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发明公开
光学多层膜过滤器、光学多层膜过滤器的制造方法和电子机器装置失效转让复审申请

公开(公告)号：CN101435888A

公开(公告)日：2009-05-20

申请号：CN200810176318.X

申请日：2008-11-14

Applicant: 爱普生拓优科梦株式会社

Inventor： 澁谷宗裕

IPC: G02B5/20 , G02B1/10 , C23C14/10 , C23C14/24

Abstract: 本发明提供光学多层膜过滤器及其制造方法，该光学多层膜过滤器能降低灰尘的附着且能容易地除去附着的灰尘。光学多层膜过滤器10具有由形成于玻璃基板1上的两个以上的层构成的无机薄膜2。无机薄膜2中，在玻璃基板的表面依次交替层积TiO2层和SiO2层，最表层由SiO2层(2L30)构成，在无机薄膜2的最表层的表面形成有含氟有机硅化合物膜5。并且，构成最表层的SiO2层的密度为1.9～2.1g/cm3，进而无机薄膜2的最表层的SiO2层设为第1层时，在第1层SiO2层的下层的第2层(2H30)和第4层(2H29)选择性地形成密度为4.1～4.8g/cm3的TiO2层，在第3层(2L29)选择性地形成密度为1.9～2.1g/cm3的SiO2层。这些SiO2层和TiO2层使用真空蒸镀法成膜。

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