研磨垫
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103648717A

    公开(公告)日:2014-03-19

    申请号:CN201280034910.0

    申请日:2012-07-12

    CPC classification number: B24B37/26 B24B37/22

    Abstract: 一种研磨垫,是至少具有研磨层和缓冲层的研磨垫,其特征在于,上述研磨层在研磨面具备槽,该槽具有侧面和底面,上述侧面的至少一方由第一侧面和第二侧面构成,第一侧面与上述研磨面连续,且与上述研磨面所成的角度为α,第二侧面与该第一侧面连续,且与平行于上述研磨面的面所成的角度为β,与上述研磨面所成的角度α大于90度,与平行于上述研磨面的面所成的角度β为85度以上,并且与平行于上述研磨面的面所成的角度β比与上述研磨面所成的角度α更小,从上述研磨面到上述第一侧面与上述第二侧面的曲折点为止的曲折点深度为0.4mm以上、3.0mm以下,上述缓冲层的应变常数为7.3×10-6μm/Pa以上、4.4×10-4μm/Pa以下。

    研磨垫
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103347652A

    公开(公告)日:2013-10-09

    申请号:CN201280008992.1

    申请日:2012-02-08

    CPC classification number: B24B37/26 B24B37/22

    Abstract: 一种至少具有研磨层和垫层的研磨垫,在其研磨面上具有槽;研磨面和上述槽的与研磨面连续的侧面所成的角度的至少一方为105度以上、150度以下,上述垫层的应变常数为7.3×10-6μm/Pa以上、4.4×10-4μm/Pa以下;通过使用这样的研磨垫,能够解决在保持较高的研磨速率的同时抑制研磨速率的变动的课题。

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