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公开(公告)号:CN114538501A
公开(公告)日:2022-05-27
申请号:CN202210234274.1
申请日:2022-03-10
Applicant: 燕山大学
IPC: C01G19/02 , B01J20/06 , B01J20/28 , B01J20/30 , B01J23/14 , B01J35/02 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C02F1/28 , C02F1/30 , C02F101/22 , C02F101/34 , C02F101/38
Abstract: 本发明公开了一种氧空位缺陷的SnO2纳米材料,及其制备、使用方法,本发明采用Sn2+为锡源,通过低温下的水热过程将其部分氧化为Sn4+,在SnO2晶格中引入氧空位缺陷。本发明获得的氧空位缺陷的SnO2在应用于吸附和光催化时展现出良好的性能,因氧空位的存在使其具有更宽的光响应范围、更强的光生电子和空穴分离效率、更多的表面吸附和氧化还原反应活性位点,可在环境修复方面发挥作用,对甲基橙的吸附效率为43.4%,模拟太阳光照6min对甲基橙的降解效率高达98.0%,对Cr(VI)的吸附效率为78.0%,模拟太阳光照4min对Cr(VI)的还原效率高达98.3%。本发明的氧空位缺陷的SnO2纳米材料是一种集优异的吸附和光催化活性于一体的光催化剂,其具有优异的吸附和光催化性能,能够应用于多个场景。