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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100528070C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200580030851.X
申请日：2005-09-05
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: A61B3/02
Abstract: 一种视野计，包括：显示设备(1)、红外发光二极管(2)、CCD摄像头(3)、单向透视玻璃(4)、图像处理设备(5)、计算机(6)以及操作开关(7)。计算机(6)在显示设备(1)上的多个预定位置显示用于固定受检者视线的固定视标以及用于向受检者的瞳孔提供光刺激的光刺激视标。红外发光二极管(2)向受检者的眼睛发射红外光。CCD摄像头(3)利用红外发光二极管(2)发射的红外光来摄取受检者眼睛的图像。图像处理设备(5)基于CCD摄像头(3)摄取的图像检测受检者的瞳孔直径。计算机(6)基于图像处理设备(5)检测到的受检者的瞳孔直径变化测量受检者的视野。本发明的特征在于显示设备(1)包括能够分别调节屏幕的背景亮度和光刺激视标的亮度的显示设备。
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公开(公告)号：CN101106940B
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN200680003283.9
申请日：2006-01-25
Applicant: 松下电工株式会社
CPC classification number: A61B5/0059 , A61B5/0537 , A61B5/1075 , A61B5/4872 , A61B5/6823 , A61B5/6831
Abstract: 一种体脂肪测定装置，包括：电极，与被检者的腰部相接触；光学传感器，由光照射部和光接收部构成；阻抗算出部，用于算出电极之间的阻抗；皮下脂肪厚度算出部，用于通过光学传感器检测到的值算出被检者的皮下脂肪厚度；以及体脂肪算出部，其用于从使用阻抗算出部算出的阻抗所确定的被检者的脂肪总量中，减去使用皮下脂肪厚度算出部算出的皮下脂肪厚度所确定的皮下脂肪量，来确定被检者的内脏脂肪量。借助于此，不仅可以提高内脏脂肪量的测定精度，而且即使没有数据库也可以容易地计算出被检者的内脏脂肪量。
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公开(公告)号：CN101018501A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200580030851.X
申请日：2005-09-05
Applicant: 松下电工株式会社
IPC: A61B3/02
Abstract: 一种视野计，包括：显示设备1、红外发光二极管2、CCD摄像头3、单向透视玻璃4、图像处理设备5、计算机6以及操作开关7。计算机6在显示设备1上的多个预定位置显示用于固定受检者视线的固定视标以及用于向受检者的瞳孔提供光刺激的光刺激视标。红外发光二极管2向受检者的眼睛发射红外光。CCD摄像头3利用红外发光二极管2发射的红外光来摄取受检者眼睛的图像。图像处理设备5基于CCD摄像头3摄取的图像检测受检者的瞳孔直径。计算机6基于图像处理设备5检测到的受检者的瞳孔直径变化测量受检者的视野。本发明的特征在于显示设备1包括能够分别调节屏幕的背景亮度和光刺激视标的亮度的显示设备。
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公开(公告)号：CN101106940A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200680003283.9
申请日：2006-01-25
Applicant: 松下电工株式会社
CPC classification number: A61B5/0059 , A61B5/0537 , A61B5/1075 , A61B5/4872 , A61B5/6823 , A61B5/6831
Abstract: 一种体脂肪测定装置，包括：电极，与被检者的腰部相接触；光学传感器，由光照射部和光接收部构成；阻抗算出部，用于算出电极之间的阻抗；皮下脂肪厚度算出部，用于通过光学传感器检测到的值算出被检者的皮下脂肪厚度；以及体脂肪算出部，其用于从使用阻抗算出部算出的阻抗所确定的被检者的脂肪总量中，减去使用皮下脂肪厚度算出部算出的皮下脂肪厚度所确定的皮下脂肪量，来确定被检者的内脏脂肪量。借助于此，不仅可以提高内脏脂肪量的测定精度，而且即使没有数据库也可以容易地计算出被检者的内脏脂肪量。
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公开(公告)号：CN101681719A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880020761.6
申请日：2008-06-12
Applicant: 松下电工株式会社
CPC classification number: H02J50/10 , H01F27/323 , H01F38/14 , H02J5/005 , H02J7/025 , H02J50/12 , H02J50/70 , Y10T29/49002
Abstract: 根据第一方面，非接触电力传输设备的二次侧包括：与一次侧物理地分离的支持构件；磁层；用于屏蔽电磁噪声的屏蔽层；以及隔热层。二次线圈是平面线圈并由支持构件支持，并且至少磁层被层压在平面线圈的一侧上且与平面线圈成一体。根据第二方面，设备的二次侧包括多个磁层。磁层的每个磁导率彼此不同，并且每个磁层形成具有一次侧的磁路径。
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