公开(公告)号：CN104245154A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201380021575.5

申请日：2013-03-08

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 友枝哲 ,  本田显真 ,  喜多由起

IPC: B05C13/02 ,  B05C9/10 ,  B05D1/26 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

CPC classification number: B05B13/0478 ,  G02B5/201

Abstract: 提供能够高精度地向涂布对象的排列发生歪曲的基板喷出液滴的涂布装置以及涂布方法。具体而言，在涂布装置(1)中，在基板保持部(7)保持住基板(W)的状态下，进行使涂布单元(21)和基板保持部(7)沿特定的扫描方向进行相对移动，同时使涂布单元(21)向基板(W)上的涂布对象(G)涂布涂布液的扫描动作，基板保持部(7)的把持单元把持基板(W)的同时使该基板移动，从而将基板(W)拉伸变形，在进行了基板(W)上的涂布对象(G)的排列的矫正后，进行扫描动作，在涂布对象(G)的排列的矫正中，连接规定的喷嘴(22)在1次扫描动作的涂布开始点进行涂布的涂布对象(G)的位置与该喷嘴(22)在涂布结束点进行涂布的涂布对象(G)的位置的线段的方向与涂布单元(21)的扫描方向平行。

公开(公告)号：CN104245154B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201380021575.5

申请日：2013-03-08

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 友枝哲 ,  本田显真 ,  喜多由起

IPC: B05C13/02 ,  B05C9/10 ,  B05D1/26 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

CPC classification number: B05B13/0478 ,  G02B5/201

Abstract: 提供能够高精度地向涂布对象的排列发生歪曲的基板喷出液滴的涂布装置以及涂布方法。具体而言，在涂布装置中，在基板保持部保持住基板的状态下，进行使涂布单元和基板保持部沿特定的扫描方向进行相对移动，同时使涂布单元向基板上的涂布对象涂布涂布液的扫描动作，基板保持部的把持单元把持基板的同时使该基板移动，从而将基板拉伸变形，在进行了基板上的涂布对象的排列的矫正后，进行扫描动作，在涂布对象的排列的矫正中，连接规定的喷嘴在1次扫描动作的涂布开始点进行涂布的涂布对象的位置与该喷嘴在涂布结束点进行涂布的涂布对象的位置的线段的方向与涂布单元的扫描方向平行。