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公开(公告)号：CN111510102B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202010076561.5
申请日：2020-01-23
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 提供振动器件、振动模块、电子设备以及移动体，能够抑制布线彼此的意料之外的短路。振动器件具有：基座；振动元件，其安装在所述基座上；盖体，所述振动元件收纳在该盖体与所述基座之间；以及导电性的接合部件，其位于所述基座与所述盖体之间，将所述基座与所述盖体接合，所述基座具有：振动元件载置面，其安装有所述振动元件；第1布线和第2布线，它们配置在所述振动元件载置面上，与所述振动元件电连接；以及接合面，其经由所述接合部件与所述盖体接合，在振动元件载置面与所述接合面之间具有阶差。
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公开(公告)号：CN115021707A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202210196319.0
申请日：2022-03-01
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 振动器件。提供能够提高可靠性的振动器件。振动器件具有：基座；振动元件，其配置于基座；环状的树脂体，其与基座接合，在俯视观察时包围振动元件；以及盖，其被配置成与基座一起夹着振动元件，在树脂体的与盖对置的表面配置有第1金属层，在盖的与树脂体对置的表面配置有第2金属层，第1金属层和第2金属层被接合，由此，振动元件被基座、树脂体和盖密封。
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公开(公告)号：CN104777706A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201510018417.5
申请日：2015-01-14
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H04N9/3158 , F21V9/06 , G02B5/208 , G02B5/283 , G02B27/102 , G03B21/006 , G03B21/14 , H04N5/7441 , H04N9/3144
Abstract: 本发明提供能够对包括于从光源出射的光的紫外光通过截止滤波器适当地进行遮挡的投影型显示装置及用于投影型显示装置等的照明装置。在投影型显示装置(110)中，照明装置(60)在来自光源(611)的出射光路，具有对紫外光进行遮挡的反射型的2个截止滤波器即第1截止滤波器(66)及反射型的第2截止滤波器(67)。前侧的第2截止滤波器(67)与后侧的第1截止滤波器(66)相比起始波长为长波长。2个截止滤波器形成于第1积分透镜(62)及第2积分透镜(63)具有的平面形状的第1面(621、631)。因此，2个截止滤波器的入射面(660、670)的双方相对于装置光轴(L)正交。
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公开(公告)号：CN100468824C
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200510009200.4
申请日：2002-01-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H01L21/0337 , C23C14/042 , C23C14/12 , H01L21/0332 , H01L27/3244 , H01L51/0011
Abstract: 本发明的课题是，提供一种对构成有机EL元件的像素的薄膜图形能以对应于高精细像素的精度成膜的掩模。根据本发明的一种掩模，用于在被成膜面上按照规定图形形成薄膜，具有对应于上述图形的开口部，其特征在于：该掩模由单晶硅构成，上述开口部的尺寸在掩模的厚度方向规定位置即边界位置处对应于上述图形的尺寸，从上述边界位置朝向两个掩模面比上述图形增大，从上述边界位置到各掩模面的距离不同。
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公开(公告)号：CN100381284C
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200410092939.1
申请日：2004-11-11
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/14233 , B41J2002/14419
Abstract: 本发明的目的是提供一种能制造高密度阵列的小型液滴喷出装置。本发明的液滴喷出装置(100)包括：具备收容液体的多个收容室(111)的第一块基板；供给收容室(111)所贮存的液体的供给口(121)；具备多个喷出单元的第二块基板，而该喷出单元含有向由供给口(121)供给的液体付与压力的加压室和将在该加压室加压的液体喷出到外部的喷出口；和夹持在上述第一块基板和第二块基板之间的，具备将上述多个收容室(111)和与其对应多个供给口(121)连接的流路的第三块基板；并通过使上述设在第二块基板上的多个供给口的排列，处于成为交错状配置的位置关系。由此解决了上述课题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100338739C
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200410094633.X
申请日：2004-11-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 黑泽龙一
Abstract: 提供了一种能够避免复杂过程和较高成本的技术，同时在形成包括玻璃衬底的装置时获得功能单元的保护。一种用从玻璃衬底和半导体衬底所形成的粘合主体构造的结构主体的制造方法，包括：第一步骤，在玻璃衬底的一个表面上形成第一功能单元，用作结构主体的结构部件；第二步骤，将半导体衬底粘合到玻璃衬底的一个表面上以覆盖第一功能单元；第三步骤，通过从玻璃衬底的另外的表面侧辐射激光束并在玻璃衬底的厚度方向上扫描激光束的焦点而形成在玻璃衬底的厚度方向上延展的受影响区；以及第四步骤，通过蚀刻玻璃衬底和沿着受影响区域移除所述部分而在玻璃衬底上形成孔。
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公开(公告)号：CN1294015C
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200410044711.5
申请日：2004-05-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/055 , B41J2/045 , G01N35/10 , C12M1/00 , C03C15/00 , H01L21/316 , H01L21/306
CPC classification number: B01L3/0268 , B01L2200/0684 , B01L2400/0439 , B41J2/14016 , B41J2/14201 , B41J2202/09
Abstract: 本发明提供一种液体喷出头，该液体喷出头至少包括容纳液体的容纳室，即储液器(22)、施加用于喷出液体的压力的加压室(6)、连结加压室(6)与储液器(22)的流路、和从加压室(6)中喷出液滴的喷孔(4)，前述流路的一部分由设在玻璃基板(7)上的微小通孔(10)形成，该微小通孔(10)的内径连续地减小或增大。由此，可以降低制造成本，不会发生与喷出的液体，即包含生物高分子的溶液产生反应的问题，而且可从各喷嘴中喷出一定量的液滴。
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公开(公告)号：CN1841166A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610068309.X
申请日：2006-03-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 黑泽龙一
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/133711 , G02F1/133526 , G02F1/133719 , G02F2001/133715 , Y10T428/1005 , Y10T428/1014
Abstract: 一种用于控制液晶分子取向的定向膜是由有机硅材料形成的，所述的有机硅材料在其分子中包括用于提高与液晶分子亲合力的亲合力赋予基和用于控制液晶分子取向的取向特性赋予基。所述亲合力赋予基是选自包含乙烯基、烷撑基和氰基烷基的基团中的至少一种，并且所述取向特性赋予基是选自包含苯基、取代的苯基、苯基－烷基、取代的苯基－烷基、含有3至12个碳原子的支链烷基的基团中的至少一种。优选地，所述的有机硅材料包括具有笼形结构或部分裂开的笼形结构的有机聚倍半硅氧烷。还提供一种形成定向膜的方法，并且还提供具有所述定向膜的液晶板和配备有所述液晶板的电子设备。
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公开(公告)号：CN1642374A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN200510009200.4
申请日：2002-01-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H01L21/0337 , C23C14/042 , C23C14/12 , H01L21/0332 , H01L27/3244 , H01L51/0011
Abstract: 本发明的课题是，提供一种对构成有机EL元件的像素的薄膜图形能以对应于高精细像素的精度成膜的掩模。根据本发明的一种掩模，用于在被成膜面上按照规定图形形成薄膜，具有对应于上述图形的开口部，其特征在于：该掩模由单晶硅构成，上述开口部的尺寸在掩模的厚度方向规定位置即边界位置处对应于上述图形的尺寸，从上述边界位置朝向两个掩模面比上述图形增大，从上述边界位置到各掩模面的距离不同。
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公开(公告)号：CN1367636A
公开(公告)日：2002-09-04
申请号：CN02102774.9
申请日：2002-01-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H05B33/10 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0337 , C23C14/042 , C23C14/12 , H01L21/0332 , H01L27/3244 , H01L51/0011
Abstract: 本发明的课题是,提供一种对构成有机EL元件的像素的薄膜图形能以对应于高精细像素的精度成膜的掩模。采用面取向为(100)的硅晶片(单晶硅衬底)1,通过利用了与晶向有依赖性的各向异性湿法刻蚀,形成其壁面11a的面取向为(111)的贯通孔,作为对应于所形成的薄膜图形的开口部。
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