公开(公告)号：CN102119242B

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：CN200980131176.8

申请日：2009-06-19

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 彼德·L·凯勒门 ,  法兰克·辛克莱 ,  菲德梨克·卡尔森 ,  朱利安·G·布雷克

IPC: C30B13/16 ,  C30B13/14

CPC classification number: C30B11/003 ,  C01B33/037 ,  C30B11/001 ,  C30B28/06 ,  C30B29/02 ,  C30B29/06 ,  C30B29/08 ,  C30B29/406 ,  C30B29/60

Abstract: 揭示一种纯化熔体的装置以及一种用以形成板的装置。于腔室中在第一方向冷凝熔体的第一部分。在第一方向熔化第一部分的小部分。熔体的第二部分保持冷凝。从腔室流出熔体，以及从腔室移除第二部分。冷凝以在溶体及第二部分中浓缩溶质。第二部分可以是高溶质浓度的块体。此系统可以并入板形成装置及其他组件，例如泵、过滤器或微粒捕集阱。

公开(公告)号：CN102119242A

公开(公告)日：2011-07-06

申请号：CN200980131176.8

申请日：2009-06-19

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 彼德·L·凯勒门 ,  法兰克·辛克莱 ,  菲德梨克·卡尔森 ,  朱利安·G·布雷克

IPC: C30B13/16 ,  C30B13/14

CPC classification number: C30B11/003 ,  C01B33/037 ,  C30B11/001 ,  C30B28/06 ,  C30B29/02 ,  C30B29/06 ,  C30B29/08 ,  C30B29/406 ,  C30B29/60

Abstract: 揭示一种纯化熔体的装置。于腔室中在第一方向冷凝熔体的第一部分。在第一方向熔化第一部分的小部分。熔体的第二部分保持冷凝。从腔室流出熔体，以及从腔室移除第二部分。冷凝以在溶体及第二部分中浓缩溶质。第二部分可以是高溶质浓度的块体。此系统可以并入板形成装置及其他组件，例如泵、过滤器或微粒捕集阱。