-
公开(公告)号:CN115477303B
公开(公告)日:2024-03-29
申请号:CN202110667396.5
申请日:2021-06-16
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C01B32/90
Abstract: 本发明公开了一种制备薄层分散二维MXenes材料的方法,属于层状材料制备技术领域。本发明解决了现有手风琴状MXenes内部的层片交联问题。本发明首先采用氢氟酸对前驱体MAX进行第一次刻蚀,去除MAX中的绝大部分M‑A金属键,获得了较为完整的经典手风琴状,然后采用刻蚀液对手风琴状Mxenes进行二次刻蚀,使刻蚀液中HF继续与手风琴状MXenes中残留的M‑A键发生反应,经过二次刻蚀后的手风琴状MXenes层片交联程度大大下降,厚度更薄,层间距更大,并且保证了结构的完整性,经过插层处理后的MXenes在短时间的超声震荡作用下从手风琴状结构上脱落,获得独立分散的薄层Mxenes纳米片。
-
公开(公告)号:CN115477303A
公开(公告)日:2022-12-16
申请号:CN202110667396.5
申请日:2021-06-16
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C01B32/90
Abstract: 本发明公开了一种制备薄层分散二维MXenes材料的方法,属于层状材料制备技术领域。本发明解决了现有手风琴状MXenes内部的层片交联问题。本发明首先采用氢氟酸对前驱体MAX进行第一次刻蚀,去除MAX中的绝大部分M‑A金属键,获得了较为完整的经典手风琴状,然后采用刻蚀液对手风琴状Mxenes进行二次刻蚀,使刻蚀液中HF继续与手风琴状MXenes中残留的M‑A键发生反应,经过二次刻蚀后的手风琴状MXenes层片交联程度大大下降,厚度更薄,层间距更大,并且保证了结构的完整性,经过插层处理后的MXenes在短时间的超声震荡作用下从手风琴状结构上脱落,获得独立分散的薄层Mxenes纳米片。
-