半导体激光二极管及其制造方法

    公开(公告)号:CN1412900A

    公开(公告)日:2003-04-23

    申请号:CN02140960.9

    申请日:2002-07-11

    Inventor: 金泰根 南玉铉

    Abstract: 本发明涉及一种半导体激光二极管及其制造方法。该半导体激光二极管包括基材,形成于基材两侧的掩膜,形成于掩膜之间的基材上的发光层,分别形成于掩膜上的阻流层,分别形成于基材底表面和发光层顶表面的第一和第二电极。发光层和阻流层通过单次生长同时形成,并且阻流层将电流和光限制在发光层的横向上。由此,可以简化半导体激光二极管的制造方法,并且可以降低激光振荡的阈值电流。

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