公开(公告)号：CN100545213C

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200480030614.9

申请日：2004-10-14

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 吉冈正裕 ,  长瀬亮 ,  辻井正也 ,  江口益市

IPC: C08L101/00 ,  C08L33/06 ,  C08L79/08 ,  C08K3/28 ,  G02B5/20

CPC classification number: C09D133/06 ,  G02B5/201 ,  Y10T428/10

Abstract: 本发明公开了一种黑色被膜组合物，其可以提供迄今为止只能用金属薄膜黑矩阵才能实现的高OD值、且高粘结性的树脂黑矩阵。该黑色被膜组合物，含有钛酸氮化物、树脂和溶剂作为必须成分，在设以CuKα射线作为X射线源的情况下，钛酸氮化物的衍射角2θ为25°～26°时的最大衍射线强度为I1，衍射角2θ为27°～28°时的最大衍射线强度为I2，衍射角2θ为36°～38°时的最大衍射线强度为I3时，下述式(1)和式(2)所示的X射线强度比R1和R2分别具有下述式(3)和式(4)的关系：R1＝I3/{I3+1.8(I1+1.8I2)} (1)，R2＝I2/I1(2)，R1＞0.70 (3)，0.85＜R2＜1.80 (4)。

公开(公告)号：CN1867636A

公开(公告)日：2006-11-22

申请号：CN200480030614.9

申请日：2004-10-14

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 吉冈正裕 ,  长瀬亮 ,  辻井正也 ,  江口益市

IPC: C08L101/00 ,  C08L33/06 ,  C08L79/08 ,  C08K3/28 ,  G02B5/20

CPC classification number: C09D133/06 ,  G02B5/201 ,  Y10T428/10

Abstract: 本发明公开了一种黑色被膜组合物，其可以提供迄今为止只能用金属薄膜黑矩阵才能实现的高OD值、且高粘结性的树脂黑矩阵。该黑色被膜组合物，含有钛酸氮化物、树脂和溶剂作为必须成分，在设以CuKα射线作为X射线源的情况下，钛酸氮化物的衍射角2θ为25°～26°时的最大衍射线强度为I1，衍射角2θ为27°～28°时的最大衍射线强度为I2，衍射角2θ为36°～38°时的最大衍射线强度为I3时，下述式(1)和式(2)所示的X射线强度比R1和R2分别具有下述式(3)和式(4)的关系：R1＝I3/{I3+1.8(I1+1.8I2)} (1)R2＝I2/I1(2)R1＞0.70 (3)0.85＜R2＜1.80 (4)。