一种铕钡铜氧化物超导溅射靶材的制备方法及其产品

    公开(公告)号:CN116606131B

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202310588609.4

    申请日:2023-05-24

    Applicant: 郑州大学

    Abstract: 本发明公开了一种铕钡铜氧化物超导溅射靶材的制备方法及其产品,属于超导材料技术领域。本发明将氧化铕粉体、碳酸钡粉体与氧化铜粉体按1:4:6的摩尔比混合,得到第一混合粉体,经煅烧处理得到第二混合粉体;将第二混合粉体与分散剂、粘结剂和水混合,得到铕钡铜氧化物浆料,经压力注浆成型得到铕钡铜氧化物靶材素坯,再经干燥处理和脱脂烧结处理,得到铕钡铜氧化物超导溅射靶材。本发明铕钡铜氧化物靶材素坯中的氧化物粉体经过脱脂烧结过程形成主相,二次相CuO均匀分散在主相之间,得到了组织均匀的铕钡铜氧化物超导溅射靶材,晶粒之间紧密接触,结构致密程度高。

    一种铕钡铜氧化物超导溅射靶材的制备方法及其产品

    公开(公告)号:CN116606131A

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202310588609.4

    申请日:2023-05-24

    Applicant: 郑州大学

    Abstract: 本发明公开了一种铕钡铜氧化物超导溅射靶材的制备方法及其产品,属于超导材料技术领域。本发明将氧化铕粉体、碳酸钡粉体与氧化铜粉体按1:4:6的摩尔比混合,得到第一混合粉体,经煅烧处理得到第二混合粉体;将第二混合粉体与分散剂、粘结剂和水混合,得到铕钡铜氧化物浆料,经压力注浆成型得到铕钡铜氧化物靶材素坯,再经干燥处理和脱脂烧结处理,得到铕钡铜氧化物超导溅射靶材。本发明铕钡铜氧化物靶材素坯中的氧化物粉体经过脱脂烧结过程形成主相,二次相CuO均匀分散在主相之间,得到了组织均匀的铕钡铜氧化物超导溅射靶材,晶粒之间紧密接触,结构致密程度高。

Patent Agency Ranking