公开(公告)号：CN101490814A

公开(公告)日：2009-07-22

申请号：CN200780026430.9

申请日：2007-09-27

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浪江祐司 ,  金野智久 ,  元成正之 ,  仕田裕贵 ,  竹村彰浩

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: H01L21/30625 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用水系分散体，其特征在于，含有(A)重均分子量为500,000～2,000,000且在分子内具有杂环的第一水溶性高分子、(B)重均分子量为1,000～10,000且具有选自羧基及磺基中的一种的第二水溶性高分子或其盐、(C)氧化剂、以及(D)磨料，pH为7～12。