一种基于GMM和HMM的步相检测方法

    公开(公告)号:CN113901910A

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN202111161656.8

    申请日:2021-09-30

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于GMM和HMM的步相检测方法,涉及行人导航领域,包括基于高斯混合模型的粗划分以及基于隐马尔可夫模型的进一步概率估计。本发明根据本方法的应用需求,将一个步态周期划分为支撑相与摆动相两相,根据支撑相与摆动相摆动幅度差别大的特点,假设支撑相与摆动相分属于两个不同的高斯分布,采用高斯混合模型聚类方法将支撑相与摆动相划分到两个簇类。通过分析高斯混合模型粗划分结果的阈值情况,将行走过程分割为一系列连续的步态时间段,并将每一个步态时间段定义为一个观测值,从而得到一组观测序列。本发明不仅提高了现有步态检测方法的可靠性和鲁棒性,也使得应用方法的选取更加简单、方便和灵活。

    一种基于GMM和HMM的步相检测方法

    公开(公告)号:CN113901910B

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202111161656.8

    申请日:2021-09-30

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于GMM和HMM的步相检测方法,涉及行人导航领域,包括基于高斯混合模型的粗划分以及基于隐马尔可夫模型的进一步概率估计。本发明根据本方法的应用需求,将一个步态周期划分为支撑相与摆动相两相,根据支撑相与摆动相摆动幅度差别大的特点,假设支撑相与摆动相分属于两个不同的高斯分布,采用高斯混合模型聚类方法将支撑相与摆动相划分到两个簇类。通过分析高斯混合模型粗划分结果的阈值情况,将行走过程分割为一系列连续的步态时间段,并将每一个步态时间段定义为一个观测值,从而得到一组观测序列。本发明不仅提高了现有步态检测方法的可靠性和鲁棒性,也使得应用方法的选取更加简单、方便和灵活。

    一种双探测外差干涉语音获取系统

    公开(公告)号:CN114061737A

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202111385164.7

    申请日:2021-11-22

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明公开了一种双探测外差干涉语音获取系统,属于无线攻防技术领域,包括探测得到I光和Q光的光路探测部分和对探测得到的I光和Q光进行信号解调的信号解调部分;所述光路部分探测得到的I光和Q光两束光经过直流滤波后得到只含有交流分量的I光和Q光,然后两束光乘以相同的倍频信号,经过低通滤波器滤除高频部分得到两路正交基信号,将两路正交基信号依次进行相除、反正切和高通滤波后得到解调后的语音信号。本发明提供的双探测语音获取系统可以消除由于调制深度偏差导致非线性失真的影响,进而提高语音信号质量。

    一种双探测外差干涉语音获取系统

    公开(公告)号:CN114061737B

    公开(公告)日:2022-10-28

    申请号:CN202111385164.7

    申请日:2021-11-22

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明公开了一种双探测外差干涉语音获取系统,属于无线攻防技术领域,包括探测得到I光和Q光的光路探测部分和对探测得到的I光和Q光进行信号解调的信号解调部分;所述光路部分探测得到的I光和Q光两束光经过直流滤波后得到只含有交流分量的I光和Q光,然后两束光乘以相同的倍频信号,经过低通滤波器滤除高频部分得到两路正交基信号,将两路正交基信号依次进行相除、反正切和高通滤波后得到解调后的语音信号。本发明提供的双探测语音获取系统可以消除由于调制深度偏差导致非线性失真的影响,进而提高语音信号质量。

    一种柔性石墨烯压力传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN114046913A

    公开(公告)日:2022-02-15

    申请号:CN202111363584.5

    申请日:2021-11-17

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明涉及一种柔性石墨烯压力传感器及其制备方法,属于传感器技术领域,所述传感器包括柔性基底、微结构底层、电极、石墨烯薄膜和柔性封装层;所述制备方法包括制备石墨烯薄膜,制作柔性基底并在柔性基底上进行倒模操作、制作圆柱体阵列,最终组合制备柔性石墨烯压力传感器。本发明以聚二甲基硅氧烷为柔性基底,在基底上加工有圆柱形微结构,在支撑石墨烯薄膜的基础上能够提供更大的形变空间,有利于提高传感器的性能,本发明设计的传感器具备柔性好、制备方法简单、成本低廉、灵敏度高的特点,能够应用于柔性电子设备。

    腐蚀CVD法制备石墨烯的铜基底方法

    公开(公告)号:CN113200537A

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN202110674233.X

    申请日:2021-06-17

    Applicant: 燕山大学

    Abstract: 本发明提供一种腐蚀CVD法制备石墨烯的铜基底方法,涉及石墨烯薄膜材料制备领域。本方法先后使用三种腐蚀液,分别是:包含15gFeCl3·6H2O、20ml去离子水和1ml盐酸的氯化铁溶液,H2O:HNO3体积比为10:1的硝酸溶液,H2O:NH3·H2O:H2O2体积比为20:2:1的氨水溶液。增加等离子清洗机处理铜箔工序,能彻底去除铜箔表面污染物,改善铜箔表面粗糙程度,使表面干净平滑,先后使用氯化铁溶液腐蚀铜基底,能高效的腐蚀铜基底同时极大的保证石墨烯薄膜的完整性,经硝酸溶液进一步腐蚀,可进一步除去残留在石墨烯薄膜上的铜颗粒。最后,用配置的过氧化氢氨水溶液洗涤,去除石墨烯表面吸附的杂质。使用PDMS做柔性保护层,能一直有效保护石墨烯的完整性。

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