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公开(公告)号：CN2352975Y
公开(公告)日：1999-12-08
申请号：CN98229441.7
申请日：1998-09-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 亚微米光刻机光栅衍射同轴对准装置，属于对滤波和照明结构的进一步改进。其特征是激光器发出的光经分光镜，以水平方向射入胶接成滤波机构一体的小反射镜和反射棱镜上，光刻机的光刻光和光栅标记的衍射光通过分区镀制各膜系的滤波板，得到高透过和完全滤波。它方便装调，克服温度影响，提高对准稳定性和对准信号质量，提高对准精度和套刻精度。
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公开(公告)号：CN2421670Y
公开(公告)日：2001-02-28
申请号：CN99241688.4
申请日：1999-11-30
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型公开了一种亚微米光刻机的光学预对准装置,该装置包括硅片对准标记的照明系统、成像光路、接收标记信号的四象限探测器以及与之连接的放大电路、A/D转换、计算机和完成预对准的光刻机工件台控制系统,两路对准标记经合像棱镜成像于CCD探测器上,显示器显示该两标记分离视场合像对齐的光栅标记图象,该装置不需要增加专设高精度光学预对准伺服工作台,也不需高精度气轴机械手,只需一般精度的传输机械手。
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公开(公告)号：CN2351772Y
公开(公告)日：1999-12-01
申请号：CN98229440.9
申请日：1998-09-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型是光刻机环形光栅离轴照明光学系统,属于半微米至深亚微米光刻机离轴照明光学系统技术领域。其特征是在聚光镜与掩模板之间有一个与掩模面平行的环形光栅板,它是由在石英基片上刻有间隔不同、深度相同的同心圆环构成。环形光栅板结构简单,制作方便,只需一次放置,能量利用率高,均匀性好,对不同特征线宽的各种掩模图形光刻分辨力和焦深均提高25%以上,实用范围宽,适合大规模生产。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN2420656Y
公开(公告)日：2001-02-21
申请号：CN00222706.1
申请日：2000-04-05
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B7/02
Abstract: 本实用新型公开了一种亚微米光刻物镜的调整固定结构,它克服了现有光刻物镜结构不能进行轴向和径向位置调整,因此调整精度低的缺点。该结构由多节镜筒用连接件依次连接而成,镜筒中各个带有光学透镜元件的透镜框组件,分别单独安装在内侧壁各自对应的台阶上,能依次逐个逐节装调固定,后调整透镜框组件不会影响前已调整固定好的透镜框组件位置精度,从而具有调整固定精度高又长期稳定不变的特点。
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公开(公告)号：CN2352976Y
公开(公告)日：1999-12-08
申请号：CN98229444.1
申请日：1998-09-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/207
Abstract: 亚微米光刻机调焦装置，属于光刻机自动调焦和光学探测技术领域。其特征为：标记的成像光经被刻物体、小物镜、反射镜，由分光镜分为两种，一路反射成像于四象限接收器，另一路透射经柱面镜成像于CCD图象传感器，两路输出离焦信号和目标偏置量送入单片机，控制压电陶瓷推动柔性铰链，带动被刻物体作大位移或微位移移动，达到目标焦面位置。具有调焦惯量小，速度快，范围大，精度高(优于0.1微米)，可编程的特点。
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公开(公告)号：CN2352973Y
公开(公告)日：1999-12-08
申请号：CN98229445.X
申请日：1998-09-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F1/14
Abstract: 本实用新型是分辨力自增掩模板，属于对光刻机光刻系统中掩模板结构的进一步改进。其特征是根据掩模板下表面的掩模图形的形状和特征线宽，上表面刻蚀相应宽度和形状相位光栅或图形，将产生离轴照明的相位光栅或图形与传统掩模板结合为一体结构。使掩模板本身具有离轴照明功能，能量无损失，均匀性好，改变三束光成像为二束光成像，使光刻分辨力和焦深得到提高，而设备不需作任何改变。在接触接近式光刻中应用效果也同样。
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公开(公告)号：CN2397485Y
公开(公告)日：2000-09-20
申请号：CN99241305.2
申请日：1999-10-14
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本实用新型公开了一种光刻物镜分辨力测试装置,它克服了现有物镜测试仪器只能测试尺寸重量小、测试时可卧倒放置、精度较低的常规小型物镜的缺点。它由减振基板、大支架、照明系统、分辨力测试板、显微物镜和CCD接收器连接而成的图象接收器、显示器组成,被测光刻物镜竖直放置在支架水平台上,通过更换装置的垫块和照明系统,方便地测试各种共轭距、尺寸重量、工作波长的需要竖直测试的高分辨力光刻物镜。
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公开(公告)号：CN2352974Y
公开(公告)日：1999-12-08
申请号：CN98229439.5
申请日：1998-09-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 光刻机相位光栅离轴照明光学系统，属于半微米至深亚微米光刻机离轴照明光学系统技术领域。其特征是聚光镜与掩模板之间是一个与掩模面平行的相位光栅板，它的上下表面分别刻有线宽相同、刻蚀深度相同的方向互相垂直线形光栅，光栅方向与掩模图形方向一致。相位光栅板结构简单，取放方便，实用范围大，照明均匀性好，光能量利用率高，变三束光为两束光成像，提高光刻分辨力和焦深，适合大规模生产。
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