公开(公告)号：CN110655843A

公开(公告)日：2020-01-07

申请号：CN201910835105.1

申请日：2019-09-05

Applicant: 哈尔滨工程大学

Inventor： 王君 ,  李亚坤 ,  陈蓉蓉 ,  张宏森 ,  刘琦 ,  于静 ,  刘婧媛 ,  宋大雷 ,  周锴文

IPC: C09D151/10 ,  C09D5/16 ,  C08F292/00 ,  C08F220/24 ,  C08F220/06 ,  B05D7/26

Abstract: 本发明提供的是一种C3N4光催化自抛光树脂基复合涂层材料的制备方法。一：利用硅烷偶联剂KH-570对C3N4改性，得产物a；二：将产物a与含氟丙烯酸酯单体、丙烯酸类单体和丙烯酸酯类单体通过自由基溶液聚合制备C3N4光催化自抛光树脂混合物，得产物b；三：将产物b进行超声分散处理，得到复合涂层材料。相比于常规自抛光涂层，含氟侧链可与水解官能团共同调节树脂基体水解速度，解决了光催化自抛光涂层寿命较短的问题；相比于常规C3N4涂层，树脂内部形成的疏水性相，解决了光催化剂随抛光脱落的树脂而流失的问题；水解后树脂的孔洞结构使得树脂内部的光催化剂与外界接触形成具有防污活性的自由基，提高了涂层的光催化效率。

公开(公告)号：CN110655843B

公开(公告)日：2021-04-20

申请号：CN201910835105.1

申请日：2019-09-05

Applicant: 哈尔滨工程大学

Inventor： 王君 ,  李亚坤 ,  陈蓉蓉 ,  张宏森 ,  刘琦 ,  于静 ,  刘婧媛 ,  宋大雷 ,  周锴文

IPC: C09D151/10 ,  C09D5/16 ,  C08F292/00 ,  C08F220/24 ,  C08F220/06 ,  B05D7/26

Abstract: 本发明提供的是一种C3N4光催化自抛光树脂基复合涂层材料的制备方法。一：利用硅烷偶联剂KH‑570对C3N4改性，得产物a；二：将产物a与含氟丙烯酸酯单体、丙烯酸类单体和丙烯酸酯类单体通过自由基溶液聚合制备C3N4光催化自抛光树脂混合物，得产物b；三：将产物b进行超声分散处理，得到复合涂层材料。相比于常规自抛光涂层，含氟侧链可与水解官能团共同调节树脂基体水解速度，解决了光催化自抛光涂层寿命较短的问题；相比于常规C3N4涂层，树脂内部形成的疏水性相，解决了光催化剂随抛光脱落的树脂而流失的问题；水解后树脂的孔洞结构使得树脂内部的光催化剂与外界接触形成具有防污活性的自由基，提高了涂层的光催化效率。