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公开(公告)号：CN116568392A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202280007796.6
申请日：2022-01-28
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: B01J19/08
Abstract: 本发明提供一种能够在基板表面形成高密度的自组装单分子膜的层积体制造装置。具体而言，层积体制造装置具备：真空腔，其容纳基板；气体导入口，其向真空腔内导入气体；以及等离子体产生部，其在真空腔内形成等离子体气氛，该层积体制造装置构成为具有下述模式：表面亲水化模式，在向真空腔内供给了赋予亲水性基团的蒸发源的状态下，利用由等离子体产生部形成的等离子体气氛对基板的膜形成面进行改性，使该膜形成面亲水化；以及自组装模式，在真空腔内为在真空中、供给有促进自组装单分子膜的前体材料的水解的蒸发源的状态下，对膜形成面被亲水化了的基板供给自组装单分子膜的前体材料的蒸发源，从而在亲水化的膜形成面上形成自组装单分子膜。
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