一种射流抛光自清洗装置

    公开(公告)号:CN106863143A

    公开(公告)日:2017-06-20

    申请号:CN201710185423.9

    申请日:2017-03-25

    CPC classification number: B24C3/02 B08B3/02 B24C9/00

    Abstract: 本发明涉及抛光机技术领域,公开了一种射流抛光自清洗装置,包括溶液存储罐、隔膜泵、收集箱、管路、磨料射流喷头、去离子水喷头、二位三通阀、清洗压力泵和去离子水存储罐;所述溶液存储罐内盛放磨料射流溶液,收集箱设置在溶液存储罐上方;工件设置在收集箱内,并与收集箱的入口位置相对应,所述收集箱的出口通过二位三通阀与溶液存储罐连通;所述隔膜泵也与溶液存储罐连通,并通过管路连接磨料射流喷头;所述去离子水存储罐内盛放去离子水,所述清洗压力泵与去离子水存储罐连通,也通过管路连接去离子水喷头。本发明有效地解决了实验后磨料颗粒沉积在工件上影响产品质量的问题,而且装置整体结构简单、成本低、清洗效果好且操作简便。

    一种射流抛光自清洗装置

    公开(公告)号:CN206622989U

    公开(公告)日:2017-11-10

    申请号:CN201720298520.4

    申请日:2017-03-25

    Abstract: 本实用新型涉及抛光机技术领域,公开了一种射流抛光自清洗装置,包括溶液存储罐、隔膜泵、收集箱、管路、磨料射流喷头、去离子水喷头、二位三通阀、清洗压力泵和去离子水存储罐;所述溶液存储罐内盛放磨料射流溶液,收集箱设置在溶液存储罐上方;工件设置在收集箱内,并与收集箱的入口位置相对应,所述收集箱的出口通过二位三通阀与溶液存储罐连通;所述隔膜泵也与溶液存储罐连通,并通过管路连接磨料射流喷头;所述去离子水存储罐内盛放去离子水,所述清洗压力泵与去离子水存储罐连通,也通过管路连接去离子水喷头。本实用新型有效地解决了实验后磨料颗粒沉积在工件上影响产品质量的问题,而且装置整体结构简单、成本低、清洗效果好且操作简便。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    智能矫正鞋垫加工装置
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207965612U

    公开(公告)日:2018-10-12

    申请号:CN201820348985.0

    申请日:2018-03-14

    Abstract: 本实用新型公开了一种智能矫正鞋垫加工装置,包括:前端扫描装置,前端扫描装置通过实时动态捕捉装置扫描人体足底形貌并获得足底形貌的点云数据;数据处理模块,数据处理模块对点云数据进行预处理和特征识别;模型建立模块,模型建立模块根据数据处理模块处理后的数据进行建模;制作加工装置,制作加工装置根据模型建立模块建立的模型加工矫正鞋垫。本实用新型的智能矫正鞋垫加工装置,有效地解决了矫正鞋垫定制过程复杂、制作周期长的问题,操作简单,提高了矫正鞋垫的定制效率,降低了生产成本;且制作加工单元工作时,刀具可自动从四个维度对毛坯材料进行加工,提高了矫正鞋垫的加工精度,实现了加工流程无人化。

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