公开(公告)号：CN112246272A

公开(公告)日：2021-01-22

申请号：CN202011152023.6

申请日：2020-10-23

Applicant: 南京林业大学

Inventor： 邢伟男 ,  张亭亭 ,  邹景卉 ,  张玉婧 ,  熊若帆 ,  徐洲洲 ,  肖雅楠 ,  贺伟 ,  吴光瑜 ,  韩建刚 ,  李萍萍

IPC: B01J27/24 ,  B01J37/08 ,  C02F1/30 ,  C02F101/30

Abstract: 本发明公开了一种具有缺陷g‑C3N4纳米片光催化剂的制备方法，属于半导体光催化材料制备的技术领域。该方法包括以下步骤：1)称取三聚氰胺，放置于坩埚中，在马弗炉中升温煅烧，500‑580℃煅烧1‑6h，冷却至室温，研磨成粉末；2)取步骤1)获得的粉末样品，放置于磁舟中，在马弗炉中再次升温煅烧，480‑620℃煅烧1‑6h，冷却至室温，研磨成粉末，得到具有缺陷g‑C3N4纳米片光催化剂。本申请通过调控温度将块状g‑C3N4剥离为纳米片并构建缺陷，使其具有更高的光催化性能。制备方法操作简单，重复性高，制备得到的具有缺陷的g‑C3N4纳米片光催化剂对于染料、抗生素的降解都表现出了较高的降解活性。