一种垂直结构LED芯片、反射电极及其制备方法

    公开(公告)号:CN109273573A

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201811235636.9

    申请日:2018-10-23

    Abstract: 本发明公开了一种垂直结构LED芯片及其制备方法,所述芯片从下至上依次包括:基板、键合金属层、第一电极、发光层、粗化层、第二电极接触层、第二电极。本发明还公开了该LED芯片的反射电极及其制备方法,反射电极由第一电极和第二电极共同构成,第一电极依次包括第一电极接触层、低折射率介质层和高光反射金属层,低折射率介质层和高光反射金属层之间具有二者复合的特定排列的导电小孔,第一电极还包括可减少第二电极对其正下方区域发光遮挡的区域。本发明有效减少了第二电极正下方区域的电流注入,减少第二电极对正下方区域发光的遮挡,且该反射电极结构可以同时兼顾高光反射率和低欧姆接触,最终提高了AlGaInP薄膜LED芯片的光提取效率。

    一种具有变色功能的GaN基LED的结构及其调节方法

    公开(公告)号:CN106784190B

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201611224132.8

    申请日:2016-12-27

    Abstract: 本发明提供了一种具有变色功能的GaN基LED的结构及其调节方法,该GaN基LED的结构包括衬底,在衬底上依次设有缓冲层、n型层、量子阱层和p型层,在n型层内设有一掺杂C元素的GaN黄带发光层,厚度为2─20μm,C元素掺杂浓度为1×1019─1×1021cm‑3;量子阱层通电时发射蓝光,量子阱层所发射的蓝光激发GaN黄带发光层发射黄光,蓝光和黄光可混合成不同颜色的光。通过调节输入电流的大小,来调制量子阱层发射的蓝光与GaN黄带发光层发射的黄光的配比,从而可获得不同颜色的光,包括黄光、白光和蓝光。这种LED可发射包含白光在内的多种颜色的光,光的颜色可轻松变换,易于实现复杂的照明效果,或用于光通信领域。

    一种可增强空穴注入的发光二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN108550674A

    公开(公告)日:2018-09-18

    申请号:CN201810259674.1

    申请日:2018-03-27

    Abstract: 本发明提供了一种可增强空穴注入的发光二极管及其制备方法,该发光二极管包括衬底,依次层叠于衬底之上的缓冲层、N型半导体层、有源区准备层、发光有源层和P型半导体层,所述有源区准备层包含若干个分布密度为1e7~1e10cm-2的阱型结构,所述阱型结构为凹坑结构或凸起结构,所述发光有源层为与所述有源区准备层的阱型结构相匹配的阱型结构。本发明通过采用具有阱型结构的发光有源层,由于发光有源层中阱型结构的侧壁为非极性面或半极性面,其具有更小的压电效应,从而能够有效降低量子阱中的压电场,增强空穴的有效注入,降低电子的泄漏,进而能够提高发光二极管的发光效率。

    一种半导体发光二极管的外延装置

    公开(公告)号:CN108470807A

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201810106850.8

    申请日:2018-02-02

    Abstract: 本发明提供了一种半导体发光二极管的外延装置,该装置包括依次接触的N电极、N型半导体接触层、N型半导体导电层、发光层、P型半导体导电层、P型半导体接触层和P电极;所述N电极与N型半导体接触层之间的界面接触电阻,通过N型半导体接触层的掺杂浓度进行调节;或P电极与P型半导体接触层之间的界面接触电阻,通过P型半导体接触层的掺杂浓度进行调节。本发明在半导体的表面与金属电极接触的界面改善电流扩展,由于金属与半导体的接触非常敏感,界面的电导性易于调控,外延中仅需很薄的一层,就可以实现电流扩展的显著改善,且器件电压的升高幅度较小。

    一种抑制薄膜LED芯片光反射金属层球聚的方法

    公开(公告)号:CN107623061A

    公开(公告)日:2018-01-23

    申请号:CN201710849104.3

    申请日:2017-09-20

    Abstract: 本发明公开了一种抑制薄膜LED芯片光反射金属层球聚的方法,包括以下步骤:外延材料清洗、生长绝缘介质层、光刻P面电极孔、蒸发P面电极、光刻P面电极、蒸发光反射金属层、蒸发键合金属层、晶片键合、蒸发N面电极、光刻N面电极、电极合金、芯片粗化、芯片测试、芯片切割、芯片分选、产品包装入库,特征是:在光刻N面电极步骤和芯片粗化步骤之间设有电极合金步骤,且放在晶片键合步骤之后。本发明将P面电极合金跟N面电极合金合并为一个电极合金工艺,且放在晶片键合之后,光反射金属层两侧的压力能够有效抑制光反射金属层在电极合金的高温作用下发生球聚现象,提高了光反射金属层的光反射率,同时简化了薄膜LED芯片的制备工序。

    一种多光谱发光二极管结构

    公开(公告)号:CN107170866A

    公开(公告)日:2017-09-15

    申请号:CN201710284866.3

    申请日:2017-04-27

    CPC classification number: H01L33/06 H01L33/04 H01L33/26 H01L33/30

    Abstract: 本发明公开了一种多光谱发光二极管结构,包含:衬底和半导体叠层,该半导体叠层至少包含一层n型半导体层、一层p型半导体层和多光谱发光多量子阱层;特征是:所述多光谱发光多量子阱层由量子阱禁带宽度不同的两组或三组层叠排列的多量子阱发光单元组成,可以同时出射两种或三种波长的光,任意两种波长的光之间的波长差为λ,其中100nm≥λ≥10nm;所述多量子阱发光单元是由量子阱层和量子垒层组成的周期结构,周期数为k;所述多量子阱发光单元的发光波长由其量子阱禁带宽度决定,发光波长范围为380nm─700nm。本发明能在单芯片内直接出射多光谱,可使五基色白光封装所用芯片颗粒数大幅下降,对灯珠的电路设计、光学设计以及混光提供了很大的设计窗口。

    一种AlGaInP发光二极管薄膜芯片结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN106684220A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201710079648.6

    申请日:2017-02-14

    Inventor: 李树强 江风益

    CPC classification number: H01L33/14 H01L33/22

    Abstract: 本发明公开了一种AlGaInP发光二极管薄膜芯片结构及其制备方法,该薄膜芯片包括:P电极、键合基板、键合金属层、金属反射导电层、介质层、P面接触电极、P型电流扩展层、P型限制层、P侧空间层、多量子阱发光区、N侧空间层、N型限制层、N型粗化层、N型欧姆接触层、N电极,特征是:在N型限制层和N型粗化层之间设有N型电流扩展层,N型粗化层使用的(AlxGa1‑x)0.5In0.5P材料中的铝组份x满足0.5≤x≤1,采用稀盐酸(盐酸∶水=x∶3,1<x<3)腐蚀粗化,提高出光效率;N型电流扩展层所使用的(AlxGa1‑x)0.5In0.5P材料中的铝组份x满足0.1≤x≤0.5,这种低铝组份的(AlxGa1‑x)0.5In0.5P材料电子迁移率高,可以提高电流扩展能力。

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