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公开(公告)号：CN108225256A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711291453.4
申请日：2017-12-08
Applicant: 长春理工大学
Abstract: 本申请实施例提供的光线入射角度测量结果的校准方法，基于包括光学接收装置、计算装置及至少一组具有预置安装参数的微透镜阵列的光线入射角度测量系统，预先任取一组微透镜阵列中的四列微透镜作为校准阵列，所述方法包括：基于对第一校准阵列的测量结果获取第一入射角度值；以第一入射角度值作为已知量，并结合第二校准阵列的安装参数获取入射角度修正值；基于对第三校准阵列的测量结果获取第二入射角度值，并根据第二入射角度值与入射角度修正值计算得到第三入射角度值；基于第四校准阵列的安装参数对第三入射角度值进行校准，以得到校准后的入射角度值。通过本方案，可提高光线入射角度测量结果的精度。
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公开(公告)号：CN115752759B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202211511725.8
申请日：2022-11-29
Applicant: 长春理工大学
Abstract: 本发明涉及红外焦平面阵列非均匀性校正设计技术领域，且公开了一种非均匀性校正单个偏移参数的校正算法，利用标准校正参考源提供给非制冷红外焦平面阵列均匀入射辐射通量，测量每个探测单元输出响应，并按照线性假设条件对非制冷红外焦平面阵列的响应曲线进行拟合输出非均匀校正参数，通过构造像元响应模型中单偏移校正参数存储模型、把单偏移参数存储模型聚合生成复合校正存储模型，根据像元和采集数据地址获取复合校正存储模型，从复合校正存储模型中提取单偏移校正参数存储模型，从单偏移校正参数存储模型中提取单个校正偏移参数，整个提取过程经过若干次的识别确认，有效地保证了非制冷红外焦平面阵列上任一探测单元校正结果的准确性。
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公开(公告)号：CN108317970A
公开(公告)日：2018-07-24
申请号：CN201711291461.9
申请日：2017-12-08
Applicant: 长春理工大学
IPC: G01B11/26
Abstract: 本申请实施例提供的光线入射角度的测量系统及方法，由预先规划安装参数的至少一组微透镜阵列、光学接收装置及计算装置组成光线入射角度测量系统，通过测量系统中的计算装置根据光学接收装置的安装参数及由光学接收装置测量到的待测光线经由微透镜阵列在光学接收装置上所形成的光斑信息，计算出待测光线的入射角度以作为测量结果，也即可基于确定的信息计算得到待测光线的入射角度，以此可提高光线入射角度的测量精度。
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公开(公告)号：CN116055908B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202211564203.4
申请日：2022-12-07
Applicant: 长春理工大学
IPC: H04N25/673 , G01J5/53 , H04N23/23
Abstract: 本发明涉及红外焦平面阵列非均匀性校正技术领域，且公开了一种非制冷红外焦平面阵列非均匀性校正方法，采用多段折线逼近探测器响应曲线的方法对非制冷红外焦平面阵列的响应曲线进行拟合，计算出各区域的非均匀校正系数，通过单独构造各个区域校正系数的存储模型，根据像元和采集数据地址、并且结合目标的温度条件，获取对应的存储模型、并从中提取校正系数，实现对于温度不同的目标、使用对应区域的非均匀校正系数进行校正，整个提取过程需要经过识别确认，不仅提高了非制冷红外焦平面阵列上任一探测单元校正精度、而且保证了非制冷红外焦平面阵列上任一探测单元校正结果的准确性。
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公开(公告)号：CN112811795A
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN202110016616.8
申请日：2021-01-07
Applicant: 长春理工大学
IPC: C03B23/02
Abstract: 本发明涉及一种激光加热微纳光子学器件模压加工装置及系统。该方法包括：利用镀膜工艺在透明衬底上镀待加工材料薄膜，形成带有待加工材料薄膜的透明衬底；将带有待加工材料薄膜的透明衬底置于透明基底上；将微纳结构模具置于待加工材料薄膜上；利用激光器发射的激光照射至待加工材料薄膜上加热，直至待加工材料薄膜软化；或者，利用激光器发射的激光照射至微纳结构模具的表面进行辅助加热直至待加工材料薄膜软化；对微纳结构模具施加压力，同时利用激光对软化后的待加工材料薄膜持续均匀照射，使得微纳结构模具的结构转印在软化后的待加工材料薄膜上。在模压加工过程中加热温度均匀、加工精度高、避免了待加工材料薄膜产生形变甚至缺陷等问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108225256B
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN201711291453.4
申请日：2017-12-08
Applicant: 长春理工大学
Abstract: 本申请实施例提供的光线入射角度测量结果的校准方法，基于包括光学接收装置、计算装置及至少一组具有预置安装参数的微透镜阵列的光线入射角度测量系统，预先任取一组微透镜阵列中的四列微透镜作为校准阵列，所述方法包括：基于对第一校准阵列的测量结果获取第一入射角度值；以第一入射角度值作为已知量，并结合第二校准阵列的安装参数获取入射角度修正值；基于对第三校准阵列的测量结果获取第二入射角度值，并根据第二入射角度值与入射角度修正值计算得到第三入射角度值；基于第四校准阵列的安装参数对第三入射角度值进行校准，以得到校准后的入射角度值。通过本方案，可提高光线入射角度测量结果的精度。
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公开(公告)号：CN108317970B
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201711291461.9
申请日：2017-12-08
Applicant: 长春理工大学
IPC: G01B11/26
Abstract: 本申请实施例提供的光线入射角度的测量系统及方法，由预先规划安装参数的至少一组微透镜阵列、光学接收装置及计算装置组成光线入射角度测量系统，通过测量系统中的计算装置根据光学接收装置的安装参数及由光学接收装置测量到的待测光线经由微透镜阵列在光学接收装置上所形成的光斑信息，计算出待测光线的入射角度以作为测量结果，也即可基于确定的信息计算得到待测光线的入射角度，以此可提高光线入射角度的测量精度。
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公开(公告)号：CN116055908A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202211564203.4
申请日：2022-12-07
Applicant: 长春理工大学
IPC: H04N25/673 , G01J5/53 , H04N23/23
Abstract: 本发明涉及红外焦平面阵列非均匀性校正技术领域，且公开了一种非制冷红外焦平面阵列非均匀性校正方法，采用多段折线逼近探测器响应曲线的方法对非制冷红外焦平面阵列的响应曲线进行拟合，计算出各区域的非均匀校正系数，通过单独构造各个区域校正系数的存储模型，根据像元和采集数据地址、并且结合目标的温度条件，获取对应的存储模型、并从中提取校正系数，实现对于温度不同的目标、使用对应区域的非均匀校正系数进行校正，整个提取过程需要经过识别确认，不仅提高了非制冷红外焦平面阵列上任一探测单元校正精度、而且保证了非制冷红外焦平面阵列上任一探测单元校正结果的准确性。
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公开(公告)号：CN115752759A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211511725.8
申请日：2022-11-29
Applicant: 长春理工大学
Abstract: 本发明涉及红外焦平面阵列非均匀性校正设计技术领域，且公开了一种非均匀性校正单个偏移参数的校正算法，利用标准校正参考源提供给非制冷红外焦平面阵列均匀入射辐射通量，测量每个探测单元输出响应，并按照线性假设条件对非制冷红外焦平面阵列的响应曲线进行拟合输出非均匀校正参数，通过构造像元响应模型中单偏移校正参数存储模型、把单偏移参数存储模型聚合生成复合校正存储模型，根据像元和采集数据地址获取复合校正存储模型，从复合校正存储模型中提取单偏移校正参数存储模型，从单偏移校正参数存储模型中提取单个校正偏移参数，整个提取过程经过若干次的识别确认，有效地保证了非制冷红外焦平面阵列上任一探测单元校正结果的准确性。
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公开(公告)号：CN218822794U
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202223274119.7
申请日：2022-12-07
Applicant: 长春理工大学
Abstract: 本实用新型涉及无挡片非制冷红外热成像技术领域，且公开了一种无挡片非制冷红外热成像试验样机，包括红外热成像机体，所述红外热成像机体的左侧螺纹套接有光学镜头，所述光学镜头的内部固定卡接有镜片，所述红外热成像机体内腔左侧固定连接有固定板。该无挡片非制冷红外热成像试验样机，通过隔热玻璃、环形降温管、上竖管、下竖管、出水箱、J形管、进水箱、降温调控装置和进水管之间的配合，通过源源不断进水箱中的液体流入至隔热玻璃中，继而便于将原先隔热玻璃中吸附的含有热量的液体快速流走，继而提高隔热玻璃的散热效果，达到非制冷红外热成像非均匀校正的目的。
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