薄膜纵向拉伸装置及薄膜纵向拉伸方法

    公开(公告)号:CN114536726B

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN202210176119.9

    申请日:2022-02-24

    Abstract: 本发明涉及一种薄膜纵向拉伸装置及薄膜纵向拉伸方法,薄膜纵向拉伸装置包括低速辊压组件及高速辊压组件,铸片依次低速辊压组件及高速辊压组件,并利用低速辊压组件与高速辊压组件之间的转速差纵向拉伸铸片;低速辊压组件及高速辊压组件均能够挤压铸片,以使铸片在低速辊压组件所在的位置及/或高速辊压组件所在的位置分别发生受限形变。本发明能够对铸片进行纵向自由拉伸和辊压形变,以使该铸片在形变受限的基础上进行纵向自由拉伸,以此提高铸片经由该薄膜纵向拉伸装置处理过后得到的薄膜厚度的均匀性和结晶分布的均匀性,进而解决了薄膜易翘曲变形的技术问题。

    一种粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114043794B

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202111353066.5

    申请日:2021-11-16

    Abstract: 本发明提供了一种粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜及其制备方法。所述聚酯基膜由表面层(A层)/中间层(B层)/表面层(A层)通过三层共挤出铸片后,经纵向拉伸、横向拉伸、热定型制成。所述A层包含90~99份的聚酯和1~10份的第一有机抗粘连粒子,所述B层包含99~100份的聚酯和0.1~1份的第二有机抗粘连粒子。本发明提供的粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜具有更加光滑的表面,通过改变A层中抗粘连粒子的含量达到不同表面粗糙度的要求,同时改变B层中抗粘连粒子的含量能在不降低透光率的条件下对雾度等光学性能进行调整。本发明提供的粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜可以满足光学胶离型膜、片式多层陶瓷电容器离型膜等多种高端薄膜的性能需求。

    一种粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114043794A

    公开(公告)日:2022-02-15

    申请号:CN202111353066.5

    申请日:2021-11-16

    Abstract: 本发明提供了一种粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜及其制备方法。所述聚酯基膜由表面层(A层)/中间层(B层)/表面层(A层)通过三层共挤出铸片后,经纵向拉伸、横向拉伸、热定型制成。所述A层包含90~99份的聚酯和1~10份的第一有机抗粘连粒子,所述B层包含99~100份的聚酯和0.1~1份的第二有机抗粘连粒子。本发明提供的粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜具有更加光滑的表面,通过改变A层中抗粘连粒子的含量达到不同表面粗糙度的要求,同时改变B层中抗粘连粒子的含量能在不降低透光率的条件下对雾度等光学性能进行调整。本发明提供的粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜可以满足光学胶离型膜、片式多层陶瓷电容器离型膜等多种高端薄膜的性能需求。

    聚酯光学基膜及其应用

    公开(公告)号:CN114347621B

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202210040198.0

    申请日:2022-01-14

    Abstract: 本发明涉及一种聚酯光学基膜及其应用。该聚酯光学基膜包括依次层叠设置的第一聚酯表层、聚酯芯层以及第二聚酯表层,其中,第一聚酯表层和第二聚酯表层中还分布有粒径为50nm‑400nm的复合微球,复合微球包括无机粒子以及接枝于无机粒子表面的丙烯酸酯聚合物,丙烯酸酯聚合物的折光指数大于无机粒子的折光指数,且小于聚酯的折光指数,聚酯光学基膜的表面粗糙度为15nm‑50nm,该聚酯光学基膜具有低表面粗糙度,适用于片状多层陶瓷电容器离型膜或光学胶离型膜等低表面粗糙度的应用场景,另外,该聚酯光学基膜还保持优异的抗粘结性能、透光率以及外观性能。

    一种高耐温润滑性聚酯基膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114407474B

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN202210321023.7

    申请日:2022-03-30

    Abstract: 本发明涉及用于光学胶离型膜的聚酯基膜技术领域,公开了一种高耐温润滑性聚酯基膜及其制备方法,所述聚酯基膜分为三层,包括上表面层、下表面层和中间层;所述上表面层和下表面层均为A层;所述中间层为B层;所述A层按重量份计包括90~99份的嵌段共聚酯和1~10份的有机润滑粒子;所述B层按重量份计包括60~80份的聚对苯二甲酸乙二醇酯和20~40份的耐热聚酯。本发明可以增加聚酯基膜表层的柔性和润滑性,减少聚酯与聚酯之间、聚酯与辊面之间的接触面积,解决其在生产过程中基膜与辊面接触引起表面划伤,并且聚酯基膜具有较高的强度和耐高温性。

    薄膜纵向拉伸装置及薄膜纵向拉伸方法

    公开(公告)号:CN114536726A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202210176119.9

    申请日:2022-02-24

    Abstract: 本发明涉及一种薄膜纵向拉伸装置及薄膜纵向拉伸方法,薄膜纵向拉伸装置包括低速辊压组件及高速辊压组件,铸片依次低速辊压组件及高速辊压组件,并利用低速辊压组件与高速辊压组件之间的转速差纵向拉伸铸片;低速辊压组件及高速辊压组件均能够挤压铸片,以使铸片在低速辊压组件所在的位置及/或高速辊压组件所在的位置分别发生受限形变。本发明能够对铸片进行纵向自由拉伸和辊压形变,以使该铸片在形变受限的基础上进行纵向自由拉伸,以此提高铸片经由该薄膜纵向拉伸装置处理过后得到的薄膜厚度的均匀性和结晶分布的均匀性,进而解决了薄膜易翘曲变形的技术问题。

    一种高耐温润滑性聚酯基膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114407474A

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN202210321023.7

    申请日:2022-03-30

    Abstract: 本发明涉及用于光学胶离型膜的聚酯基膜技术领域,公开了一种高耐温润滑性聚酯基膜及其制备方法,所述聚酯基膜分为三层,包括上表面层、下表面层和中间层;所述上表面层和下表面层均为A层;所述中间层为B层;所述A层按重量份计包括90~99份的嵌段共聚酯和1~10份的有机润滑粒子;所述B层按重量份计包括60~80份的聚对苯二甲酸乙二醇酯和20~40份的耐热聚酯。本发明可以增加聚酯基膜表层的柔性和润滑性,减少聚酯与聚酯之间、聚酯与辊面之间的接触面积,解决其在生产过程中基膜与辊面接触引起表面划伤,并且聚酯基膜具有较高的强度和耐高温性。

    聚酯光学基膜及其应用

    公开(公告)号:CN114347621A

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202210040198.0

    申请日:2022-01-14

    Abstract: 本发明涉及一种聚酯光学基膜及其应用。该聚酯光学基膜包括依次层叠设置的第一聚酯表层、聚酯芯层以及第二聚酯表层,其中,第一聚酯表层和第二聚酯表层中还分布有粒径为50nm‑400nm的复合微球,复合微球包括无机粒子以及接枝于无机粒子表面的丙烯酸酯聚合物,丙烯酸酯聚合物的折光指数大于无机粒子的折光指数,且小于聚酯的折光指数,聚酯光学基膜的表面粗糙度为15nm‑50nm,该聚酯光学基膜具有低表面粗糙度,适用于片状多层陶瓷电容器离型膜或光学胶离型膜等低表面粗糙度的应用场景,另外,该聚酯光学基膜还保持优异的抗粘结性能、透光率以及外观性能。

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