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发明公开
基板支承台以及基板保持装置审中-实审

公开(公告)号：CN117912924A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202311161560.0

申请日：2023-09-11

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 朝香重乙 , 中泽喜之

IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , H01L21/687

Abstract: 本发明提供基板支承台以及基板保持装置，能够变更支承基板的位置并且能够抑制支承基板的位置变化。配置于离子束照射装置(1)且支承被照射离子束的基板的基板支承台(10)构成为，具备支承基板的被支承面(Sb)的多个第一支承部件(20)以及能够固定第一支承部件(20)的支承体(11)，在与基板被支承的状态下的被支承面(Sb)平行的一个方向(D)上，能够在规定的范围内选择第一支承部件(20)相对于支承体(11)的配置位置，第一支承部件(20)通过固定部件(25)固定于所选择的配置位置。

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