公开(公告)号：CN102212778A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN201110083128.5

申请日：2011-04-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中川善之 ,  吉田正典 ,  増田正道 ,  大山淳史 ,  小金井昭雄 ,  宫町尚利 ,  山口裕人 ,  唐木哲也 ,  浮贺谷信贵 ,  吉川俊明

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H05B33/10

CPC classification number: C23C14/042

Abstract: 本申请涉及蒸发设备，该蒸发设备减少掩模的变形、提高基板与蒸发掩模之间的附着性并且提高划分要形成膜的区域和不形成膜的区域的精度。该蒸发设备包括用于使设置在包括磁材料的蒸发掩模上的膜形成基板压靠蒸发掩模的施压机构。该施压机构包括用于将掩模至少吸引向膜形成基板的角部的磁体。

公开(公告)号：CN117903628A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202311348027.5

申请日：2023-10-18

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 栗山朗 ,  相川嘉秀 ,  吉田正典 ,  主代和也

IPC: C09D11/322 ,  B41J2/01

Abstract: 本发明涉及水性墨、成套墨、喷墨记录方法和喷墨记录设备。提供了可以记录实现高耐磨损性和高显色性二者的图像的水性墨。该水性墨为包括着色材料和树脂颗粒的喷墨用水性墨。用于形成树脂颗粒的树脂包括具有芳香族基团的单元、具有氰基的单元、源自具有支链烷基的(甲基)丙烯酸酯的单元和由以下通式(1)表示的单元。在以下通式(1)中，"n"表示重复单元的数量，R1表示烷基并且E表示环氧乙烷基的重复单元的数量且满足E≥1，#imgabs0#