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公开(公告)号：CN119255463A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411280017.7
申请日：2024-09-12
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明提供了一种等离子体射流离子源、制备方法及应用，该等离子体射流离子源，包括：安装体，安装体为一体成型，安装体具有金属容纳腔、正极安装位、第一注入孔和载气流道；金属容纳腔为环状结构，位于安装体内形成负极安装位，与正极安装位相对设置，且二者之间具有预设间距；正电极，固定于正极安装位；负电极，填充于金属容纳腔内，负电极的材料的熔点低于安装体的材料的熔点。上述的等离子体射流离子源中，由于安装体为一体成型的结构，金属容纳腔和正极安装位的预设间距，可以精确的控制在1mm以内。正电极固定在正极安装位上，因此负电极和正电极的电极间距即为预设间距，达到了精确控制电极间距，准确控制放电间距的目的。
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