公开(公告)号：CN106465525B

公开(公告)日：2019-01-22

申请号：CN201580011220.7

申请日：2015-02-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 陶业争 ,  D·J·W·布朗 ,  A·A·沙夫甘斯 ,  M·D·考迪尔 ,  D·J·格里斯 ,  R·L·桑德斯特罗姆 ,  Y·亚马达

IPC: H05G2/00

Abstract: 一种用于极紫外(EUV)光源的系统包括光学放大器(206)，包含定位在光束路径上的增益介质(207)，光学放大器被配置为在输入端处接收光束并且在输出端处发射输出光束以用于EUV光源；反馈系统(215)，测量输出光束的性质并基于所测量的性质产生反馈信号(219)；以及自适应光学元件(208)，位于光束路径中并且被配置为接收反馈信号以及响应于反馈信号调节输出光束的性质。

公开(公告)号：CN106465525A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580011220.7

申请日：2015-02-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 陶业争 ,  D·J·W·布朗 ,  A·A·沙夫甘斯 ,  M·D·考迪尔 ,  D·J·格里斯 ,  R·L·桑德斯特罗姆 ,  Y·亚马达

IPC: H05G2/00

CPC classification number: H05G2/008 ,  H01S3/1003 ,  H01S3/1301 ,  H01S3/1305 ,  H05G2/003

Abstract: 一种用于极紫外(EUV)光源的系统包括光学放大器(206)，包含定位在光束路径上的增益介质(207)，光学放大器被配置为在输入端处接收光束并且在输出端处发射输出光束以用于EUV光源；反馈系统(215)，测量输出光束的性质并基于所测量的性质产生反馈信号(219)；以及自适应光学元件(208)，位于光束路径中并且被配置为接收反馈信号以及响应于反馈信号调节输出光束的性质。