-
公开(公告)号：CN102131956A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200980133523.0
申请日：2009-08-21
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C14/56
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/562
Abstract: 本发明提供一种送出单元、卷取单元的更换作业较容易的连续成膜装置。该连续成膜装置具备真空腔室(1)、成膜辊(2)、对卷挂在其上的被成膜材从侧方供给成膜物质的蒸发源(7L1、7L2、7R)、和将上述被成膜材对上述成膜辊(2)供给的送出单元(3)及将成膜后的被成膜材卷取的卷取单元(4)。真空腔室(1)具有用于蒸发源的送入及送出的蒸发源用开口、将其开闭的蒸发源用门部(16L、16R)、与上述蒸发源用开口另外地设置的用于送出单元(3)及卷取单元(4)的送出及送入的被成膜材用开口、和将其开闭的被成膜材用门部(17L、17R)。
-
公开(公告)号：CN106011772B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201610194309.8
申请日：2016-03-31
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明提供一种成膜装置及成膜装置的分隔壁构造体，本发明的分隔壁构造体在成膜装置的腔室的内部形成至少1个成膜区。分隔壁构造体具备周向限制部和一对分隔壁。周向限制部与分隔壁相连，使得该周向限制部与分隔壁的相对位置被固定。分隔壁的内侧面在分隔壁被安装于腔室时与成膜辊的外周面隔开间隙地对置。周向限制部形成面向成膜辊外周面的成膜区。本发明的成膜装置具备一对分隔壁，前述一对分隔壁被固定于腔室，在成膜辊的宽度方向的两侧配置于在与该成膜辊之间隔开间隙的位置，分隔壁具有朝向成膜辊的径向外侧的外侧面和朝向成膜辊的径向内侧的内侧面，掩模安装在分隔壁的外侧面上，分隔壁的内侧面位于比成膜辊的外周面更靠成膜辊的径向内侧的位置。
-
公开(公告)号：CN105247097B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201480030615.7
申请日：2014-05-15
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C14/50
CPC classification number: C23C14/541 , C23C14/505
Abstract: 本发明提供一种制冷剂泄漏的风险大幅度降低且能够提高冷却效率的成膜装置以及成膜方法。成膜装置(1)包括冷却部(4)、旋转台主体(11)、升降机构(5)以及制冷剂配管(6)，其中，冷却部(4)在腔室(2)的空间(2e)内冷却工件(W)，旋转台主体(11)在工件(W)被载置的状态下以垂直轴为中心旋转，且具有载置冷却部(4)的冷却部载置部(21)和被配置成包围该冷却部载置部(21)的周围且载置工件(W)的工件载置部(22)，升降机构(5)使冷却部(4)在空间(2e)内在第一位置与第二位置之间升降，第一位置是冷却部(4)被载置于旋转台主体(11)位置，第二位置是冷却部(4)从该旋转台主体(11)向上方隔开距离且与被载置于工件载置部(22)的工件(W)的侧面相向的位置，制冷剂配管(6)被安装于腔室(2)，且以能够装拆的方式连接于冷却部(4)，向该冷却部(4)供给制冷剂。
-
公开(公告)号：CN105264110A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201480031318.4
申请日：2014-05-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/3277 , C23C14/562 , H01J37/32513 , H01J37/32733 , H01J37/32807 , H01J37/3288 , H01J37/32899 , H01J37/3417 , H01J37/3447 , H01J2237/162 , H01J2237/20278 , H01J2237/332 , H01L21/67132
Abstract: 提供一种能够不将成膜单元及其上游侧和下游侧单元上下重叠而确保作业空间的成膜装置。成膜装置包括成膜单元（16）、和配置在其左右的上游侧及下游侧单元（14、18）。成膜单元（16）具有：成膜辊（70）；多个引导辊（72）；主腔室（64），具有成膜辊收纳部（74）及其上侧的引导辊收纳部（76）；第1加工腔室和第2加工腔室（66、68），在成膜辊收纳部（74）的左右收纳多个成膜加工用设备（84、86）；和加工腔室支承部（104），将加工腔室（66、68）支承为，该加工腔室（66、68）能够在成膜用的通常位置与向左右退避的退避位置之间移动，并且能够在该退避位置与在前后方向上离开的露出位置之间移动。
-
公开(公告)号：CN106460173B
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201580018128.3
申请日：2015-02-27
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C16/509 , C23C16/54 , H05H1/46
Abstract: 提供一种在关于成膜辊的轴向的进行成膜的范围中、在不被卷绕基材的部分中防止异常放电的发生的等离子体化学气相沉淀成膜装置。等离子体化学气相沉淀成膜装置（10）具备：真空腔室（1）；金属制的成膜辊（2），在该成膜辊（2）的外周面中的周方向的一部分上卷绕带状的基材；磁场生成部（3），配置在成膜辊（2）的内部，在成膜辊（2）的外周面中的被卷绕基材的部分的外侧生成磁场；电源（4），连接在成膜辊（2）上，对该成膜辊（2）施加用来在磁场的区域内生成等离子体的交流电压；罩（9），将成膜辊（2）的外周面中的相对于被卷绕基材（A）的部分（2a）隔着该成膜辊（2）的旋转轴位于相反侧的部分且不与该基材（A）接触的部分（2b）覆盖。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106011772A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610194309.8
申请日：2016-03-31
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/562 , C23C14/042 , C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种成膜装置及成膜装置的分隔壁构造体，本发明的分隔壁构造体在成膜装置的腔室的内部形成至少1个成膜区。分隔壁构造体具备周向限制部和一对分隔壁。周向限制部与分隔壁相连，使得该周向限制部与分隔壁的相对位置被固定。分隔壁的内侧面在分隔壁被安装于腔室时与成膜辊的外周面隔开间隙地对置。周向限制部形成面向成膜辊外周面的成膜区。本发明的成膜装置具备一对分隔壁，前述一对分隔壁被固定于腔室，在成膜辊的宽度方向的两侧配置于在与该成膜辊之间隔开间隙的位置，分隔壁具有朝向成膜辊的径向外侧的外侧面和朝向成膜辊的径向内侧的内侧面，掩模安装在分隔壁的外侧面上，分隔壁的内侧面位于比成膜辊的外周面更靠成膜辊的径向内侧的位置。
-
公开(公告)号：CN105264108A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201480031218.1
申请日：2014-05-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 提供一种能够高效地进行维护的脱气处理装置。脱气处理装置包括：上侧及下侧辊（18A、18B），一边将被成膜材（10）上下地输送一边使其沿行进方向行进；板式加热器（12），配设为与蜿蜒的被成膜材（10）相邻；和具有外壁的腔室（14）。外壁包括分别具有上侧辊支承部（20a、22a）及下侧辊支承部（20b、22b）的前侧壁（20）和后侧壁（22）。在前侧壁（20）和后侧壁（22）的至少一方上，在其上侧辊支承部与下侧辊支承部之间的区域中形成有辊间开口（40、42），该辊间开口（40、42）具有将蜿蜒的被成膜材（10）及板式加热器（12）在上述行进方向上横穿的形状。
-
公开(公告)号：CN102575349B
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201080045649.5
申请日：2010-10-01
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C16/503 , C23C16/4412 , C23C16/50 , C23C16/505 , C23C16/509 , C23C16/54 , C23C16/545 , H01J37/32036 , H01J37/32366 , H01J37/32513 , H01J37/3266 , H01J37/3277 , H05H1/24 , H05H1/46 , H05H2001/4645 , H05H2001/485
Abstract: 本发明的等离子体CVD装置(1)包括：真空室(3)；一对成膜辊(2、2)，配置在真空室(3)内，与交流电源(8)的两极连接并且基材(W)缠挂在该对成膜辊上；气体供给装置(5)，向较连结一对成膜辊(2、2)的旋转中心的线靠一侧的区域的一部分或全部即成膜区域(D)供给包含原料气体的气体；以及磁场发生装置(7)，通过交流电源(8)向各成膜辊(2、2)分别施加交流电源形成将既定区域的原料气体等离子体化的磁场，该磁场发生装置(7)将与一对成膜辊(2、2)中位于成膜区域(D)内的部位的表面邻接的区域的原料气体等离子体化而形成等离子体区域(P)，基材(W)以通过等离子体区域(P)的方式缠挂在一对成膜辊(2、2)上。
-
公开(公告)号：CN105264110B
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201480031318.4
申请日：2014-05-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: H01J37/3277 , C23C14/562 , H01J37/32513 , H01J37/32733 , H01J37/32807 , H01J37/3288 , H01J37/32899 , H01J37/3417 , H01J37/3447 , H01J2237/162 , H01J2237/20278 , H01J2237/332 , H01L21/67132
Abstract: 提供一种能够不将成膜单元及其上游侧和下游侧单元上下重叠而确保作业空间的成膜装置。成膜装置包括成膜单元（16）、和配置在其左右的上游侧及下游侧单元（14、18）。成膜单元（16）具有：成膜辊（70）；多个引导辊（72）；主腔室（64），具有成膜辊收纳部（74）及其上侧的引导辊收纳部（76）；第1加工腔室和第2加工腔室（66、68），在成膜辊收纳部（74）的左右收纳多个成膜加工用设备（84、86）；和加工腔室支承部（104），将加工腔室（66、68）支承为，该加工腔室（66、68）能够在成膜用的通常位置与向左右退避的退避位置之间移动，并且能够在该退避位置与在前后方向上离开的露出位置之间移动。
-
公开(公告)号：CN106460173A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580018128.3
申请日：2015-02-27
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C16/509 , C23C16/54 , H05H1/46
Abstract: 提供一种在关于成膜辊的轴向的进行成膜的范围中、在不被卷绕基材的部分中防止异常放电的发生的等离子体化学气相沉淀成膜装置。等离子体化学气相沉淀成膜装置（10）具备：真空腔室（1）；金属制的成膜辊（2），在该成膜辊（2）的外周面中的周方向的一部分上卷绕带状的基材；磁场生成部（3），配置在成膜辊（2）的内部，在成膜辊（2）的外周面中的被卷绕基材的部分的外侧生成磁场；电源（4），连接在成膜辊（2）上，对该成膜辊（2）施加用来在磁场的区域内生成等离子体的交流电压；罩（9），将成膜辊（2）的外周面中的相对于被卷绕基材（A）的部分（2a）隔着该成膜辊2）的旋转轴位于相反侧的部分且不与该基材A）接触的部分（2b）覆盖。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
14
records
(took 0.023 seconds)
