一种对温度测量系统进行全系统宽低温综合校准的设备

    公开(公告)号:CN113049145A

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202110332037.4

    申请日:2021-03-29

    Abstract: 本发明提供了一种对温度测量系统进行全系统宽低温综合校准的设备,校准温度范围77K到323K,采用制冷机制冷和加热器加热综合控温方式,隔热校准腔采用三层结构,中层外层真空隔热,内层作为校准温度源,放置传感器安装铜座,通过充氦实现温度场快速均匀。在校准过程中,温度传感器带线缆穿过密封座后,置于校准腔内的传感器安装铜座内,然后对导线实行密封,中外层抽真空隔热,内层充氦。准备就绪后,在测控机柜控制下,自动按照校准流程实施制冷机和加热器校准腔温度控制,达到校准目标温度值后,温度测量系统采集校准温度点的电流或电压值。按流程所有校准点完成后进行校准曲线拟合,得到温度测量系统测量范围内的校准曲线。

    一种对温度测量系统进行全系统宽低温综合校准的设备

    公开(公告)号:CN113049145B

    公开(公告)日:2022-01-28

    申请号:CN202110332037.4

    申请日:2021-03-29

    Abstract: 本发明提供了一种对温度测量系统进行全系统宽低温综合校准的设备,校准温度范围77K到323K,采用制冷机制冷和加热器加热综合控温方式,隔热校准腔采用三层结构,中层外层真空隔热,内层作为校准温度源,放置传感器安装铜座,通过充氦实现温度场快速均匀。在校准过程中,温度传感器带线缆穿过密封座后,置于校准腔内的传感器安装铜座内,然后对导线实行密封,中外层抽真空隔热,内层充氦。准备就绪后,在测控机柜控制下,自动按照校准流程实施制冷机和加热器校准腔温度控制,达到校准目标温度值后,温度测量系统采集校准温度点的电流或电压值。按流程所有校准点完成后进行校准曲线拟合,得到温度测量系统测量范围内的校准曲线。

    基于辐射光谱及红外成像的等离子体探针阵列校准方法

    公开(公告)号:CN118829059A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410877286.5

    申请日:2024-07-02

    Abstract: 本发明为等离子体探针校准领域,提供基于辐射光谱及红外成像的等离子体探针阵列校准方法。测量探针阵列的表面温度,使用探针阵列测量稳定运行的霍尔推进器的羽流参数,得到此时探针阵列收集到的伏安特性曲线。再使用红外成像仪测量探针阵列的表面温度,得到探针受轰击加热的温度差。结合探针表面的二次电子发射系数,便计算出二次电流值。结合探针本身测量得到的离子电流值,对电子电流值进行修正,得到真实的伏安特性曲线,计算出准确的电子温度密度。使用光谱仪通过光谱测量此时的电子温度电子密度,与修改后的探针测量的电子温度电子密度进行对比,实现对等离子体探针阵列进行校准。用以解决探针测量结果缺乏校准,准确度难以评定的问题。

    一种等离子体侵蚀痕量产物在线监测装置及方法

    公开(公告)号:CN117420083B

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202311743392.6

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 一种等离子体侵蚀痕量产物在线监测装置及方法,涉及等离子体光谱测试技术领域,解决的技术问题为“如何进行等离子体推进器工部件侵蚀痕量产物监测”,该装置包括金属屏蔽罩,以及设置于所述金属屏蔽罩内部的第一凸透镜、第一反射镜、分光棱镜、第二凸透镜、光栅以及第二反射镜,以及设置于所述金属屏蔽罩外部的光电倍增管和分析处理设备;所述金属屏蔽罩侧壁上固定有入射光狭缝和出射光狭缝,所述出射光狭缝与所述光电倍增管连接,所述光电倍增管与所述分析处理设备连接;该装置及方法设计了光谱仪设备对痕量产物谱线光强进行监测,建立痕量物质辐射谱线强度和光强信号波动关系,以获得痕量产物绝对密度,可靠性高,监测灵敏。

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