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公开(公告)号:CN114613880B
公开(公告)日:2025-03-25
申请号:CN202210142701.3
申请日:2022-02-16
Abstract: 本发明属于光电探测技术领域,具体为一种具有高增益的二维光电探测器及其制备方法。该二维光电探测器基于MoS2、hBN、BP、WSe2垂直结构,具有光电流放大增益效果和宽谱响应。制备步骤包括:利用PDMS胶带机械剥离特定层数范围内的MoS2、hBN、BP、WSe2;再将剥离好的材料转移到表面沉积SiO2的Si衬底上,旋涂光刻胶,利用激光直写对光刻胶进行图形化;电子束蒸发得到金属电极;对残余光刻胶进行lift‑off;利用原子层沉积Al2O3对器件进行封装,制备得到具有光电流放大效果的宽光谱光电探测器。该光电探测器在抑制暗电流的同时对光电流信号进行放大,探测率高,响应度高,具有宽范围响应。
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公开(公告)号:CN116916733A
公开(公告)日:2023-10-20
申请号:CN202310805947.9
申请日:2023-07-03
Applicant: 复旦大学义乌研究院
Abstract: 本发明属于柔性传感电子制备技术领域,具体为一种高灵敏度二维异质结柔性压力传感器及其制备方法。本发明柔性压力传感器由柔性衬底、过渡金属硫化物、具有压电性质的二维半导体材料以及源电极和漏电极组成;二维压电材料置于TMD顶层与其形成异质结接触;源电极和漏电极与WSe2层形成欧姆接触。制备方法包括:通过干法转移技术将具有压电性质的二维半导体材料与WSe2材料组合,并转移至柔性基底;通过光刻技术在SiO2/Si衬底上制备金属电极,并转移至柔性基底,实现高灵敏度和良好耐久性的柔性压力传感器。本发明将二维压电材料的压电效应与TMD材料高迁移率的特征有效结合,器件在多次弯折后仍具有高灵敏度。
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公开(公告)号:CN116666469A
公开(公告)日:2023-08-29
申请号:CN202310374900.1
申请日:2023-04-10
IPC: H01L31/0392 , H01L31/0352 , H01L31/0336 , H01L31/111 , H01L31/18
Abstract: 本发明属于光电探测器技术领域,具体为一种宽光谱吸收的二维柔性光电探测器及其制备方法。本发明二维柔性光电探测器由自下至依次迭合的PET衬底、石墨烯吸收层、hBN接触层、BP吸收层、hBN接触层、WSe2吸收层、hBN接触层、WS2吸收层,以及源电极和漏电极组成;三个hBN接触层分别与石墨烯吸收层、BP吸收层、WSe2吸收层、WS2吸收层形成异质结接触;源电极和漏电极分别与石墨烯吸收层和WS2吸收层形成欧姆接触。本发明利用带隙不同的几种二维材料进行光吸收,实现全二维光电探测器的构建,并能实现宽光谱探测;凭借hBN超薄的厚度和无悬挂键的表面,可减少表面电荷陷阱,改善二维材料之间的接触;并在弯折条件下仍然能够实现光电探测。
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公开(公告)号:CN114628596B
公开(公告)日:2025-03-25
申请号:CN202210142702.8
申请日:2022-02-16
Abstract: 本发明属于柔性电子制备技术领域,具体为一种利用二维材料制备柔性光存储器件的方法。本发明方法包括:采用柔性材料作为衬底;在衬底上沉积一层氧化物材料;将二维半导体材料转移至衬底上;在二维材料两端形成金属电极;在整个器件上旋涂一层有机物;在有机物上转移一层二维BN材料;最后在BN材料上淀积一层ITO电极材料。与现有技术相比,本发明可以实现可擦除的光存储功能,同时,器件可随意弯曲折叠,在弯折后器件的电学性能保持不变,满足在某些光通讯和光存储下的应用需求。
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公开(公告)号:CN114628596A
公开(公告)日:2022-06-14
申请号:CN202210142702.8
申请日:2022-02-16
Abstract: 本发明属于柔性电子制备技术领域,具体为一种利用二维材料制备柔性光存储器件的方法。本发明方法包括:采用柔性材料作为衬底;在衬底上沉积一层氧化物材料;将二维半导体材料转移至衬底上;在二维材料两端形成金属电极;在整个器件上旋涂一层有机物;在有机物上转移一层二维BN材料;最后在BN材料上淀积一层ITO电极材料。与现有技术相比,本发明可以实现可擦除的光存储功能,同时,器件可随意弯曲折叠,在弯折后器件的电学性能保持不变,满足在某些光通讯和光存储下的应用需求。
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公开(公告)号:CN114613880A
公开(公告)日:2022-06-10
申请号:CN202210142701.3
申请日:2022-02-16
IPC: H01L31/18 , H01L31/0203 , H01L31/032 , H01L31/09 , H01L31/111
Abstract: 本发明属于光电探测技术领域,具体为一种具有高增益的二维光电探测器及其制备方法。该二维光电探测器基于MoS2、hBN、BP、WSe2垂直结构,具有光电流放大增益效果和宽谱响应。制备步骤包括:利用PDMS胶带机械剥离特定层数范围内的MoS2、hBN、BP、WSe2;再将剥离好的材料转移到表面沉积SiO2的Si衬底上,旋涂光刻胶,利用激光直写对光刻胶进行图形化;电子束蒸发得到金属电极;对残余光刻胶进行lift‑off;利用原子层沉积Al2O3对器件进行封装,制备得到具有光电流放大效果的宽光谱光电探测器。该光电探测器在抑制暗电流的同时对光电流信号进行放大,探测率高,响应度高,具有宽范围响应。
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