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公开(公告)号:CN116560104A
公开(公告)日:2023-08-08
申请号:CN202310193298.1
申请日:2023-02-24
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02B30/29
Abstract: 本发明提出了一种3D显示装置及其制备方法,所述3D显示装置包括:显示面板,所述显示面板的长边的延伸方向为第一方向,所述显示面板的短边的延伸方向为第二方向,所述显示面板具有多个阵列排布的像素单元;透镜阵列,所述透镜阵列设置在所述显示面板出光方向的一侧,所述透镜阵列包括多个沿所述第一方向排布的柱透镜,所述柱透镜的长轴的延伸方向与所述第二方向相交。由此,该3D显示装置可满足双向观看的需求。
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公开(公告)号:CN116156754A
公开(公告)日:2023-05-23
申请号:CN202310103282.7
申请日:2023-01-30
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
Inventor: 李琳
Abstract: 本发明公开了一种电路板、显示装置和电子设备,电路板包括:电路板主体,电路板主体的靠近显示模组的一侧设有凹陷部,电路板主体包括多个层结构,凹陷部贯穿部分层结构;指纹模组,指纹模组设在凹陷部内,并与电路板主体构成一体件,指纹模组与至少一个层结构电连接。根据本发明实施例的电路板,可以将指纹模组集成到电路板主体上,保证电路板的原有电路走线,无需开孔避让,提高指纹模组和显示模组的连接可靠性,并能减小电路板主体和指纹模组整体的体积,节省空间。
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公开(公告)号:CN115629487A
公开(公告)日:2023-01-20
申请号:CN202211213149.9
申请日:2022-09-29
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本公开提供了一种显示面板以及电子设备,该显示面板包括:显示基板,显示基板包括多个阵列排布的像素岛,像素岛包括延预定方向排布的多个像素;调光组件,位于像素岛的出光面一侧,用于收束像素岛中像素发出的第一光线的出射角宽度;隔垫层,包括多个隔垫单元,隔垫单元位于像素岛的出光面一侧,用于传输第一光线;透镜层,包括多个透镜单元,位于隔垫单元远离像素岛一侧,用于收束第一光线。本公开通过调制组件对像素出射的第一光线角度进行调整,使其出射角宽度发生变化,进而使调制后的第一光线射入透镜单元时的宽度降低,再经过透镜单元调制实现光线的进一步收束,减小相邻视点之间的光线串扰,达到提升视角、优化显示效果的目的。
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公开(公告)号:CN113809064A
公开(公告)日:2021-12-17
申请号:CN202111109164.4
申请日:2021-09-22
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本公开实施例提供一种显示面板、显示装置和光场显示装置。显示面板,包括:驱动背板,包括基底层和位于基底层一侧的驱动电路层;多个LED像素岛,各LED像素岛包括至少两个子像素,各LED像素岛与驱动背板绑定连接;其中,驱动背板设置有与各LED像素岛的各子像素一一对应的出光区域,基底层被配置为使得各子像素发出的光线通过对应的出光区域准直出射。本公开的技术方案,可以避免子像素光线斜向散射或反射至其它子像素,避免了子像素间相互串扰,减小了旁瓣,提高了显示面板的出光光效。
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公开(公告)号:CN106653698B
公开(公告)日:2019-06-21
申请号:CN201710042420.X
申请日:2017-01-20
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
CPC classification number: G02F1/134363 , G02F1/134336 , G02F1/13439 , G02F1/136227 , G02F1/136286 , G02F1/1368 , G02F2001/134318 , G02F2001/136295 , G02F2201/121 , G02F2201/123
Abstract: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于阵列基板技术领域,其可至少部分解决现有的阵列基板容易因为像素电极的偏移产生显示异常的问题。本发明的阵列基板制备方法包括依次形成公共电极线、第一绝缘层、像素电极、第二绝缘层的步骤,以及形成连通至所述公共电极线的过孔的步骤,且在形成所述过孔后还包括:通过构图工艺形成覆盖所述过孔的公共电极,该构图工艺包括对覆盖有所述公共电极的过孔的一部分进行刻蚀以形成隔离区;所述隔离区包括所述过孔的第一边缘内侧的区域,所述第一边缘为所述过孔与像素电极相邻或叠置的边缘,所述过孔还包括不与所述像素电极相邻也不与所述像素电极叠置的第二边缘。
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公开(公告)号:CN106653698A
公开(公告)日:2017-05-10
申请号:CN201710042420.X
申请日:2017-01-20
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
CPC classification number: G02F1/134363 , G02F1/134336 , G02F1/13439 , G02F1/136227 , G02F1/136286 , G02F1/1368 , G02F2001/134318 , G02F2001/136295 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , H01L27/1259 , H01L27/124
Abstract: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于阵列基板技术领域,其可至少部分解决现有的阵列基板容易因为像素电极的偏移产生显示异常的问题。本发明的阵列基板制备方法包括依次形成公共电极线、第一绝缘层、像素电极、第二绝缘层的步骤,以及形成连通至所述公共电极线的过孔的步骤,且在形成所述过孔后还包括:通过构图工艺形成覆盖所述过孔的公共电极,该构图工艺包括对覆盖有所述公共电极的过孔的一部分进行刻蚀以形成隔离区;所述隔离区包括所述过孔的第一边缘内侧的区域,所述第一边缘为所述过孔与像素电极相邻或叠置的边缘,所述过孔还包括不与所述像素电极相邻也不与所述像素电极叠置的第二边缘。
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公开(公告)号:CN104091761B
公开(公告)日:2017-02-08
申请号:CN201410306505.0
申请日:2014-06-30
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L21/28 , H01L21/768 , H01L27/12
CPC classification number: H05K3/062 , H05K1/097 , H05K3/064 , H05K2201/0108 , H05K2201/026 , H05K2201/10128 , H05K2203/0574
Abstract: 本发明实施例提供一种图案化薄膜的制备方法、显示基板及显示装置,涉及显示技术领域,避免在对光刻胶层进行剥离的过程中,发生薄膜层的脱落。该图案化薄膜的制备方法包括在预设基板的表面上形成预设薄膜层;隔离层覆盖上述预设薄膜层;在隔离层的表面形成光刻胶层,通过构图工艺形成隔离层的图案;然后将未被隔离层覆盖的预设薄膜层去除,最后去除剩余的隔离层并将光刻胶层剥离,最终形成预设薄膜层的图案。
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公开(公告)号:CN103579257B
公开(公告)日:2016-06-08
申请号:CN201310575107.4
申请日:2013-11-15
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,为解决现有的阵列基板因修复线的损坏导致的报废率高的问题而设计。本发明所述的阵列基板,包括第一修复线,还包括若干根用于修复所述第一修复线的第二修复线;所述第一修复线与所述第二修复线相交,且两者之间设有绝缘层。所述的阵列基板以及显示装置以及所述方法制作出的阵列基板,具有报废率低,制作成本低等优点。
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公开(公告)号:CN105226071A
公开(公告)日:2016-01-06
申请号:CN201510728689.4
申请日:2015-10-30
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
CPC classification number: H01L27/124 , H01L27/1262 , H01L27/1214 , H01L21/77 , H01L27/156
Abstract: 本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,解决了现有的显示基板上第一连接线和第二连接线的电容较大的问题。一种显示基板,所述显示基板包括衬底基板以及依次形成在所述衬底基板上的第一导电层、绝缘层、第二导电层,其中,所述显示基板划分为显示区域以及电路绑定区域,所述第一导电层包括位于所述电路绑定区域的第一连接线,所述第二导电层包括位于所述电路绑定区域的第二连接线,所述第一连接线和所述第二连接线交叉设置;所述显示基板还包括位于所述第一导电层和所述第二导电层之间的半导体层,所述半导体层包括至少位于所述第一连接线和所述第二连接线交叉位置处的半导体图案。
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公开(公告)号:CN102880002B
公开(公告)日:2015-09-23
申请号:CN201210380795.4
申请日:2012-10-09
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/027 , G02F1/1339
Abstract: 本发明实施例提供一种黑色感光性树脂组合物、显示面板及液晶显示器,涉及着色感光性树脂组合物技术领域,可以克服在用黑矩阵材料曝光形成隔垫物的过程中出现曝光不完全的情况,提高形成隔垫物图案的精细度,提高隔垫物的质量。包括:黑色颜料分散液,包括黑色颜料和分散剂,黑色颜料固形份占黑色感光性树脂组合物的5%-35%,分散剂固形份占黑色颜料固形份的20%-50%;碱可溶性树脂,其固形份占黑色感光性树脂组合物的5%-25%;感光聚合性树脂,其固形份占黑色感光性树脂组合物的8%-28%;光引发剂,其固形份占感光聚合性树脂固形份的10%-40%。
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