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公开(公告)号:CN112713802A
公开(公告)日:2021-04-27
申请号:CN202011410829.0
申请日:2020-12-04
Applicant: 北京信息科技大学
IPC: H02N2/06
Abstract: 本发明涉及一种压电式电动位移台,包括数字信号处理、整流器和压电驱动器,数字信号处理和整流器之间环形连接,整流器和压电驱动器之间通过驱动力输入,整流器和压电驱动器之间通过位移传感器输出;整流器包括静态迟滞非线性H(t)和线性动态系统G(s),静态迟滞非线性H(t)和线性动态系统G(s)串联,静态迟滞非线性H(t)包括线性部分kv和非线性项h(t)。本发明的有益效果:采用把输出的位移通过位移传感器反馈到输入端进行相减运算,将误差值通过相应的控制器运算后得到一个控制信号,将激励信号通过前馈控制器运算后的输出信号与前述控制信号求和所得的新控制信号作用于压电陶瓷执行器上进行位移控制,提高分辨率,精度定位。
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公开(公告)号:CN112710633A
公开(公告)日:2021-04-27
申请号:CN202011444693.5
申请日:2020-12-08
Applicant: 北京信息科技大学
Abstract: 为了实现对物体折射率的测量,本发明提出一种基于飞秒激光制作的微结构光纤马赫‑曾德尔折射率传感器。本发明采用飞秒激光和光纤熔接机制备完成,传感器由一段单模光纤和一段多模以及另一段单模光纤熔接而成,其中在多模光纤中,使用飞秒激光熔出一个小凹槽。凹槽沿着光纤长35um,深入多模式光纤芯5um,使多模光纤与外界接触,能感应外界环境折射率变化。
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公开(公告)号:CN112697046A
公开(公告)日:2021-04-23
申请号:CN202011411743.X
申请日:2020-12-04
Applicant: 北京信息科技大学
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明涉及一种带槽式变栅距光栅位移传感器,准直光学系统和Y型光纤,准直光学系统设置在传感器内,Y型光纤穿入所述传感器与准直光学系统一侧相对,传感器外壳内设置有槽,槽滑动设置有导轨,滑块通过连接轴滑动设置在导轨上,滑动内侧设置有与准直光学系统另一侧相对的反射镜,传感器内部底端设置有与反射镜相对的变栅距光栅。本发明的有益效果是提供一种抗电磁干扰的位移传感器领域,采用带槽式的导轨,首先在传感器放置导轨的位置挖好槽,挖槽时用高精度机床操作,以确保槽的深度满足正好放置导轨。槽跟导轨配合,并用螺钉固定,确保导轨放置好后不会有俯仰,这样就减小位移误差,增加装置的适用性。
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公开(公告)号:CN112636139A
公开(公告)日:2021-04-09
申请号:CN202011411980.6
申请日:2020-12-04
Applicant: 北京信息科技大学
Abstract: 本发明设计一种基于飞秒激光直写制备芯包复合FBG的掺铒光纤激光器,实现了波长可切换的单波长及双波长激光输出。采用飞秒激光透过光纤保护层在纤芯和包层直写的方法在聚酰亚胺涂覆层光纤中实现周期为541nm的复合光纤布拉格光栅刻写,栅区长度3000μm作为选频器件的光栅阵列反射波长分别为1562.85nm、1564.52nm;选用长度为掺铒光纤组合作为激光器增益介质,结合泵浦源、偏振控制器及宽带全反镜构成线形腔光纤激光器,能够实现波长可切换激光输出。
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公开(公告)号:CN112526661A
公开(公告)日:2021-03-19
申请号:CN202011442919.8
申请日:2020-12-08
Applicant: 北京信息科技大学
Abstract: 为了实现对位移的测量,本发明提出一种基于电子束曝光机的变栅距光栅传感器。本发明采用电子束曝光机制备完成,其中电子束曝光机刻写函数由matlab进行模拟,并通过pioneer函数库进行文件转化,最后将转化文件经由电子束曝光机刻制在玻片上,实现变栅距光栅传感器。
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公开(公告)号:CN106645082B
公开(公告)日:2020-12-11
申请号:CN201610972219.7
申请日:2016-11-03
Applicant: 北京信息科技大学
IPC: G01N21/65
Abstract: 本发明公开了一种基于激光测距自动调焦的门控光纤拉曼光谱仪,包括激光探测系统、拉曼散射光收集系统和信号触发延时及数据处理控制系统;该光纤拉曼光谱仪由脉冲激光器、环形器、第一准直器、反射棱镜、二向分色棱镜、光电探测器望远透镜系统,第二准直器,滤光片和门控光谱仪组成。本发明在一定距离内能实现直接快速检测;通过光电探测器能自动判断激光光斑是否照射到物体上实现自动延时控制;通过望远透镜系统的电控调焦装置快速实现自动调焦;同时采用了光纤传输,极大提高了设备的机械稳定性和可靠性。
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公开(公告)号:CN109828327B
公开(公告)日:2020-06-12
申请号:CN201910269960.0
申请日:2016-10-20
Applicant: 北京信息科技大学
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明公开了一种基于可调光阑刻写任意栅区长度光纤光栅方法,其中,该方法包括:对光纤进行载氢处理,并去除其涂覆层;对激光器发射的预定波长的激光光束进行整形处理;在上位机软件界面输入拟刻写栅区长度,根据刻写栅区长度调节光阑大小,然后通过控制一维移动平台调节光纤曝光区域,对光纤进行刻写获得光纤光栅。本发明公开的方法克服制备不同长度光纤光栅成本高,手动光路调节复杂、效率慢等问题,提供一种刻写长度可调光纤光栅的方法,能够获得均匀对比度高、栅区长度在线连续可调的光纤光栅。
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