公开(公告)号：CN103219014A

公开(公告)日：2013-07-24

申请号：CN201310024847.9

申请日：2013-01-18

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 樋渡诚 ,  山根明 ,  茂智雄 ,  坂胁彰

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/667

CPC classification number: G11B5/84 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/855 ,  H01L21/31116 ,  Y10T29/49046 ,  Y10T29/49048

Abstract: 一种磁记录介质的制造方法，其包括：在非磁性基板（1）上形成磁性层（2）的工序；在磁性层（2）上形成掩模层（3）的工序；在掩模层（3）上形成被图案化为规定的形状的抗蚀剂层（4）的工序；使用抗蚀剂层（4），将掩模层（3）图案化为与该抗蚀剂层（4）对应的形状的工序；使用被图案化了的掩模层（3），将磁性层（2）图案化为与该掩模层（3）对应的形状的工序；和通过反应性等离子体蚀刻除去残存于磁性层（2）上的掩模层（3）的工序，反应性等离子体蚀刻在含有有机化合物的气氛中进行，所述有机化合物具有选自羟基、羰基、羟基羰基、烷氧基、醚基之中的至少一种或多种官能团。

公开(公告)号：CN103219014B

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201310024847.9

申请日：2013-01-18

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 樋渡诚 ,  山根明 ,  茂智雄 ,  坂胁彰

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/667

CPC classification number: G11B5/84 ,  G11B5/3116 ,  G11B5/3163 ,  G11B5/855 ,  H01L21/31116 ,  Y10T29/49046 ,  Y10T29/49048

Abstract: 一种磁记录介质的制造方法，其包括：在非磁性基板（1）上形成磁性层（2）的工序；在磁性层（2）上形成掩模层（3）的工序；在掩模层（3）上形成被图案化为规定的形状的抗蚀剂层（4）的工序；使用抗蚀剂层（4），将掩模层（3）图案化为与该抗蚀剂层（4）对应的形状的工序；使用被图案化了的掩模层（3），将磁性层（2）图案化为与该掩模层（3）对应的形状的工序；和通过反应性等离子体蚀刻除去残存于磁性层（2）上的掩模层（3）的工序，反应性等离子体蚀刻在含有有机化合物的气氛中进行，所述有机化合物具有选自羟基、羰基、羟基羰基、烷氧基、醚基之中的至少一种或多种官能团。