/65 , C09D7/61 , C09D7/63
Abstract: 一种氰酸酯基抗辐照加固保形涂层及其制备方法。本发明属于辐照屏蔽材料及其制备领域。本发明的目的是为解决现有辐照屏蔽材料防护性能低下及膜层结合力差的技术问题。本发明的一种氰酸酯基抗辐照加固保形涂层由稀土树脂膜层和原子层沉积于稀土树脂膜层外表面的金属氧化物薄膜构成，所述稀土树脂膜层由稀土微粉、氰酸酯树脂、促进剂、偶联剂和聚醚酰亚胺混合熔融涂覆而成。制备方法：一、将氰酸酯树脂、促进剂、偶联剂、聚醚酰亚胺和稀土微粉混合熔融涂覆于电子元器件的管壳表面，分段固化得稀土树脂膜层；二、在稀土树脂膜层表面周期沉积生长金属氧化物，得到保形涂层。本发明的保形涂层在模拟剂量为100～200kGy的电子辐照下，辐射屏蔽率高达88.5％。
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