可降低写操作电压的非易失性存储元件及制造方法

    公开(公告)号:CN106299110A

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:CN201510319379.7

    申请日:2015-06-11

    Applicant: 复旦大学

    Inventor: 林殷茵 刘佩

    Abstract: 本发明属于非易失性存储器技术领域,提供了一种可降低写操作电压的非易失性存储元件及制造方法。本发明的非易失性存储元件,包括:倒锥状第一电极;存储介质层,其包括第一部分和第二部分,其中所述第一部分贴附在倒锥状第一电极的外侧面上,所述第二部分与所述倒锥状第一电极的外侧面非平行设置以至于与所述第一部分连接并形成夹角;以及第二电极,其形成在所述存储介质层的第一部分与第二部分之间形成的所述夹角的内侧。本发明的非易失性存储元件通过在第一电极和第二电极之间形成存储介质层的夹角结构,写操作电压得到降低且均匀,制备简单、成本低。

    一种非易失性存储元件及制造方法

    公开(公告)号:CN106298832A

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:CN201510319361.7

    申请日:2015-06-11

    Applicant: 复旦大学

    Inventor: 林殷茵 刘佩

    Abstract: 本发明属于非易失性存储器技术领域,提供了一种可降低写操作电压的非易失性存储元件及制造方法。本发明的非易失性存储元件,包括:倒锥状第一电极;存储介质层,其包括第一部分、第二部分和第三部分,其中所述第一部分贴附在倒锥状第一电极的外侧面上,所述第二部分与所述倒锥状第一电极的外侧面非平行设置以至于与所述第一部分的下端连接并形成第一夹角,所述第三部分与所述倒锥状第一电极的外侧面非平行设置以至于与所述第一部分的上端连接并形成第二夹角;第二电极,其形成在所述存储介质层的第一夹角和第二夹角上。本发明的非易失性存储元件通过在第一电极和第二电极之间形成存储介质层的夹角结构,写操作电压得到降低且均匀,制备简单、成本低。

    可降低写操作电压的非易失性存储元件及制造方法

    公开(公告)号:CN106299110B

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201510319379.7

    申请日:2015-06-11

    Applicant: 复旦大学

    Inventor: 林殷茵 刘佩

    Abstract: 本发明属于非易失性存储器技术领域,提供了一种可降低写操作电压的非易失性存储元件及制造方法。本发明的非易失性存储元件,包括:倒锥状第一电极;存储介质层,其包括第一部分和第二部分,其中所述第一部分贴附在倒锥状第一电极的外侧面上,所述第二部分与所述倒锥状第一电极的外侧面非平行设置以至于与所述第一部分连接并形成夹角;以及第二电极,其形成在所述存储介质层的第一部分与第二部分之间形成的所述夹角的内侧。本发明的非易失性存储元件通过在第一电极和第二电极之间形成存储介质层的夹角结构,写操作电压得到降低且均匀,制备简单、成本低。

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