公开(公告)号：CN119492516A

公开(公告)日：2025-02-21

申请号：CN202410900504.2

申请日：2024-07-05

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴艺恩 ,  李昇祐 ,  金泰重 ,  安晋佑 ,  郑西砚 ,  赵泰英

IPC: G01M11/02

Abstract: 一种光学测量系统包括：半球形镜，其包括平面部分和在平面部分中具有半球形凹陷形状的球形部分。在球形部分中，形成有具有与球形部分的其余部分不同的反射率的纬度标记。该系统包括具有物镜和至少一个分束器的光学单元。光学单元将从半球形镜反射的光通过物镜传输到第一传感器。控制器通过将半球形镜对准在物镜的焦点处、检测物镜的其中纬度标记表现为较暗的圆形线的后焦图像、以及对该图像执行计算，来测量物镜的数值孔径。

公开(公告)号：CN118057586A

公开(公告)日：2024-05-21

申请号：CN202311022135.3

申请日：2023-08-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李昇祐 ,  安晋佑 ,  金泰重 ,  李明俊

IPC: H01L21/66 ,  G01N21/95 ,  G01N21/88 ,  G01N21/01

Abstract: 提供了光瞳图像测量装置，所述光瞳图像测量装置包括：光源，被配置为生成并输出光；载物台，测量目标加载到载物台上；光学系统，被配置为将从光源输出的光透射到测量目标；检测器，被配置为检测从测量目标反射的光；以及空间光分布控制器，被配置为：针对空间光分布控制器的多个空间中的每个空间，调整从光源输出的光或从测量目标反射的光的强度或量，其中，空间光分布控制器设置在光瞳平面上。

公开(公告)号：CN116430669A

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202211655943.9

申请日：2022-12-22

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 崔佳滥 ,  金泰重 ,  罗志勋 ,  崔昌勋

IPC: G03F1/84

Abstract: 一种EUV光掩模检查设备，包括：多个光学系统，其分别在包括EUV光掩模和EUV光掩模上的表膜的掩模结构中形成不同的共焦点。多个光学系统中的第一光学系统包括：第一光源，其发射具有可见光范围内的波长的第一光；分束器，其透射或反射第一光；物镜，其被配置为允许第一光穿过掩模结构的至少一部分，以在掩模结构中形成第一焦点；第一光检测器，其被配置为检测通过入射的第一光从掩模结构反射的第一反射光，以及针孔板，其在第一光源前方。第一光检测器具有包括PMT和APD的检测模块和热电冷却模块。