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公开(公告)号：CN101380558A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810212112.8
申请日：2008-09-05
CPC classification number: C07C15/38 , C07C2603/28 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明涉及一种制备固体颗粒的方法以及通过使用该方法制备的固体颗粒。制备固体颗粒的方法包括：在第一溶剂中溶解有机或无机化合物以提供包含有机或无机化合物的溶液，在第二溶剂中分散所述包含有机或无机化合物的溶液以提供乳液，并且在分散溶剂中浓缩所述乳液以将所述有机或无机化合物作为固体颗粒沉淀出来，从而提供包含固体颗粒的分散体。所述第一溶剂是有机溶剂或水性溶剂，而第二溶剂是与所述第一溶剂不相容的有机溶剂或水性溶剂。根据本发明可以制备相当广泛的有机或无机化合物的固体颗粒，此外，可以制备包含高浓度的有机或无机化合物颗粒的分散体。因此，根据本发明的方法，可大批量生产固体颗粒。
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公开(公告)号：CN101380558B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200810212112.8
申请日：2008-09-05
CPC classification number: C07C15/38 , C07C2603/28 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明涉及一种制备固体颗粒的方法以及通过使用该方法制备的固体颗粒。制备固体颗粒的方法包括：在第一溶剂中溶解有机或无机化合物以提供包含有机或无机化合物的溶液，在第二溶剂中分散所述包含有机或无机化合物的溶液以提供乳液，并且在分散溶剂中浓缩所述乳液以将所述有机或无机化合物作为固体颗粒沉淀出来，从而提供包含固体颗粒的分散体。所述第一溶剂是有机溶剂或水性溶剂，而第二溶剂是与所述第一溶剂不相容的有机溶剂或水性溶剂。根据本发明可以制备相当广泛的有机或无机化合物的固体颗粒，此外，可以制备包含高浓度的有机或无机化合物颗粒的分散体。因此，根据本发明的方法，可大批量生产固体颗粒。
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公开(公告)号：CN112970095A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN202080005934.8
申请日：2020-01-22
Applicant: 株式会社东芝 , 铠侠股份有限公司 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/205 , C23C16/44
Abstract: 根据实施方式，本申请提供一种处理装置，其对在包含硅及卤族元素的原料物质的反应或者包含硅的原料物质与包含卤族元素的原料物质的反应中产生的副产物进行处理。处理装置具备处理液罐、处理槽、供给机构和排气机构。在处理液罐中贮液包含碱性的水溶液处理液。向处理槽中投入包含副产物被处理构件。供给机构从处理液罐向处理槽供给处理液，通过所供给的处理液，在处理槽中对副产物进行处理。排气机构将通过处理液与副产物的反应而产生的气体从处理槽排气。
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公开(公告)号：CN111758149A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201880090262.8
申请日：2018-10-25
IPC: H01L21/205 , A62D3/36 , A62D101/49 , C23C16/44
Abstract: 根据一实施方式，提供一种处理液。处理液是用于对通过使用包含硅及卤素的气体使含硅物在基材上沉积的方法而产生的副产物进行处理的处理液。处理液包含无机碱及有机碱中的至少一者，且为碱性。
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公开(公告)号：CN112970095B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202080005934.8
申请日：2020-01-22
Applicant: 株式会社东芝 , 铠侠股份有限公司 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/205 , C23C16/44
Abstract: 根据实施方式，本申请提供一种处理装置，其对在包含硅及卤族元素的原料物质的反应或者包含硅的原料物质与包含卤族元素的原料物质的反应中产生的副产物进行处理。处理装置具备处理液罐、处理槽、供给机构和排气机构。在处理液罐中贮液包含碱性的水溶液处理液。向处理槽中投入包含副产物被处理构件。供给机构从处理液罐向处理槽供给处理液，通过所供给的处理液，在处理槽中对副产物进行处理。排气机构将通过处理液与副产物的反应而产生的气体从处理槽排气。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN112997281A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202080005933.3
申请日：2020-01-15
Applicant: 株式会社东芝 , 铠侠股份有限公司 , 国立大学法人东北大学
Abstract: 根据实施方式，本申请提供一种判定方法。判定方法对在使包含硅及卤素的物质反应或者使包含硅的物质与包含卤素的物质反应的工序中产生的副产物的处理的进行判定。副产物的处理包括使包含水的处理液与副产物接触而得到第一固形物。判定方法包括基于关于第一固形物的Si‑α键(α为选自由F、Cl、Br及I构成的组中的至少1种)及Si‑H键中的至少一者的利用化学分析的信号来判定副产物的处理的进行。
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公开(公告)号：CN111758149B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN201880090262.8
申请日：2018-10-25
Applicant: 株式会社东芝 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/205 , A62D3/36 , A62D101/49 , C23C16/44
Abstract: 根据一实施方式，提供一种处理液。处理液是用于对通过使用包含硅及卤素的气体使含硅物在基材上沉积的方法而产生的副产物进行处理的处理液。处理液包含无机碱及有机碱中的至少一者，且为碱性。
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公开(公告)号：CN111758148B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN201880090250.5
申请日：2018-10-25
Applicant: 株式会社东芝 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/205 , A62D3/36 , A62D101/49 , C23C16/44
Abstract: 根据一实施方式，提供一种处理液。处理液是用于对具有环状结构的卤硅烷类进行处理的处理液。处理液包含无机碱及有机碱中的至少一者，且为碱性。
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公开(公告)号：CN112997281B
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202080005933.3
申请日：2020-01-15
Applicant: 株式会社东芝 , 铠侠股份有限公司 , 国立大学法人东北大学
Abstract: 根据实施方式，本申请提供一种判定方法。判定方法对在使包含硅及卤素的物质反应或者使包含硅的物质与包含卤素的物质反应的工序中产生的副产物的处理的进行判定。副产物的处理包括使包含水的处理液与副产物接触而得到第一固形物。判定方法包括基于关于第一固形物的Si‑α键(α为选自由F、Cl、Br及I构成的组中的至少1种)及Si‑H键中的至少一者的利用化学分析的信号来判定副产物的处理的进行。
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