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公开(公告)号：CN107235622B
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201710190346.6
申请日：2017-03-27
Applicant: 日本电气硝子株式会社
IPC: C03B32/00
Abstract: 本发明提供一种玻璃基板的热处理方法，其是在以支撑构件(2)从下方支撑玻璃基板(1)的状态下进行用于降低玻璃基板(1)的热收缩率的热处理的玻璃基板的热处理方法，其中，至少在玻璃基板(1)的下表面(1b)的被支撑区域的周边部(1c)和与其相对的支撑构件(2)的上表面(2a)之间配置低摩擦片(3)，并且将低摩擦片(3)的上表面(3a)的静摩擦系数设为0.5以下，并将低摩擦片(3)的上表面(3a)的表面粗糙度Ra设为玻璃基板(1)的下表面(1b)的表面粗糙度Ra的5倍以上的大小。
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公开(公告)号：CN109437553A
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201811285386.X
申请日：2012-12-25
Applicant: 日本电气硝子株式会社
Abstract: 本发明涉及无碱玻璃，其特征在于，作为玻璃组成，以摩尔％计含有60～70％的SiO2、9.5～17％的Al2O3、0～9％的B2O3、0～8％的MgO、2～15％的CaO、0.1～10％的SrO、0.5～4％的BaO，并且(CaO+SrO+BaO)/Al2O3的摩尔比为0.6～1.0，所述无碱玻璃实质上不含有碱金属氧化物。
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公开(公告)号：CN103068758B
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201180039911.X
申请日：2011-08-10
Applicant: 日本电气硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/091 , C03C3/087 , H01L51/0096 , H01L51/52 , H01L2251/55 , H01L2251/556
Abstract: 本发明的无碱玻璃的特征在于，基本上不含有碱金属氧化物，形变点高于680℃，30～380℃的温度范围内的平均热膨胀系数为40～55×10‑7/℃，液相温度低于1200℃。另外，本发明的无碱玻璃的特征在于，作为玻璃组成，以质量％计，含有SiO255～70％，Al2O310～20％，B2O30.1～4.5％，MgO0～1％，CaO5～15％，SrO0.5～5％，BaO5～15％。
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公开(公告)号：CN102822102B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201180015636.8
申请日：2011-03-22
Applicant: 日本电气硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/091 , C03B17/067 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够满足形成薄膜电路的基板所要求的品质的100μm以下的玻璃基板的制造方法和通过该方法得到的薄板玻璃基板。本发明的方法为用于制造板厚为10～200μm的玻璃基板的方法，包括通过下拉法将熔融玻璃成型为带状的成型工序；对玻璃带进行退火的退火工序；和将玻璃带切断的切断工序，其特征在于，将（退火点＋200℃）～（退火点＋50℃）的温度范围内的平均冷却速度调节为300～2500℃/分钟的范围。
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公开(公告)号：CN104039727A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201280064559.X
申请日：2012-12-25
Applicant: 日本电气硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/091 , C03C3/093 , H01L51/0096
Abstract: 本发明涉及无碱玻璃，其特征在于，作为玻璃组成，以摩尔％计含有60～70％的SiO2、9.5～17％的Al2O3、0～9％的B2O3、0～8％的MgO、2～15％的CaO、0.1～10％的SrO、0.5～4％的BaO，并且(CaO+SrO+BaO)/Al2O3的摩尔比为0.6～1.0，所述无碱玻璃实质上不含有碱金属氧化物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103068758A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201180039911.X
申请日：2011-08-10
Applicant: 日本电气硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/091 , C03C3/087 , H01L51/0096 , H01L51/52 , H01L2251/55 , H01L2251/556
Abstract: 本发明的无碱玻璃的特征在于，基本上不含有碱金属氧化物，形变点高于680℃，30～380℃的温度范围内的平均热膨胀系数为40～55×10-7/℃，液相温度低于1200℃。另外，本发明的无碱玻璃的特征在于，作为玻璃组成，以质量％计，含有SiO255～70％，Al2O310～20％，B2O30.1～4.5％，MgO0～1％，CaO5～15％，SrO0.5～5％，BaO5～15％。
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公开(公告)号：CN102822102A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201180015636.8
申请日：2011-03-22
Applicant: 日本电气硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/091 , C03B17/067 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够满足形成薄膜电路的基板所要求的品质的100μm以下的玻璃基板的制造方法和通过该方法得到的薄板玻璃基板。本发明的方法为用于制造板厚为10～200μm的玻璃基板的方法，包括通过下拉法将熔融玻璃成型为带状的成型工序；对玻璃带进行退火的退火工序；和将玻璃带切断的切断工序，其特征在于，将（退火点＋200℃）～（退火点＋50℃）的温度范围内的平均冷却速度调节为300～2500℃/分钟的范围。
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公开(公告)号：CN107235622A
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201710190346.6
申请日：2017-03-27
Applicant: 日本电气硝子株式会社
IPC: C03B32/00
Abstract: 本发明提供一种玻璃基板的热处理方法，其是在以支撑构件(2)从下方支撑玻璃基板(1)的状态下进行用于降低玻璃基板(1)的热收缩率的热处理的玻璃基板的热处理方法，其中，至少在玻璃基板(1)的下表面(1b)的被支撑区域的周边部(1c)和与其相对的支撑构件(2)的上表面(2a)之间配置低摩擦片(3)，并且将低摩擦片(3)的上表面(3a)的静摩擦系数设为0.5以下，并将低摩擦片(3)的上表面(3a)的表面粗糙度Ra设为玻璃基板(1)的下表面(1b)的表面粗糙度Ra的5倍以上的大小。
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公开(公告)号：CN103492333A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201280018365.6
申请日：2012-04-19
Applicant: 日本电气硝子株式会社
CPC classification number: G02B27/2214 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C3/097 , G02B3/14 , G02F2001/133302 , G02F2001/294 , G02F2201/54
Abstract: 本发明的液晶透镜用玻璃基板，其中，作为玻璃组成，以mol％计，含有：SiO245～75％、Al2O35～15％、B2O30～15％、MgO0～15％、CaO0～15％，并且板厚为400μm以下。
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公开(公告)号：CN103313948A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201280005480.X
申请日：2012-03-07
Applicant: 日本电气硝子株式会社
CPC classification number: C03C3/091 , C03C3/095 , C03C3/097 , H01L51/0096
Abstract: 本发明的无碱玻璃，其特征在于，作为玻璃组成，以质量％计，含有SiO255～80％、Al2O310～25％、B2O32～5.5％、MgO3～8％、CaO3～10％、SrO0.5～5％、BaO0.5～7％，摩尔比MgO/CaO为0.5～1.5，实质上不含有碱金属氧化物，杨氏模量高于80GPa。
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