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公开(公告)号：CN100524022C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200610073937.7
申请日：2006-02-28
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 松泽伸行 , 渡辺阳子 , 布恩塔里卡·桑纳卡特 , 小泽谦 , 山口优子
IPC: G03F7/09 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/091 , G03F7/70341
Abstract: 一种抗反射膜，其中，在浸液式平版印刷技术中，即使在曝光光线倾斜进入的地方，也能够在抗蚀剂层和硅衬底之间的界面处获得充分降低的反射率。两层抗反射膜用在通过波长为190-195nm并且数值孔径为1.0或更小的曝光系统的曝光中，并且形成于抗蚀剂层与硅衬底之间。抗反射膜的上层和下层的复折射率N1和N2以及膜厚度分别是由n1-k1i，n2-k2i和d1，d2表示的，并且选择值[n10，k10，d10，n20，k20，d20]的预定组合，n1，k1，d1，n2，k2和d2满足{(n1-n10)/(n1m-n10)}2+{(k1-k10)/(k1m-k10)}2+{(d1-d10)/(d1m-d10)}2+{(n2-n20)/(n2m-n20)}2+{(k2-k20)/(k2m-k20)}2+{(d2-d20)/(d2m-d20)}2≤1。
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公开(公告)号：CN100397122C
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200610009503.0
申请日：2006-02-23
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G02B6/43 , G02B6/4204 , H01S5/005
Abstract: 一种光信号输入装置及使用该装置的电子设备，该光信号输入装置不减小聚光透镜的NA，入射到镜面上的光信号可满足全反射的条件。准直透镜(142)将从发光元件(161)输出的光信号(激光)(13)从发散光变为平行光。聚光透镜(104)将平行光向光波导通路(135)一端侧的波导通路口(138)聚光。光波导通路(135)将从该波导通路口(138)输入的光信号由45°镜面(135a)反射，在其长度方向上进行波导。将聚光透镜(104)的光轴相对准直透镜(142)的光轴向光波导通路(135)另一端侧(a侧)偏移距离d，使从准直透镜(142)输出的平行光移位，以使其主光线位置从透镜(104)的光轴位置向光波导通路(135)一端侧(b侧)离开距离d。
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公开(公告)号：CN1783504A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510126924.7
申请日：2005-11-28
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 小泽谦
IPC: H01L27/146 , H01L21/82 , H04N5/335
CPC classification number: H01L27/14685 , G02B3/0031 , G02B3/0037 , H01L27/14605 , H01L27/14627
Abstract: 本发明公开了一种固态成像装置，其包括：具有多个像素的衬底；以及多个布置在衬底上的片上透镜，每个片上透镜具有透镜表面，通过将透明感光膜使用具有梯度图案的掩模曝光并显影形成透镜表面，使得透镜表面根据梯度图案来校正荫影。
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公开(公告)号：CN1692311A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200380100470.5
申请日：2003-12-19
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 小泽谦
IPC: G03F1/08
Abstract: 一种用于通过光学邻近效果校正光掩模的方法，使得可以降低在测试掩模和校正掩模之间的取决于图案密集度的线宽的误差的掩模间的差。本发明包括：步骤(s1)，制作用作为所述光学邻近效果校正所需要的处理模型提取掩模的测试掩模；步骤(s2，s3)，将所述测试掩模的掩模图案转印到晶片，并且测量转印图案的尺寸；步骤(s4)，导出函数模型(被称为处理模型)，使得通过使用函数模型所得的光掩模的掩模图案的转印图案的模拟结果匹配在所述测量步骤获得的测量结果；步骤(s5)，通过使用所述处理模型而形成掩模图案，使得其转印图案匹配所述设计图案，并且按照所形成的掩模图案来在光掩模上创建掩模数据；步骤(s6)，按照所述被创建的掩模数据制作校正掩模；曝光条件设置步骤(s7)，当转印校正掩模时，通过控制曝光系统的数值孔径(NA)或光照条件(σ)的至少一个，来确定关于间距的幅度OPE特征变得平坦的条件。
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公开(公告)号：CN100479175C
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200510126924.7
申请日：2005-11-28
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 小泽谦
IPC: H01L27/146 , H01L21/82 , H04N5/335
CPC classification number: H01L27/14685 , G02B3/0031 , G02B3/0037 , H01L27/14605 , H01L27/14627
Abstract: 本发明公开了一种固态成像装置，其包括：具有多个像素的衬底；以及多个布置在衬底上的片上透镜，每个片上透镜具有透镜表面，通过将透明感光膜使用具有梯度图案的掩模曝光并显影形成透镜表面，使得透镜表面根据梯度图案来校正荫影。
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公开(公告)号：CN1952788A
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200610148672.2
申请日：2006-09-06
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 松泽伸行 , 渡辺阳子 , 布恩塔里卡·桑纳卡特 , 小泽谦
IPC: G03F7/20 , G02B1/00 , H01L21/027
Abstract: 在抗蚀剂层和形成在硅衬底表面上的氧化硅层之间提供抗反射膜，用于在具有190nm到195nm波长和0.93到1.2数值孔径NA的曝光系统中曝光抗蚀剂层。假设组成抗反射膜的上层和下层的复折射率分别是N1(＝n1－k1i)和N2(＝n2－k2i)，并且两层的厚度为d1和d2，则当选择[n10、k10、d10、n20、k20、d20]的值的预定组合时，n1、k1、d1、n2、k2、和d2满足关系式{(n1－n10)/(n1m－n10)}2+{(k1－k10)/(k1m－k10)}2+{(d1－d10)/(d1m－d10)}2+{(n2－n20)/(n2m－n20)}2+{(k2－k20)/ (k2m－k20)}2+{(d2－d20)/(d2m－d20)}2≤1。
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公开(公告)号：CN1325993C
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200380100470.5
申请日：2003-12-19
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 小泽谦
IPC: G03F1/08
Abstract: 一种用于通过光学邻近效果校正光掩模的方法，使得可以降低在测试掩模和校正掩模之间的取决于图案密集度的线宽的误差的掩模间的差。本发明包括：步骤(s1)，制作用作为所述光学邻近效果校正所需要的处理模型提取掩模的测试掩模；步骤(s2，s3)，将所述测试掩模的掩模图案转印到晶片，并且测量转印图案的尺寸；步骤(s4)，导出函数模型(被称为处理模型)，使得通过使用函数模型所得的光掩模的掩模图案的转印图案的模拟结果匹配在所述测量步骤获得的测量结果；步骤(s5)，通过使用所述处理模型而形成掩模图案，使得其转印图案匹配所述设计图案，并且按照所形成的掩模图案来在光掩模上创建掩模数据；步骤(s6)，按照所述被创建的掩模数据制作校正掩模；曝光条件设置步骤(s7)，当转印校正掩模时，通过控制曝光系统的数值孔径(NA)或光照条件(σ)的至少一个，来确定关于间距的幅度OPE特征变得平坦的条件。
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公开(公告)号：CN101488513B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200910006481.6
申请日：2005-11-28
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 小泽谦
IPC: H01L27/146 , G02B3/00
CPC classification number: H01L27/14685 , G02B3/0031 , G02B3/0037 , H01L27/14605 , H01L27/14627
Abstract: 本发明公开了一种固态成像装置，其包括：具有多个像素的衬底；以及多个布置在衬底上的片上透镜，每个片上透镜具有透镜表面，通过将透明感光膜使用具有梯度图案的掩模曝光并显影形成透镜表面，使得透镜表面根据梯度图案来校正阴影。
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