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公开(公告)号：CN101490791B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200780022054.6
申请日：2007-06-01
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/24528
Abstract: 导引元件包括在离子注入系统内，以将离子射束引导或“导引”到导引元件下游的扫描元件的扫描顶点。这样，扫描元件的扫描顶点与扫描元件下游的平行化元件的聚焦点重合。这允许射束以期望的角度从平行化元件射出，以使得可以将离子以期望的方式注入到位于平行化元件的下游的工件内。
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公开(公告)号：CN101449354A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200780018052.X
申请日：2007-05-17
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J27/02 , H01J37/08 , H01J27/08
CPC classification number: H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/304 , H01J37/32467 , H01J2237/002 , H01J2237/082 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明公开了一种用于产生离子流的示例性离子源，所述离子源具有至少部分地界定电弧室的离子化区的铝合金电弧室主体。电弧室主体和热丝状体电弧室壳体一起使用，所述热丝状体电弧室壳体或者直接或者间接地将阴极加热到足够的温度，以使电子流动通过电弧室的离子化区。温度传感器监测电弧室内的温度，并提供与感测的温度相关的信号。当传感器进行测量时控制器监测感测的温度，并调节温度以将感测的温度保持在一范围内。
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公开(公告)号：CN101449354B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200780018052.X
申请日：2007-05-17
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J27/02 , H01J37/08 , H01J27/08
CPC classification number: H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/304 , H01J37/32467 , H01J2237/002 , H01J2237/082 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明公开了一种用于产生离子流的示例性离子源，所述离子源具有至少部分地界定电弧室的离子化区的铝合金电弧室主体。电弧室主体和热丝状体电弧室壳体一起使用，所述热丝状体电弧室壳体或者直接或者间接地将阴极加热到足够的温度，以使电子流动通过电弧室的离子化区。温度传感器监测电弧室内的温度，并提供与感测的温度相关的信号。当传感器进行测量时控制器监测感测的温度，并调节温度以将感测的温度保持在一范围内。
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公开(公告)号：CN101490791A
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200780022054.6
申请日：2007-06-01
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/24528
Abstract: 导引元件包括在离子注入系统内，以将离子射束引导或“导引”到导引元件下游的扫描元件的扫描顶点。这样，扫描元件的扫描顶点与扫描元件下游的平行化元件的聚焦点重合。这允许射束以期望的角度从平行化元件射出，以使得可以将离子以期望的方式注入到位于平行化元件的下游的工件内。
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