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公开(公告)号：CN114417657A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202111621739.0
申请日：2021-12-28
Applicant: 暨南大学
Inventor： 朱建新
IPC: G06F30/23 , G06F17/11 , B23K26/70 , G06F119/08
Abstract: 本发明涉及激光加工技术领域，具体公开了一种水导激光加工温度场的有限差分计算方法，包括通过热传导模型建立三维初始条件、三维边界热交换条件以及第一热传导方程，柱坐标系转换、方程简化步骤，得到二维热传导方程，并更新得出二维初始条件以及二维边界热交换条件，通过Crank‑Nicolson方法将二维热传导方程进行离散，构建差分方程的交替方向隐格式，对二维边界热交换条件进行离散，计算热传导模型的表面温度场分布等步骤。本发明令整个定解问题的离散精度达到二阶，相比于现有技术已有的计算方式，大大减少了模型误差，能够快速计算出更加精确的温度场分布情况。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113495435A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110580510.0
申请日：2021-05-26
Applicant: 暨南大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明为解决数字掩模投影光刻存在实际光刻图形偏离目标设计图形、光刻分辨率难以提高的问题，提出一种数字掩模投影光刻优化方法及系统，其方法包括以下步骤：建立以数字掩模的复振幅分布的矩阵表达式，构建数字掩模投影光刻成像模型；建立以数字掩膜为变量的关于图形保真度的代价函数F；给定二元的目标图形并对所述数字掩模投影光刻成像模型进行数字掩模反演计算，基于所述代价函数F计算对于数字掩模的梯度，对所述数字掩模投影光刻成像模型进行优化，在迭代一定次数或者满足一定条件之后停止迭代，得到数字掩模M；将所述数字掩模M加载在空间光调制器上，得到与目标图形差距最小的光刻图案Z。
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公开(公告)号：CN111046535A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201911166561.8
申请日：2019-11-25
Applicant: 暨南大学
Inventor： 朱建新
IPC: G06F30/20 , G06F119/08
Abstract: 本发明涉及激光加工技术领域，具体公开了一种激光加工热分布计算方法，包括(1)选定基板并定义基板的物性参数；(2)设定基板的初始温度，在基板上建立三维坐标系，确定基板的初始条件；(3)定义激光光束的物理参数，设定激光光束的能量分布以高斯分布热流密度的形式加载；(4)将激光光束垂直照射在基板表面，并移动激光光束通过表面热源边界条件进行加载，确定激光光束照射的外界条件等步骤。本发明的激光加工热分布计算方法，采用激光光束以高斯分布热流密度的形式加载在基板上，建立了三维的热导模型，推算出基板的热分布情况，相比于现有技术中积分平均值的计算方式，大大减少了模型误差，能够快速计算出更加精确的基板热源分布情况。
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公开(公告)号：CN114417657B
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202111621739.0
申请日：2021-12-28
Applicant: 暨南大学
Inventor： 朱建新
IPC: G06F30/23 , G06F17/11 , B23K26/70 , G06F119/08
Abstract: 本发明涉及激光加工技术领域，具体公开了一种水导激光加工温度场的有限差分计算方法，包括通过热传导模型建立三维初始条件、三维边界热交换条件以及第一热传导方程，柱坐标系转换、方程简化步骤，得到二维热传导方程，并更新得出二维初始条件以及二维边界热交换条件，通过Crank‑Nicolson方法将二维热传导方程进行离散，构建差分方程的交替方向隐格式，对二维边界热交换条件进行离散，计算热传导模型的表面温度场分布等步骤。本发明令整个定解问题的离散精度达到二阶，相比于现有技术已有的计算方式，大大减少了模型误差，能够快速计算出更加精确的温度场分布情况。
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公开(公告)号：CN113495435B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202110580510.0
申请日：2021-05-26
Applicant: 暨南大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明为解决数字掩模投影光刻存在实际光刻图形偏离目标设计图形、光刻分辨率难以提高的问题，提出一种数字掩模投影光刻优化方法及系统，其方法包括以下步骤：建立以数字掩模的复振幅分布的矩阵表达式，构建数字掩模投影光刻成像模型；建立以数字掩膜为变量的关于图形保真度的代价函数F；给定二元的目标图形并对所述数字掩模投影光刻成像模型进行数字掩模反演计算，基于所述代价函数F计算对于数字掩模的梯度，对所述数字掩模投影光刻成像模型进行优化，在迭代一定次数或者满足一定条件之后停止迭代，得到数字掩模M；将所述数字掩模M加载在空间光调制器上，得到与目标图形差距最小的光刻图案Z。
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公开(公告)号：CN111046535B
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN201911166561.8
申请日：2019-11-25
Applicant: 暨南大学
Inventor： 朱建新
IPC: G06F30/20 , G06F119/08
Abstract: 本发明涉及激光加工技术领域，具体公开了一种激光加工热分布计算方法，包括(1)选定基板并定义基板的物性参数；(2)设定基板的初始温度，在基板上建立三维坐标系，确定基板的初始条件；(3)定义激光光束的物理参数，设定激光光束的能量分布以高斯分布热流密度的形式加载；(4)将激光光束垂直照射在基板表面，并移动激光光束通过表面热源边界条件进行加载，确定激光光束照射的外界条件等步骤。本发明的激光加工热分布计算方法，采用激光光束以高斯分布热流密度的形式加载在基板上，建立了三维的热导模型，推算出基板的热分布情况，相比于现有技术中积分平均值的计算方式，大大减少了模型误差，能够快速计算出更加精确的基板热源分布情况。
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