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公开(公告)号：CN1997460A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200580019811.5
申请日：2005-06-13
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供了一种抗反射薄膜的制备方法，包括使用缝模将涂布液涂敷到由支撑辊支撑并连续运行的基料上形成至少一层，所述层在干燥状态下的厚度为200nm或更小并且折射率低于所述基料的折射率。该缝模在运行的基料的下游具有边缘，该边缘沿运行的基料方向的平台段长度是30－100μm的，并且在运行的基料上游的缝模的边缘与基料表面之间的间距调整至比在运行的基料下游的缝模的边缘与基料表面之间的间距大30－120μm。
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公开(公告)号：CN1727182A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：CN200510083399.5
申请日：2005-07-18
CPC classification number: B05C1/0817
Abstract: 一种凹版涂布装置，包括凹印辊，用于连续地将涂布溶液通过将外周表面的下部部分浸入到涂布溶液中而涂布到凹印辊(15)的外周表面上的复写印版，以及用于将涂布在凹印辊的外周表面上的多余涂布溶液部分的刮墨刀片，传输到凹印辊的可变形剥膜支撑件的表面与凹印辊的外周表面相接触以传输和涂布指定量的涂布溶液到可变形剥膜支撑件的表面上，其中所述装置还包括凹印辊的外周表面移出的部分，所述部分从凹印辊的外周表面通过凹印辊的旋转从复写印版移出的侧面上的复写印版延伸，挡板印版具有安置在凹印辊的轴向中心O之上的尖端和位于凹印辊的外周表面上的涂布溶液的多余部分用刮墨刀片刮掉的刮除点之下。
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公开(公告)号：CN106457756B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201580025679.2
申请日：2015-05-18
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B32B7/02 , F21S2/00 , F21V3/00 , F21V3/04 , G02F1/13357
Abstract: 本发明提供一种含量子点的层叠体的制造方法、含量子点的层叠体、背光单元、液晶显示装置及含量子点的组合物。本发明的含量子点的层叠体的制造方法依次具有如下工序：将含有量子点、固化性化合物及触变剂且剪切速度500s‑1及1s‑1时的粘度为3～100mPa·s及300mPa·s以上的含量子点的组合物涂布于第1基材上而形成涂膜的工序；在涂膜上层叠第2基材的工序；及对涂膜施加外部刺激而进行固化，形成含量子点的层的工序，并且生产性较高，可得到不发生涂布条纹的含量子点的层，且含量子点的层叠体的膜厚不均较小。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100389957C
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200510083399.5
申请日：2005-07-18
CPC classification number: B05C1/0817
Abstract: 一种凹版涂布装置，包括凹印辊，用于连续地将涂布溶液通过将外周表面的下部部分浸入到涂布溶液中而涂布到凹印辊(15)的外周表面上的复写印版，以及用于将涂布在凹印辊的外周表面上的多余涂布溶液部分的刮墨刀片，传输到凹印辊的可变形剥膜支撑件的表面与凹印辊的外周表面相接触以传输和涂布指定量的涂布溶液到可变形剥膜支撑件的表面上，其中所述装置还包括凹印辊的外周表面移出的部分，所述部分从凹印辊的外周表面通过凹印辊的旋转从复写印版移出的侧面上的复写印版延伸，挡板印版具有安置在凹印辊的轴向中心O之上的尖端和位于凹印辊的外周表面上的涂布溶液的多余部分用刮墨刀片刮掉的刮除点之下。
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公开(公告)号：CN111867375A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980017998.7
申请日：2019-02-27
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的第1课题在于提供一种抗菌性及抗病毒性优异且不易发生变色的抗菌膜。并且，本发明的第2课题在于提供一种能够获得抗菌性及抗病毒性优异且不易发生变色的抗菌膜的抗菌组合物。并且，本发明的第3课题在于提供一种具备上述抗菌膜的带抗菌膜的基材。并且，本发明的第4课题在于提供一种使用上述抗菌膜及上述抗菌组合物的抗菌性的赋予方法。本发明的抗菌膜包含含有银的抗菌剂、粘合剂、抗病毒剂及氟系表面活性剂。
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公开(公告)号：CN111867375B
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN201980017998.7
申请日：2019-02-27
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的第1课题在于提供一种抗菌性及抗病毒性优异且不易发生变色的抗菌膜。并且，本发明的第2课题在于提供一种能够获得抗菌性及抗病毒性优异且不易发生变色的抗菌膜的抗菌组合物。并且，本发明的第3课题在于提供一种具备上述抗菌膜的带抗菌膜的基材。并且，本发明的第4课题在于提供一种使用上述抗菌膜及上述抗菌组合物的抗菌性的赋予方法。本发明的抗菌膜包含含有银的抗菌剂、粘合剂、抗病毒剂及氟系表面活性剂。
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公开(公告)号：CN111902044A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201980021168.1
申请日：2019-03-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成着色得到抑制且抗菌性优异、膜裂得到抑制的抗菌膜的抗菌性组合物、抗菌膜及带抗菌膜的基材。本发明的抗菌性组合物含有包含磷酸锆及负载于所述磷酸锆上的银的银类抗菌剂、具有聚合性基团的单体及溶剂，具有聚合性基团的单体包含具有聚合性基团及亲水性基团的第1单体和具有聚合性基团而不具有亲水性基团的第2单体，第1单体的含量相对于具有聚合性基团的单体总质量为30～70质量％。
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公开(公告)号：CN106457756A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580025679.2
申请日：2015-05-18
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B32B7/02 , F21S2/00 , F21V3/00 , F21V3/04 , G02F1/13357
CPC classification number: G02F1/133617 , B29D11/0073 , B29D11/00788 , B32B7/02 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/36 , B32B37/1284 , B32B37/203 , B32B2037/243 , B32B2255/10 , B32B2255/20 , B32B2255/205 , B32B2255/26 , B32B2264/10 , B32B2264/102 , B32B2307/412 , B32B2307/422 , B32B2307/546 , B32B2307/7244 , B32B2307/732 , B32B2310/0831 , B32B2457/12 , B32B2457/14 , B32B2457/20 , B32B2457/202 , B82Y20/00 , C09K11/02 , C09K11/08 , G02B6/00 , G02F1/1303 , G02F1/133504 , G02F1/133528 , G02F1/133615 , G02F1/133621 , G02F2001/133614 , G02F2202/023 , G02F2202/28 , G02F2202/36 , G02F2203/05
Abstract: 本发明提供一种含量子点的层叠体的制造方法、含量子点的层叠体、背光单元、液晶显示装置及含量子点的组合物。本发明的含量子点的层叠体的制造方法依次具有如下工序：将含有量子点、固化性化合物及触变剂且剪切速度500s-1及1s-1时的粘度为3～100mPa·s及300mPa·s以上的含量子点的组合物涂布于第1基材上而形成涂膜的工序；在涂膜上层叠第2基材的工序；及对涂膜施加外部刺激而进行固化，形成含量子点的层的工序，并且生产性较高，可得到不发生涂布条纹的含量子点的层，且含量子点的层叠体的膜厚不均较小。
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