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公开(公告)号：CN100388395C
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN02142608.2
申请日：2002-09-12
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 渡边吉祥
IPC: H01G4/10 , H01G4/08 , H01L21/31 , H01L21/324 , H01L21/3205 , H01L21/283 , H01L21/336
CPC classification number: H01L21/02255 , G02F1/136213 , H01L21/02164 , H01L21/02183 , H01L21/022 , H01L21/02244 , H01L21/02271 , H01L21/31612 , H01L21/31683 , H01L27/1255 , H01L28/56 , H01L29/4908 , H01L29/66757 , H01L29/66765 , H01L29/78621
Abstract: 在半导体装置中，TFT、二极管和电容器的绝缘层由在温度为300℃～400℃、压力为0.5MPa～2MPa的条件下将钽膜氧化而得到的氧化钽膜和利用CVD等方法形成的氧化硅膜构成。因此，绝缘层包含通过高压退火处理而生成的氧化钽膜。
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公开(公告)号：CN107264038B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201710423027.5
申请日：2014-01-10
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/165
Abstract: 本发明提供一种液体喷射装置以及维护方法。液体喷射装置具备：液体喷射头，其朝向目标物，从喷嘴形成面上的喷嘴喷射液体；擦拭部件，其能够对所述喷嘴形成面进行擦拭；移动机构，其在所述擦拭被实施时，使所述液体喷射头与所述擦拭部件进行相对移动；控制部，其以如下方式对所述移动机构进行控制，即，与在所述喷嘴形成面和所述目标物的对置距离为第一距离的条件下喷射所述液体的情况相比，在所述对置距离为长于第一距离的第二距离的条件下喷射所述液体的情况中，减慢实施所述擦拭时的液体喷射头与所述擦拭部件的相对移动速度。
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公开(公告)号：CN103921557A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201410012779.9
申请日：2014-01-10
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/165
CPC classification number: B41J2/16535 , B41J2/16544
Abstract: 本发明提供一种液体喷射装置以及维护方法。液体喷射装置具备：液体喷射头，其朝向目标物，从喷嘴形成面上的喷嘴喷射液体；擦拭部件，其能够对所述喷嘴形成面进行擦拭；移动机构，其在所述擦拭被实施时，使所述液体喷射头与所述擦拭部件进行相对移动；控制部，其以如下方式对所述移动机构进行控制，即，与在所述喷嘴形成面和所述目标物的对置距离为第一距离的条件下喷射所述液体的情况相比，在所述对置距离为长于第一距离的第二距离的条件下喷射所述液体的情况中，减慢实施所述擦拭时的液体喷射头与所述擦拭部件的相对移动速度。
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公开(公告)号：CN1405805A
公开(公告)日：2003-03-26
申请号：CN02142608.2
申请日：2002-09-12
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 渡边吉祥
IPC: H01G4/10 , H01G4/08 , H01L21/31 , H01L21/324 , H01L21/3205 , H01L21/283 , H01L21/336
CPC classification number: H01L21/02255 , G02F1/136213 , H01L21/02164 , H01L21/02183 , H01L21/022 , H01L21/02244 , H01L21/02271 , H01L21/31612 , H01L21/31683 , H01L27/1255 , H01L28/56 , H01L29/4908 , H01L29/66757 , H01L29/66765 , H01L29/78621
Abstract: 在半导体装置中，TFT、二极管和电容器的绝缘层由在温度为300℃～400℃、压力为0.5MPa～2MPa的条件下将钽膜氧化而得到的氧化钽膜和利用CVD等方法形成的氧化硅膜构成。因此，绝缘层包含通过高压退火处理而生成的氧化钽膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108215494A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711227041.4
申请日：2017-11-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 渡边吉祥
Abstract: 本发明提供一种能够以简单的结构在不中断印刷的条件下补充液体，并且无需进行液体储存部内的液体的脱气的液体喷射装置。液体喷射装置具备：液体喷射头，其喷射液体；液体储存部(9)，其对向液体喷射头被供给的液体进行储存，液体储存部(9)具有：储存罐(20a～20f)，其在至少一部分上设置有具有可挠性的可挠部(25a～25f)；液体供给口(21a～21f)，其向液体喷射头供给液体；液体注入口(23a～23f)，其用于补充液体，液体注入口(23a～23f)能够开闭且能够密封，通过使可挠部(25a～25f)发生变形，从而能够进行储存罐(20a～20f)的体积的变更。
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公开(公告)号：CN1384395A
公开(公告)日：2002-12-11
申请号：CN02121713.0
申请日：2002-04-03
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/136 , H01L21/324
CPC classification number: G02F1/1365 , H01L45/00
Abstract: 本发明提供一种能使非线性元件的非线性进一步提高的非线性元件的制造方法,电光学装置和电子仪器。在形成液晶装置的元件基板(20)时,在底层形成工序(a)中在元件基板(20)的表面上形成底层(61)后在第一金属膜形成工序(b)中形成由至少含Ta的金属膜构成的第一金属膜(62)。接着在绝缘膜形成工序(c)中对第一金属膜(62)在含水蒸气的氛围中进行高压退火处理,从而在第一金属膜(62)的表面上形成绝缘膜(63)。然后在第二金属膜形成工序中,在绝缘膜(63)的表面上形成第二金属膜,制造非线性元件。
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公开(公告)号：CN108215494B
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201711227041.4
申请日：2017-11-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 渡边吉祥
Abstract: 本发明提供一种能够以简单的结构在不中断印刷的条件下补充液体，并且无需进行液体储存部内的液体的脱气的液体喷射装置。液体喷射装置具备：液体喷射头，其喷射液体；液体储存部(9)，其对向液体喷射头被供给的液体进行储存，液体储存部(9)具有：储存罐(20a～20f)，其在至少一部分上设置有具有可挠性的可挠部(25a～25f)；液体供给口(21a～21f)，其向液体喷射头供给液体；液体注入口(23a～23f)，其用于补充液体，液体注入口(23a～23f)能够开闭且能够密封，通过使可挠部(25a～25f)发生变形，从而能够进行储存罐(20a～20f)的体积的变更。
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公开(公告)号：CN107264038A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710423027.5
申请日：2014-01-10
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/165
CPC classification number: B41J2/16535 , B41J2/16544
Abstract: 本发明提供一种液体喷射装置以及维护方法。液体喷射装置具备：液体喷射头，其朝向目标物，从喷嘴形成面上的喷嘴喷射液体；擦拭部件，其能够对所述喷嘴形成面进行擦拭；移动机构，其在所述擦拭被实施时，使所述液体喷射头与所述擦拭部件进行相对移动；控制部，其以如下方式对所述移动机构进行控制，即，与在所述喷嘴形成面和所述目标物的对置距离为第一距离的条件下喷射所述液体的情况相比，在所述对置距离为长于第一距离的第二距离的条件下喷射所述液体的情况中，减慢实施所述擦拭时的液体喷射头与所述擦拭部件的相对移动速度。
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公开(公告)号：CN103921557B
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN201410012779.9
申请日：2014-01-10
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/165
CPC classification number: B41J2/16535 , B41J2/16544
Abstract: 本发明提供一种液体喷射装置以及维护方法。液体喷射装置具备：液体喷射头，其朝向目标物，从喷嘴形成面上的喷嘴喷射液体；擦拭部件，其能够对所述喷嘴形成面进行擦拭；移动机构，其在所述擦拭被实施时，使所述液体喷射头与所述擦拭部件进行相对移动；控制部，其以如下方式对所述移动机构进行控制，即，与在所述喷嘴形成面和所述目标物的对置距离为第一距离的条件下喷射所述液体的情况相比，在所述对置距离为长于第一距离的第二距离的条件下喷射所述液体的情况中，减慢实施所述擦拭时的液体喷射头与所述擦拭部件的相对移动速度。
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