公开(公告)号：CN1933920A

公开(公告)日：2007-03-21

申请号：CN200580009576.3

申请日：2005-03-17

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 梶野佳范 ,  小林裕史 ,  铃木哲男 ,  久保善彦 ,  和田修

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/00 ,  B05D1/26 ,  B05D3/00

CPC classification number: B05C11/10 ,  B05C5/0254 ,  B05D1/26 ,  G02F1/133516

Abstract: 提供一种不仅可抑制吐出波动，得到膜厚均匀性良好的薄膜涂膜，而且吐出应答性优良的涂覆方法以及涂覆装置。在涂液供给装置(例如液压泵3)到涂覆装置(例如喷嘴6)之间，设置缓冲吐出波动的部件(部位5)。由液压泵产生的吐出波动，利用配置于波动缓冲部位5的内部的缓冲波动的部件5a的体积变动而被缓冲，从而从墨菊喷嘴得到被抑制了波动的定量吐出。

公开(公告)号：CN118055809A

公开(公告)日：2024-05-17

申请号：CN202280066978.0

申请日：2022-10-05

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 伊藤大修 ,  和田修

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/10

Abstract: 本发明的课题在于即使在涂布含有容易沉淀的导电性粒子的树脂组合物的情况下也能够将由涂液形成的涂膜在基板上高精度而且高速地形成，提出一种口模，该口模至少具备供涂液导入的涂液导入口、供所述涂液吐出的涂液吐出口及将所述涂液导入口和涂液吐出口连通的口模内配管，其特征在于，从包含所述涂液吐出口的中心的水平面到所述涂液导入口的中心为止的距离T1、与所述水平面与所述口模内配管内的位置中的距所述水平面最远的位置(将该位置称作“位置A”)之间的距离T2的关系是T2>T1。